[發明專利]顯示面板及其制作方法

在審

• 申請號: 202210578321.4
• 申請日: 2022-05-25
• 公開（公告）號: CN114883377A
• 公開（公告）日: 2022-08-09
• 發明（設計）人: 苗洋
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: H01L27/32
• 分類號: H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56
• 代理公司: 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570
• 代理人: 楊瑞

本發明實施例公開了一種顯示面板及其制作方法，該顯示面板具有顯示區，并包括：襯底；發光器件層，位于該襯底上并包括多個發光器件，該發光器件位于該顯示區內；封裝層，位于該發光器件層上，在該顯示面板的俯視方向上，該封裝層覆蓋該發光器件；其中，該封裝層包括第一無機封裝層，該第一無機封裝層包括第一子層以及位于該第一子層上的第二子層，該第二子層在該襯底上的正投影位于該第一子層在該襯底上的正投影內。本發明通過使第一無機封裝層中的第二子層在襯底上的正投影位于第一子層在襯底上的正投影內，避免了第二子層形成在非預期封裝成膜區域，提高了顯示面板的產品質量。

技術領域

本發明涉及顯示領域，具體涉及一種顯示面板及其制作方法。

背景技術

目前，顯示面板用以阻隔水/氧入侵的無機薄膜通常采用等離子體增強化學氣相沉積(PECVD，Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)或原子層沉積(ALD，AtomicLayer Deposition)等方式制備，等離子體增強化學氣相沉積方式由于成膜方式的限制對顯示面板中的臺階結構覆蓋能力較差，因此，采用原子層沉積方式與等離子體增強化學氣相沉積方式等多種沉積方式相搭配以提高無機薄膜的阻隔水/氧的能力。然而原子層沉積等方式由于在成膜時不具有區域選擇性，造成無機封裝膜層也會同時形成在非預期封裝成膜的區域，影響產品質量。

因此，亟需一種顯示面板及其制作方法以解決上述技術問題。

發明內容

本發明提供一種顯示面板及其制作方法，可以緩解目前由于顯示面板用以阻隔水/氧入侵的無機薄膜中存在膜層在非預期封裝成膜區域形成的技術問題。

本發明提供一種顯示面板，包括顯示區，所述顯示面板包括：

襯底；

發光器件層，位于所述襯底上并包括多個發光器件，所述發光器件位于所述顯示區內；

封裝層，位于所述發光器件層上，在所述顯示面板的俯視方向上，所述封裝層覆蓋所述發光器件；

其中，所述封裝層包括第一無機封裝層，所述第一無機封裝層包括第一子層以及位于所述第一子層上的第二子層，所述第二子層在所述襯底上的正投影位于所述第一子層在所述襯底上的正投影內。

優選的，所述顯示面板還包括位于所述襯底上的有機阻擋層，所述有機阻擋層包括環繞所述顯示區設置的有機阻擋部；

其中，在所述顯示面板的俯視方向上，所述第一無機封裝層的邊界位于所述顯示區外且位于所述有機阻擋部靠近所述顯示區的一側。

優選的，所述有機阻擋部包括遠離所述顯示區的第一側以及靠近所述顯示區的第二側；

其中，在所述顯示面板的俯視方向上，所述第一無機封裝層位于所述第二側靠近所述顯示區的一側。

優選的，所述有機阻擋部遠離所述襯底的一側具有含鹵素的基團。

優選的，所述顯示面板還包括位于所述襯底與所述發光器件層之間的像素定義層，所述有機阻擋層與所述像素定義層同層設置；或者，

所述顯示面板還包括位于所述襯底與所述發光器件層之間的平坦化層，所述有機阻擋層與所述平坦化層同層設置。

優選的，所述封裝層還包括位于所述第一無機封裝層上的有機封裝層以及位于所述有機封裝層上的第二無機封裝層；

其中，所述第二無機封裝層包括位于所述有機封裝層上的第三子層以及位于所述第三子層上的第四子層，所述第四子層在所述襯底上的正投影位于所述第三子層在所述襯底上的正投影內。