[發明專利]蝕刻液組合物及其制備方法

在審

• 申請號: 202210574335.9
• 申請日: 2022-05-24
• 公開（公告）號: CN115386378A
• 公開（公告）日: 2022-11-25
• 發明（設計）人: 金泰鎬;吳正植;金起瑩;李明鎬;宋明根
• 申請（專利權）人: 易安愛富科技有限公司
• 主分類號: C09K13/08
• 分類號: C09K13/08;H01L21/311
• 代理公司: 成都超凡明遠知識產權代理有限公司 51258
• 代理人: 宋東穎

1.一種蝕刻液組合物，包括：

氟化合物；

硫酸；

亞硝基硫酸；以及

硅化合物。

2.根據權利要求1所述的蝕刻液組合物，其特征在于，

所述氟化合物包括氫氟酸、氟化氫銨、氟化鈉、氟化鉀、氟化鋁、氟硼酸、氟化銨、氟化氫鈉、氟化氫鉀及四氟硼酸銨中的一種以上。

3.根據權利要求1所述的蝕刻液組合物，其特征在于，

所述硅化合物的分子具有1個或2個Si。

4.根據權利要求1所述的蝕刻液組合物，其特征在于，

所述硅化合物包括化學式1、化學式2或化學式3的化合物：

[化學式1]

[化學式2]

在化學式1及化學式2中，

R¹至R³各自獨立地為氫、羥基、氰基、取代或未取代的C_1-10烷基、C_2-10烯基、C_1-10氨基烷基、C_1-10烷氧基或鹵素元素，所述烷基為直鏈狀、支鏈狀或環狀，具有或不具有鹵素元素或CH₃的取代基，

R⁴為單鍵或取代或未取代的C_1-10烷基、C_2-10烯基、C_1-10氨基烷基、C_1-10烷氧基，所述烷基為直鏈狀、支鏈狀或環狀，具有或不具有鹵素元素或CH₃的取代基，

L為1或2；

[化學式3]

在化學式3中，

R₅為銨，

R₆為鹵素元素，

a為2，

b為6。

5.根據權利要求1所述的蝕刻液組合物，其特征在于，

所述硅化合物包括硅酸、六氟硅酸銨、二氯二甲基硅烷、甲基三氯硅烷、四氯化硅、氯(甲基)苯基硅烷、氯-二甲基(3,3,3-三氟丙基)硅烷、氯(二甲基)叔己基硅烷、氯(二甲基)乙烯基硅烷、三氯硅烷、二氯硅烷、一氯硅烷、六氯乙硅烷及五氯二硅烷中的一種以上。

6.根據權利要求1所述的蝕刻液組合物，其特征在于，

還包括無機酸或其鹽，

所述無機酸或其鹽不是氟化合物、硫酸及硅化合物。

7.根據權利要求6所述的蝕刻液組合物，其特征在于，

所述無機酸包括硝酸、磷酸及鹽酸中的一種以上。

8.根據權利要求1所述的蝕刻液組合物，其特征在于，

對于氧化硅膜的硅蝕刻選擇比為60以上。

9.一種蝕刻液組合物的制備方法，其特征在于，

包括將0.3至30重量％的氟化合物、50至95重量％的硫酸、1至30重量％的亞硝基硫酸、0.01至5重量％的硅化合物、以及使組合物總重量成為100重量％的余量的水進行混合的步驟。

10.根據權利要求9所述的蝕刻液組合物的制備方法，其特征在于，

還包括0.1至10重量％的無機酸或其鹽，

所述無機酸或其鹽不是氟化合物、硫酸及硅化合物。