[發明專利]復合型自驅動氧化鋅同質結基紫外探測器及其制備方法有效
| 申請號: | 202210560525.5 | 申請日: | 2022-05-23 |
| 公開(公告)號: | CN115084296B | 公開(公告)日: | 2023-09-29 |
| 發明(設計)人: | 姜明明;唐楷;施大寧;闞彩俠 | 申請(專利權)人: | 南京航空航天大學 |
| 主分類號: | H01L31/0352 | 分類號: | H01L31/0352;H01L31/0296;H01L31/103;H01L31/18;H01L31/0224 |
| 代理公司: | 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
| 地址: | 210016 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 復合型 驅動 氧化鋅 同質 紫外 探測器 及其 制備 方法 | ||
1.一種復合型自驅動氧化鋅同質結基紫外探測器,其特征在于,所述探測器底部為藍寶石襯底(7),藍寶石襯底表面為n-ZnO薄膜(6),在n-ZnO薄膜(6)最左端為Au薄膜電極(2),另一端占據n-ZnO薄膜(6)絕大部分面積的是MgO空穴阻擋層(5),其表面為3~5根p-ZnO:Sb微米線(4),并在每根微米線上表面都蒸鍍Ag薄膜(3),最頂層為ITO導電玻璃(1),與Ag薄膜(3)緊密接觸,并且在ITO導電玻璃最右端為Au薄膜電極(2)。
2.根據權利要求1所述的復合型自驅動氧化鋅同質結基紫外探測器,其特征在于,所述n-ZnO薄膜(6)的厚度為500~600nm,電子濃度為2×1017~5×1018/cm3。
3.根據權利要求1所述的復合型自驅動氧化鋅同質結基紫外探測器,其特征在于,所述MgO空穴阻擋層(5)的厚度為8~12nm。
4.根據權利要求1所述的復合型自驅動氧化鋅同質結基紫外探測器,其特征在于,所述Au薄膜電極(2)的厚度為40~50nm。
5.根據權利要求1所述的復合型自驅動氧化鋅同質結基紫外探測器,其特征在于,所述p-ZnO:Sb微米線(4)的長度為4~6mm,直徑為2~8μm,橫截面為四邊形。
6.一種根據權利要求1所述的復合型自驅動氧化鋅同質結基紫外探測器的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
步驟1、將ZnO粉末、三氧化二銻粉末和碳粉的均勻混合粉末置于高溫管式爐中,所述ZnO粉末、三氧化二銻粉末和碳粉的質量比為10:(1~2):11,使用化學氣相沉積法,降溫后得到生長有銻元素摻雜的ZnO微米線,測試得空穴濃度1016~1018/cm3,以備用;
步驟2、使用電子束蒸發實驗方法在ITO導電玻璃導電面的一端蒸鍍Au薄膜電極,以備用;
步驟3、使用電子束蒸發實驗方法在藍寶石襯底表面的n-ZnO薄膜的一端蒸鍍Au薄膜電極;
步驟4、用掩模板遮擋住Au薄膜電極,使用電子束蒸發實驗方法在n-ZnO薄膜的另一端蒸鍍MgO阻擋層;
步驟5、使用電子束蒸發實驗方法在p-ZnO:Sb上表面蒸鍍一層Ag薄膜層;
步驟6、使用鑷子將表面覆蓋Ag薄膜層的p-ZnO:Sb放置于MgO阻擋層表面,微米線的數量控制在1~5根之間,保證Ag薄膜層修飾的面朝上放置,使未被Ag薄膜層修飾的下表面與MgO阻擋層接觸;
步驟7、將蒸鍍有Au薄膜電極的ITO導電玻璃導電一面覆蓋于Ag薄膜層修飾的p-ZnO:Sb表面;
步驟8、使用兩個金屬夾子夾住整個器件。
7.根據權利要求6所述的復合型自驅動氧化鋅同質結基紫外探測器的制備方法,其特征在于,步驟2中,所述ITO導電玻璃導電面的電阻值為3~5歐姆;ITO導電玻璃在蒸鍍Au薄膜電極之前進行清洗,依次放置于丙酮、乙醇和去離子水中,使用超聲清洗儀清洗15~30min,最后使用氮氣吹洗表面水分;所述Au薄膜電極蒸鍍過程中保持電子束蒸鍍儀中真空度1.5×10-4~6.7×10-4pa;所述Au薄膜電極蒸鍍過程中電子束流控制在0.8~0.96mA,生長速度控制在0.03~0.05埃/秒。
8.根據權利要求6所述的復合型自驅動氧化鋅同質結基紫外探測器的制備方法,其特征在于,步驟3中,需蒸鍍的Au薄膜電極位于n-ZnO薄膜表面,厚度為40~50nm;Au薄膜電極蒸鍍過程中保持電子束蒸鍍儀中真空度1.5×10-4~6.7×10-4pa;Au薄膜電極蒸鍍過程中電子束流控制在0.8~0.96mA,生長速度控制在0.03~0.05埃/秒。
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H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





