[發(fā)明專利]基于中心投影的坐標(biāo)補償方法、裝置、設(shè)備及介質(zhì)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202210559743.7
• 申請日: 2022-05-23
• 公開（公告）號: CN114897851A
• 公開（公告）日: 2022-08-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李曉飛;劉旭;蔡明;葉春瑤;王悅舜
• 申請（專利權(quán)）人: 成都飛機工業(yè)（集團）有限責(zé)任公司
• 主分類號: G06T7/00
• 分類號: G06T7/00;G06T7/70
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202
• 代理人: 楊子亮

1.一種基于中心投影的坐標(biāo)補償方法，其特征在于，所述方法包括：

根據(jù)目標(biāo)圖像，獲取目標(biāo)零件的特征點在第一坐標(biāo)系中的第一坐標(biāo)，其中，所述目標(biāo)圖像中包括零件托盤以及放置在所述零件托盤上的目標(biāo)零件，所述目標(biāo)圖像通過與所述零件托盤存在目標(biāo)工作距離的二維相機對所述零件托盤拍攝獲得；所述第一坐標(biāo)系基于所述零件托盤建立；

根據(jù)所述第一坐標(biāo)系以及所述特征點，建立補償坐標(biāo)系；

根據(jù)所述第一坐標(biāo)，獲取所述特征點在所述補償坐標(biāo)系中的第二坐標(biāo)；

根據(jù)所述目標(biāo)零件的實際尺寸參數(shù)以及所述目標(biāo)工作距離對所述第二坐標(biāo)進行誤差補償，以得到補償坐標(biāo)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于中心投影的坐標(biāo)補償方法，其特征在于，所述根據(jù)目標(biāo)圖像，獲取目標(biāo)零件的特征點在第一坐標(biāo)系中的第一坐標(biāo)的步驟，包括：

對所述目標(biāo)圖像進行圖形處理，以得到所述特征點的像素坐標(biāo)；

根據(jù)所述二維相機的畸變參數(shù)以及標(biāo)定參數(shù)對所述像素坐標(biāo)進行轉(zhuǎn)換得到所述特征點在相機坐標(biāo)系下的相機坐標(biāo)；

確定相機坐標(biāo)系和第一坐標(biāo)系之間的第一坐標(biāo)轉(zhuǎn)換關(guān)系；

根據(jù)所述相機坐標(biāo)以及所述第一坐標(biāo)轉(zhuǎn)換關(guān)系得到所述第一坐標(biāo)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于中心投影的坐標(biāo)補償方法，其特征在于，所述二維相機的光軸與所述零件托盤的夾角在預(yù)設(shè)角度范圍內(nèi)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項所述的基于中心投影的坐標(biāo)補償方法，其特征在于，所述目標(biāo)零件為圓柱形零件，所述特征點為圓柱形零件表面的圓心。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基于中心投影的坐標(biāo)補償方法，其特征在于，所述根據(jù)所述第一坐標(biāo)系以及所述特征點，建立補償坐標(biāo)系的步驟，包括：

針對所述零件托盤上每一所述目標(biāo)零件建立對應(yīng)的補償坐標(biāo)系，其中，所述補償坐標(biāo)系的原點與所述第一坐標(biāo)系的原點重合，以原點與所述目標(biāo)零件的底部圓心的連線為X軸，以所述二維相機的光軸為Z軸。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于中心投影的坐標(biāo)補償方法，其特征在于，所述根據(jù)所述第一坐標(biāo)，獲取所述特征點在所述補償坐標(biāo)系中的第二坐標(biāo)的步驟包括：

計算每一所述補償坐標(biāo)系與所述第一坐標(biāo)系的第二坐標(biāo)轉(zhuǎn)換關(guān)系；

根據(jù)每一所述第二坐標(biāo)轉(zhuǎn)換關(guān)系獲取每一所述目標(biāo)零件的特征點在對應(yīng)補償坐標(biāo)系下的第二坐標(biāo)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基于中心投影的坐標(biāo)補償方法，其特征在于，所述根據(jù)所述目標(biāo)零件的實際尺寸參數(shù)以及所述二維相機與所述零件托盤的距離對所述第二坐標(biāo)進行誤差補償，以得到補償坐標(biāo)步驟，包括：

記所述第二坐標(biāo)為(X₁，Y₁，Z₁)，所述補償坐標(biāo)為(X₂，Y₂，Z₂)，所述補償坐標(biāo)的X值通過下列公式計算：

式中，h為所述目標(biāo)零件的高度，r為所述目標(biāo)零件的半徑，l為所述目標(biāo)工作距離，

其中，所述補償坐標(biāo)的Y值等于所述第二坐標(biāo)的Y值等于0，所述補償坐標(biāo)的Z值等于所述第二坐標(biāo)的Z值。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基于中心投影的坐標(biāo)補償方法，其特征在于，在所述根據(jù)所述目標(biāo)零件的實際尺寸參數(shù)以及所述二維相機與所述零件托盤的距離對所述第二坐標(biāo)進行誤差補償，以得到補償坐標(biāo)的步驟之后，所述方法還包括：

建立執(zhí)行機構(gòu)坐標(biāo)系；

獲取所述執(zhí)行機構(gòu)坐標(biāo)系與所述相機坐標(biāo)系的第三坐標(biāo)轉(zhuǎn)換關(guān)系；

根據(jù)所述第一坐標(biāo)轉(zhuǎn)換關(guān)系、第二坐標(biāo)轉(zhuǎn)換關(guān)系以及所述第三坐標(biāo)轉(zhuǎn)換關(guān)系對所述補償坐標(biāo)進行轉(zhuǎn)換，得到誤差補償后所述目標(biāo)零件的特征點在所述執(zhí)行機構(gòu)坐標(biāo)系下的第三坐標(biāo)；

根據(jù)所述第三坐標(biāo)對所述目標(biāo)零件進行抓取。