[發(fā)明專利]一種高效的研磨液及其制備方法和應(yīng)用在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210580883.2 | 申請(qǐng)日: | 2022-05-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN114958302A | 公開(公告)日: | 2022-08-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鄧中華;鄭連彬 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 珠海戴蒙斯科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C09K3/14 | 分類號(hào): | C09K3/14 |
| 代理公司: | 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 44205 | 代理人: | 林坤華 |
| 地址: | 519000 廣東省珠海市斗門*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 高效 研磨 及其 制備 方法 應(yīng)用 | ||
本發(fā)明屬于研磨液技術(shù)領(lǐng)域,提供了一種高效的研磨液及其制備方法和應(yīng)用,本發(fā)明通過采用含有多元醇的主溶劑、陽(yáng)離子化合物作為研磨液的主要液體組分,借助同性電荷之間的斥力提高磨料間的排斥力的效果,改善磨料的分散效果,工作時(shí),有助于提升磨粒在體系中的作用時(shí)間,本發(fā)明的研磨液的研磨效率高,本發(fā)明的材料移除量相對(duì)于常規(guī)的研磨液體系提升至少18.78%,且可以保證表面粗糙度在15?25nm的納米級(jí)范圍內(nèi),本發(fā)明先將主溶劑的pH值調(diào)節(jié)至4?8,然后依次加入陽(yáng)離子化合物和磨料制得研磨液,本發(fā)明的制備方法簡(jiǎn)便易操作,所制得的研磨液均勻穩(wěn)定。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及研磨液技術(shù)領(lǐng)域,更具體地,涉及一種高效的研磨液及其制備方法和應(yīng)用。
背景技術(shù)
藍(lán)寶石材料,硬度僅次于金剛石,具有很好的強(qiáng)度和優(yōu)異的耐刮擦性能,同時(shí)具有良好的光學(xué)性能,因此在電子消費(fèi)市場(chǎng)和可穿戴設(shè)備市場(chǎng)有著廣闊的應(yīng)用前景。但是,藍(lán)寶石材料的加工過程,一般經(jīng)過粗磨和精磨工序、CMP(化學(xué)機(jī)械研磨)工序,粗磨或精磨工序作為CMP工序的前工序,要求在控制好表面粗糙度(目前基本要求表面粗糙度值Ra10nm)的同時(shí),盡可能提升材料移除量,以提升工作效率,提升產(chǎn)能,降低成本,但是由于藍(lán)寶石材料硬度高,目前的加工工藝中的粗磨和精磨工序的材料移除量小,研磨效率低,因此,亟需開發(fā)一種高效的研磨液,在控制表面粗糙度的同時(shí),提升藍(lán)寶石的加工工藝中粗磨和精磨工序的研磨效率。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明旨在至少解決上述現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一。為此,本發(fā)明提出一種高效的研磨液及其制備方法和應(yīng)用,本發(fā)明提供的研磨液能夠提高材料移除量,可以應(yīng)用于粗磨和精磨工序中,在控制表面粗糙度的同時(shí),提高材料的研磨效率,材料移除量相對(duì)于常規(guī)的研磨液體系提升至少18.78%,且可以保證表面粗糙度在15-25nm的納米級(jí)范圍內(nèi)。
本發(fā)明的第一方面提供一種高效的研磨液。
具體地,一種高效的研磨液,包括液體組分和磨料;
所述液體組分包括主溶劑和陽(yáng)離子化合物;
所述主溶劑包括多元醇;
所述主溶劑中多元醇的質(zhì)量為研磨液總質(zhì)量的70%以上;
所述陽(yáng)離子化合物的質(zhì)量為研磨液總質(zhì)量的0.15-15wt%;
所述磨料的平均粒徑大于1Mic,小于等于100Mic。
本發(fā)明采用主溶劑、陽(yáng)離子化合物作為研磨液的液體組分,主溶劑中含有多元醇,為堿性體系,與磨料共同制得的研磨液,由于本發(fā)明采用的磨料粒徑達(dá)到微米級(jí),在體系中難以分散,因此本發(fā)明添加了陽(yáng)離子化合物,磨料和陽(yáng)離子化合物具有相同的正電荷,磨料和陽(yáng)離子化合物不會(huì)發(fā)生電荷中和,陽(yáng)離子化合物可以作為增效劑,提升電荷的密度,陽(yáng)離子化合物提供了強(qiáng)電荷靜力,提升了磨料間的排斥力,改善了磨料的分散效果,可借助同性電荷之間的斥力達(dá)到提高磨料間的排斥力的效果,工作時(shí),有助于延長(zhǎng)磨粒在體系中的作用時(shí)間,從而提高研磨效率。
優(yōu)選地,所述陽(yáng)離子化合物為季銨鹽、叔胺鹽、銨鹽、堿金屬鹽、堿土金屬鹽中的一種或幾種。
更優(yōu)選地,所述陽(yáng)離子化合物為季銨鹽和/或叔胺鹽。季銨鹽和叔胺鹽作為一種強(qiáng)陽(yáng)離子化合物,可作為理想的增效劑。
優(yōu)選地,所述季銨鹽為聚季銨鹽-10。
優(yōu)選地,所述陽(yáng)離子化合物的質(zhì)量為研磨液總質(zhì)量的0.15-10wt%。
優(yōu)選地,所述主溶劑的質(zhì)量為研磨液總質(zhì)量的70-99wt%;
優(yōu)選地,所述磨料的平均粒徑為1-80Mic。
優(yōu)選地,所述主溶劑中多元醇的質(zhì)量為研磨液總質(zhì)量的80%以上。
優(yōu)選地,所述主溶劑還含有水。
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