[發明專利]一種制備微弧氧化涂層的方法有效
| 申請號： | 202210574345.2 | 申請日： | 2022-05-25 |
| 公開（公告）號： | CN114921831B | 公開（公告）日： | 2023-10-03 |
| 發明（設計）人： | 唐金成;嚴明;駱小平 | 申請（專利權）人： | 南方科技大學 |
| 主分類號： | C25D11/26 | 分類號： | C25D11/26;A61L27/06;A61L27/32;A61L27/30;A61L27/50;A61L27/54;A61L27/56 |
| 代理公司： | 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205 | 代理人： | 張建珍 |
| 地址： | 518055 廣東省深*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 制備 氧化 涂層 方法 | ||
1.一種制備微弧氧化涂層的方法，其特征在于，包括以下步驟：
將鈦樣品置于鈣磷鈉銀系電解液中，經微弧氧化制得雙層多孔分級的微弧氧化涂層；所述鈣磷鈉銀系電解液包括六偏磷酸鈉、硝酸銀、乙酸鈣、磷酸二氫鈣。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在所述鈣磷鈉銀系電解液中，所述六偏磷酸鈉的濃度為8～10g/L，所述硝酸銀的濃度為1～1.5g/L，所述乙酸鈣的濃度為6.5～8.5g/L，所述磷酸二氫鈣的濃度為6.5～7.5g/L。
3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，在所述鈣磷鈉銀系電解液中，所述六偏磷酸鈉的濃度約為10g/L，所述硝酸銀的濃度約為1g/L，所述乙酸鈣的濃度約為8.5g/L，所述磷酸二氫鈣的濃度約為6.5g/L。
4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述微弧氧化的條件為：正向電壓350～400V，頻率為450～500Hz，占空比為10～15％。
5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述微弧氧化以所述鈦樣品作為陽極，電解槽作為陰極；所述電解槽的材料包括不銹鋼、碳鋼或鎳中的任一種。
6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在所述雙層多孔分級的微弧氧化涂層中，外層孔的孔徑為5～10μm；內層孔的孔徑為200～1000nm。
7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，在所述雙層多孔分級的微弧氧化涂層中，外層孔的孔徑約為10μm，內層孔的孔徑約為400nm。
8.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，需對所述鈦樣品表面進行打磨、清洗后再置于所述鈣磷鈉銀系電解液中。
9.根據權利要求1～8任一項所述的方法，其特征在于，所述鈦樣品包括純鈦或鈦合金中的任一種。
10.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在制得所述雙層多孔分級的微弧氧化涂層后，需對所述微弧氧化涂層進行清洗和干燥，具體包括以下步驟：采用蒸餾水沖洗所述微弧氧化涂層，并于電熱鼓風干燥箱中進行干燥處理。
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