[發(fā)明專利]PTFE制層積管以及其制造方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202210548015.6
• 申請日: 2022-05-18
• 公開（公告）號: CN115366490A
• 公開（公告）日: 2022-11-22
• 發(fā)明（設計）人: 柴田欽司;澤田拓也
• 申請（專利權(quán)）人: 日星電氣株式會社
• 主分類號: B32B1/08
• 分類號: B32B1/08;B32B27/32;B32B27/06;F16L9/12
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 謝辰

本發(fā)明的技術(shù)問題在于，提供一種內(nèi)層的表面性優(yōu)越，另外不用擔心層間剝離機械特性的耐久性優(yōu)越且生產(chǎn)率優(yōu)越的PTFE制層積管。本發(fā)明的PTFE制的層積管具有至少1層致密層以及至少1層多孔質(zhì)層，層積管的最內(nèi)層是致密層，關(guān)于層積管的內(nèi)表面的表面粗糙度，成型為算術(shù)平均粗糙度(Ra)為1.5μm以上且6μm以下，且最大高度(Rz)為20μm以上且50μm以下。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及聚四氟乙烯(以下稱為PTFE)制層積管以及其制造方法，其因內(nèi)層的表面性優(yōu)越，并且不用擔心層間剝離、機械特性的耐久性優(yōu)越，特別適合使用于醫(yī)療設備、油墨輸送、半導體制造裝置等。

背景技術(shù)

作為現(xiàn)有的PTFE制層積管，已知有由致密構(gòu)造和多孔質(zhì)構(gòu)造的層組成，并通過熱熔接將各層間一體化的管(專利文獻1)。通過除致密層之外還包含多孔質(zhì)層，在可彎曲性或耐彎曲性上優(yōu)越，但容易產(chǎn)生由于熱熔接而導致的接合部剝離等耐久性的問題。另外，在分別成型致密層和多孔質(zhì)層后，需要進行熱熔接的工序，因此生產(chǎn)成本變高，而且通過脫模而產(chǎn)生的內(nèi)層的刮痕，可能引起耐久性或異物附著等各種各樣的問題。

現(xiàn)有技術(shù)文獻

專利文獻

專利文獻1：(日本)特開平7-1630號公報

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明所要解決的技術(shù)問題

本發(fā)明的技術(shù)問題在于提供內(nèi)層的表面性優(yōu)越，另外不用擔心層間剝離機械特性的耐久性優(yōu)越且生產(chǎn)率優(yōu)越的PTFE制層積管。

用于解決技術(shù)問題的手段

本發(fā)明中的PTFE制層積管的要點如下。

(1)一種PTFE制層積管，其至少由2層以上組成，其特征在于，層積管具有至少1層致密層以及至少1層多孔質(zhì)層，層積管的最內(nèi)層是致密層，關(guān)于該層積管的內(nèi)表面的表面粗糙度，成型為算術(shù)平均粗糙度(Ra)為1.5μm以上且6μm以下，且最大高度(Rz)為20μm以上且50μm以下。

(2)最內(nèi)層的致密層、和與致密層鄰接的多孔質(zhì)層間的剝離強度優(yōu)選為1.6N/mm以上。

(3)在2萬倍的TEM測定中，優(yōu)選在最內(nèi)層的致密層、和與致密層鄰接的多孔質(zhì)層之間，不能看到交界部。

(4)層積管的最內(nèi)層的厚度優(yōu)選為2μm～1000μm，且其他層的厚度優(yōu)選為20μm～1000μm。

(5)層積管的外徑優(yōu)選為15.0mm以下。

(6)層積管的長度方向的長度優(yōu)選為3m以上。

(7)一種層積管的制造方法，其特征在于，各層同時一體成型。

發(fā)明效果

根據(jù)本發(fā)明，能夠得到內(nèi)層表面性優(yōu)越，且不用擔心層間剝離機械特性的耐久性優(yōu)越的PTFE制層積管。另外，通過一體成型的制造方法，生產(chǎn)率也被改善。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的PTFE制層積管的徑向截面的SEM(掃描電子)顯微鏡圖像(10kV、100倍)。

圖2是示出管內(nèi)表面的表面粗糙度的測定方法的概略圖。

圖3是示出層間剝離強度的測定方法的概略圖。

圖4是層積管徑向截面的致密層和多孔質(zhì)層間的TEM(投射電子顯微鏡)測定(2萬倍)圖像，(a)本發(fā)明的PTFE制層積管，(b)現(xiàn)有產(chǎn)品(比較例)的PTFE制層積管。

附圖標記說明

1：PTFE制層積管；

2：致密層；

3：多孔質(zhì)層；