[發明專利]基于組織形變的磁流體回流濃度分布預測方法在審
| 申請號: | 202210571592.7 | 申請日: | 2022-05-24 |
| 公開(公告)號: | CN114936533A | 公開(公告)日: | 2022-08-23 |
| 發明(設計)人: | 湯云東;陳鳴;鄒建 | 申請(專利權)人: | 福州大學 |
| 主分類號: | G06F30/28 | 分類號: | G06F30/28;G06Q10/04;G06F113/08;G06F119/14 |
| 代理公司: | 福州元創專利商標代理有限公司 35100 | 代理人: | 陳明鑫;蔡學俊 |
| 地址: | 350108 福建省福州市*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 組織 形變 流體 回流 濃度 分布 預測 方法 | ||
1.一種基于組織形變的磁流體回流濃度分布預測方法,其特征在于,包括如下步驟:
步驟S1、構建生物組織的幾何模型;
步驟S2、構建固體基質彈性模型;
步驟S3、構建回流層的流體運輸模型;
步驟S4、構建組織的流體運輸模型;
步驟S5、耦合求解流體運輸模型和固體基質彈性模型,并使用速度-濃度耦合分析獲得磁流體在組織間質內的濃度分布。
2.根據權利要求1所述的基于組織形變的磁流體回流濃度分布預測方法,其特征在于,步驟S1中,所述構建生物組織的幾何模型:構建一個半徑為R的半圓和一個長為H1、寬為W1的第一矩形;其中,半圓區域代表第一組織區域,除此之外的區域代表第二組織區域;另外構建一個長為H2,寬為W2的第二矩形,H1H2,第二矩形垂直穿過半圓和第二矩形到達半圓中心位置,左側邊與半圓的垂直半徑重合;半圓和第一矩形分別與第二矩形求差,半圓內的所剩區域為第一組織區域,除此之外的區域為第二組織區域,空白矩形區域為注射器;所述生物組織的幾何模型沿注射器與第一組織的邊界構建一個L形空間,用于描述注射器注射過程中注射點處組織的形變問題。
3.根據權利要求1所述的基于組織形變的磁流體回流濃度分布預測方法,其特征在于,所述步驟S2具體實現如下:
步驟S21、假定第一組織區域是一種不可壓縮的多孔超彈性介質,生物組織中小變形下的機械應力和組織應變滿足關系:
其中,εlm表示各方向上總應變的單個分量,σlm表示總應力張量在各個方向上的分量,β表示有效應力系數,P表示生物組織受到的壓力,δlm為Kronecker函數,當l=m時該函數取1,其余情況取0,ν表示橫向變形系數,E表示彈性模量;
步驟S22、注射器注射過程中受到壓力而產生的大形變的應力-應變呈非線性,且形變過程中體積保持不變;Ogden形式的本構模型采用主拉伸作為基準變量,用其表示單位體積彈性應變能函數W:
其中,W為單位體積彈性應變能函數,λ1、λ2和λ3表示主拉伸比,μi、αi和γi表示材料參數,J表示變形梯度張量的行列式;
步驟S23、組織形變過程中產生的位移用組織固相中的應力變化來表示:
其中,εlm表示各方向上總應變的單個分量,▽表示哈密頓算子,u表示位移矢量,T表示矩陣轉置。
4.根據權利要求3所述的基于組織形變的磁流體回流濃度分布預測方法,其特征在于,所述固體基質彈性模型需要滿足邊界條件如下:
1)回流層與注射器針頭接觸的邊界不可移動;
2)回流層與組織接觸的邊界可自由移動;
3)外部壓力針頭與生物組織間的空隙變大,針頭壁與生物組織分離滿足邊界條件:
-n·ρnfv=0
其中,n表示垂直于曲面元素的單位向量,ρnf表示納米流體的密度,v表示固相的速度;
4)回流層與組織接觸的邊界被設定為規定的牽引力:
其中,σ表示有效柯西應力張量,p表示間隙流體壓力,I表示單位張量,n表示垂直于曲面元素的單位向量,表示牽引力。
5.根據權利要求1所述的基于組織形變的磁流體回流濃度分布預測方法,其特征在于,所述步驟S3使用納維葉-斯托克斯方程構建用于描述回流層層性流動的流體運輸模型,并滿足質量守恒和動量守恒:
其中,ρf表示流體的密度,w表示流體流動的速度矢量,表示哈密頓算子,Pi表示組織壓力,μ表示磁流體的動態粘度,F表示每單位體積流體所受到的外力。
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