[發(fā)明專利]一種雙鋁隔熱遮陽(yáng)膜及其制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210581403.4 | 申請(qǐng)日: | 2022-05-26 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN115011271A | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-09-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 柯秋平 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 九江力達(dá)科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C09J7/29 | 分類號(hào): | C09J7/29;C08J7/046;C08L67/02;C23C14/00;C23C14/08;C23C14/16;C23C14/18;C23C14/35 |
| 代理公司: | 深圳博敖專利代理事務(wù)所(普通合伙) 44884 | 代理人: | 趙逸蔓 |
| 地址: | 332005 江西省九江市*** | 國(guó)省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 隔熱 遮陽(yáng) 及其 制備 方法 | ||
1.一種雙鋁隔熱遮陽(yáng)膜,其特征在于:該雙鋁隔熱遮陽(yáng)膜自上而下由離型膜層、第一安裝膠層、第一基材層、雙鋁層、第二安裝膠層、第二基材層和耐刮層依序疊加覆合而成,所述雙鋁層自上而下由第一折射層、第一金屬氧化物層、第一鋁合金層、第一阻隔層、第二折射層、第二金屬氧化物層、第二鋁合金層、第二阻隔層和第三折射層依序疊加覆合而成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙鋁隔熱遮陽(yáng)膜,其特征在于,所述離型膜層的厚度為10~200um,所述第一安裝膠層的厚度為2~15um,所述第一基材層的厚度為10~200um,所述第二安裝膠層的厚度為3~5um,所述第二基材層的厚度為16~150um,所述耐刮層的厚度為1~15um;
所述第一折射層的厚度為30~40um,所述第一金屬氧化物層的厚度為2~7um,所述第一鋁合金層的厚度為8~12um,所述第一阻隔層的厚度為0.2~0.45um,所述第二折射層的厚度為65~72um,所述第二金屬氧化物層的厚度為5~9um,所述第二鋁合金層的厚度為8~12um,所述第二阻隔層的厚度為0.22~0.45um,所述第三折射層的厚度為25~40um。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙鋁隔熱遮陽(yáng)膜,其特征在于,所述第一安裝膠層、和第二安裝膠層均為丙烯酸酯壓敏膠層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙鋁隔熱遮陽(yáng)膜,其特征在于,所述離型膜層、第一基材層和第二基材層的材料均為PET,可見(jiàn)光波段的透過(guò)率≥88%。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙鋁隔熱遮陽(yáng)膜,其特征在于,所述第一折射層,第二折射層和第三折射層的材料均為五氧化二鉭,折射率為2.28。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙鋁隔熱遮陽(yáng)膜,其特征在于,所述第一金屬氧化物層和第二金屬氧化物層的材料均為ITO,折射率為2.02。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙鋁隔熱遮陽(yáng)膜,其特征在于,所述第一阻隔層和第二阻隔層的材料均為鉻。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙鋁隔熱遮陽(yáng)膜,其特征在于,所述耐刮層的材料為改性聚氨酯,硬度為4H。
9.一種雙鋁隔熱遮陽(yáng)膜的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟S10,通過(guò)涂布工藝在第一基材層的一表面上涂布安裝膠,形成第一安裝膠層,并在第一安裝膠層的表面上復(fù)合一層離型膜,形成離型膜層;
步驟S11,在第一基材層的另一表面上,通過(guò)磁控濺射工藝逐層濺射第一折射材料、第一金屬氧化物、第一鋁合金、第一阻隔材料、第二折射材料、第二金屬氧化物、第二鋁合金、第二阻隔材料和第三折射材料,即依序形成第一折射層、第一金屬氧化物層、第一鋁合金層、第一阻隔層、第二折射層、第二金屬氧化物層、第二鋁合金層、第二阻隔層、第三折射層;
步驟S12,通過(guò)涂布工藝在第三折射層的表面上涂布安裝膠,形成第二安裝膠層,并在第二安裝膠層的表面上貼合一層PET,形成第二基材層;
步驟S13,通過(guò)涂布工藝在第二基材層的另一表面上涂布一層耐刮涂層,形成耐刮層。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的雙鋁隔熱遮陽(yáng)膜的制備方法,其特征在于,磁控濺射沉積鍍膜時(shí),腔室內(nèi)的溫度恒定,溫度范圍為-15℃~20℃;
腔室中通入體積比為5:1~50:1的氬氣和氧氣的混合氣體,設(shè)定濺射真空度為10-6Torr,鍍膜的穩(wěn)定氣壓為10-3Torr;
雙旋轉(zhuǎn)陰極、中頻反應(yīng)磁控濺射的功率為10KW~20KW;
單旋轉(zhuǎn)陰極、直流反應(yīng)磁控濺射的功率為0.3KW~2.5KW。
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