[發(fā)明專(zhuān)利]一種對(duì)稱(chēng)型超表面光學(xué)器件在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210579614.4 | 申請(qǐng)日： | 2022-05-25 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN114966915A | 公開(kāi)（公告）日： | 2022-08-30 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 孫磊;邱兵 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 天津山河光電科技有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | G02B3/00 | 分類(lèi)號(hào)： | G02B3/00 |
| 代理公司： | 北京墨丘知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11878 | 代理人： | 唐忠仙 |
| 地址： | 300450 天津市濱海新區(qū)經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)*** | 國(guó)省代碼： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 對(duì)稱(chēng) 表面 光學(xué) 器件 | ||
1.一種對(duì)稱(chēng)型超表面光學(xué)器件，其特征在于，
所述對(duì)稱(chēng)型超表面光學(xué)器件包括：襯底和對(duì)稱(chēng)設(shè)置在所述襯底端面之上的多個(gè)納米柱，其中，所述多個(gè)納米柱的光學(xué)屬性不同；
所述多個(gè)納米柱的對(duì)稱(chēng)中心與所述襯底的中心重合時(shí)，所述多個(gè)納米柱中相同光學(xué)屬性的納米柱非均勻?qū)ΨQ(chēng)分布；或者，
所述多個(gè)納米柱中相同光學(xué)屬性的納米柱均勻?qū)ΨQ(chēng)排布時(shí)，所述多個(gè)納米柱的對(duì)稱(chēng)中心與所述襯底的中心不重合。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對(duì)稱(chēng)型超表面光學(xué)器件，其特征在于，所述多個(gè)納米柱中相同光學(xué)屬性的納米柱均勻?qū)ΨQ(chēng)排布時(shí)，所述多個(gè)納米柱的對(duì)稱(chēng)中心與所述襯底的中心不重合包括：所述多個(gè)納米柱排布為至少兩個(gè)對(duì)稱(chēng)區(qū)域，其中，所述至少兩個(gè)對(duì)稱(chēng)區(qū)域中的每個(gè)對(duì)稱(chēng)區(qū)域包括一個(gè)對(duì)稱(chēng)中心。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對(duì)稱(chēng)型超表面光學(xué)器件，其特征在于，所述多個(gè)納米柱中相同光學(xué)屬性的納米柱均勻?qū)ΨQ(chēng)排布時(shí)，所述多個(gè)納米柱的對(duì)稱(chēng)中心與所述襯底的中心不重合包括：所述多個(gè)納米柱中相同光學(xué)屬性的納米柱在所述襯底端面上基于極坐標(biāo)周期排列，所述極坐標(biāo)的原點(diǎn)為所述多個(gè)納米柱排布結(jié)構(gòu)的對(duì)稱(chēng)中心；
其中，所述周期排列是指按照預(yù)設(shè)的排列規(guī)則進(jìn)行排列，所述預(yù)設(shè)的排列規(guī)則包括對(duì)應(yīng)每個(gè)納米隊(duì)列，該隊(duì)列中相同光學(xué)屬性的納米柱的數(shù)量，以及不同光學(xué)屬性的納米柱的位置，及相鄰的納米柱的距離。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對(duì)稱(chēng)型超表面光學(xué)器件，其特征在于，所述多個(gè)納米柱中相同光學(xué)屬性的納米柱均勻?qū)ΨQ(chēng)排布時(shí)，所述多個(gè)納米柱的對(duì)稱(chēng)中心與所述襯底的中心不重合，包括：
在所述襯底的端面上按照相互垂直的行和列周期排列所述多個(gè)納米柱。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對(duì)稱(chēng)型超表面光學(xué)器件，其特征在于，所述多個(gè)納米柱任一納米柱的橫截面形狀包括以下任一種：圓形、方形、星形、環(huán)形、五邊形和六邊形。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對(duì)稱(chēng)型超表面光學(xué)器件，其特征在于，所述多個(gè)納米柱的材料包括至少兩種，所述至少兩種材料的色散系數(shù)、折射率和吸收系數(shù)中的至少一項(xiàng)不同。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的對(duì)稱(chēng)型超表面光學(xué)器件，其特征在于，所述多個(gè)納米柱中的第一部分納米柱中任一納米柱的材料是同一種材料，所述多個(gè)納米柱中的第二部分納米柱中的任一納米柱的材料與第一材料不同。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對(duì)稱(chēng)型超表面光學(xué)器件，其特征在于，所述多個(gè)納米柱的對(duì)稱(chēng)中心與所述襯底的中心重合時(shí)，所述多個(gè)納米柱中相同光學(xué)屬性的納米柱非均勻?qū)ΨQ(chēng)排布包括：
所述多個(gè)納米柱中相同光學(xué)屬性的納米柱基于對(duì)稱(chēng)中心渦旋對(duì)稱(chēng)，所述多個(gè)納米柱中不同光學(xué)屬性的納米柱在所述渦旋對(duì)稱(chēng)結(jié)構(gòu)中相鄰。
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