[發(fā)明專利]一種防水防紫外的高強度輕薄面料的制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210545121.9 | 申請日: | 2022-05-19 |
| 公開(公告)號: | CN114737405B | 公開(公告)日: | 2023-08-25 |
| 發(fā)明(設計)人: | 吳昆明;張傳貴;劉漢清;聶平 | 申請(專利權)人: | 高梵(浙江)信息技術有限公司 |
| 主分類號: | D06N3/04 | 分類號: | D06N3/04;D06N3/00;D06M15/643;D06M15/564;D06M11/44;D06M101/34;D06M101/36;D06M101/38 |
| 代理公司: | 合肥中谷知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 34146 | 代理人: | 張苗苗 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 防水 紫外 強度 輕薄 面料 制備 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種防水防紫外的高強度輕薄面料的制備方法,將基布浸軋于抗紫外整理劑溶液中,焙烘得到預處理的基布;將預處理的基布放入軋光機中進行雙面軋光處理,得到帶有斜紋的軋光基布;將涂層整理劑A噴涂在軋光基布表面一側,經(jīng)烘干在軋光基布表面一側形成金屬膜,得到反射面料;將制備的涂層整理劑B噴涂在反射面料的軋光基布表面另一側,經(jīng)烘干在軋光基布表面另一側形成二氧化鈦膜,得到防紫外線面料;在防紫外線面料的金屬膜上涂覆防水涂劑。本發(fā)明所述的一種防水防紫外的高強度輕薄面料的制備方法,實現(xiàn)防曬性能的顯著提升,且在長期的暴曬過程中避免脫粉老化現(xiàn)象的出現(xiàn),延長面料的使用壽命。
技術領域
本發(fā)明涉及面料技術領域,特別涉及一種防水防紫外的高強度輕薄面料的制備方法。
背景技術
近年來,隨著人們生活水平的不斷提高,越來越多的人傾向于回歸大自然,去參加越來越多的戶外活動,但是工業(yè)產(chǎn)業(yè)的飛速發(fā)展也給環(huán)境帶來了沉重的負擔,過多的紫外線和環(huán)境污染等與參加戶外活動的愿望相背離。因此,為了滿足這一現(xiàn)狀,人們對戶外紡織品的要求也越來越高,不僅要滿足人們的基本生產(chǎn)和生活,而且要適應現(xiàn)狀的戶外環(huán)境,具有高強度、防水、防紫外線、輕薄等多種特性。但現(xiàn)有面料在制備過程中往往反射層不能實現(xiàn)光線的充分反射,導致吸收層不能對紫外光線進行充分吸收,最終使得防紫外線效果不佳,且具備防水效果的面料在經(jīng)長期暴曬后其表面極易老化,進而影響面料的使用壽命。
發(fā)明內容
本發(fā)明的主要目的在于提供一種防水防紫外的高強度輕薄面料的制備方法,可以有效解決背景技術中的問題。
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采取的技術方案為:
一種防水防紫外的高強度輕薄面料的制備方法,包括以下步驟:
S1:基布制備:將氨綸彈力絲和錦綸高彈絲合股并捻制成經(jīng)線,將竹炭纖維和芳綸纖維合股并捻制成緯線,按照經(jīng)線密度65-80根/cm、緯線密度50-70根/cm編織形成基布;
S2:基布浸軋:將基布浸軋于抗紫外整理劑溶液中1-2h后,焙烘得到預處理的基布;
S3:軋光處理:將預處理的基布放入軋光機中進行雙面軋光處理,得到帶有斜紋的軋光基布;
S4:反射面料制備:高分子成膜劑與納米銀溶膠混合,均質攪拌,得到涂層整理劑A,將制備的涂層整理劑A噴涂在軋光基布表面一側,經(jīng)烘干在軋光基布表面一側形成金屬膜,得到反射面料;
S5:防紫外線面料制備:高分子成膜劑與二氧化鈦溶膠混合,均質攪拌,得到涂層整理劑B,將制備的涂層整理劑B噴涂在反射面料的軋光基布表面另一側,經(jīng)烘干在軋光基布表面另一側形成二氧化鈦膜,得到防紫外線面料;
S6:防水涂劑制備:甲基丙烯酸二甲基氨乙酯與丙烯酰胺混合攪拌至完全溶解,加入納米二氧化硅微球、高分子成膜劑和去離子水后再次混合攪拌,得到防水涂劑;
S7:防水防紫外線面料制備:在防紫外線面料的金屬膜上涂覆防水涂劑,經(jīng)焙烘,水洗,再經(jīng)平整熨燙,拉幅定型,得到防水防紫外線的高強度輕薄面料。
作為本發(fā)明的進一步優(yōu)化方案,按重量份計,所述S2中的抗紫外整理劑由10-20份無機納米抗紫外劑、1-5份有機硅酮膠黏劑、50-70份聚氨酯樹脂和10-30份甲苯組成。
作為本發(fā)明的進一步優(yōu)化方案,所述無機納米抗紫外劑為氧化鋅。
作為本發(fā)明的進一步優(yōu)化方案,所述S2中焙烘于158-162℃、28-32m/min的速度下進行。
作為本發(fā)明的進一步優(yōu)化方案,所述S3中軋光處理的壓力為100噸~110噸,且軋光處理的溫度為170℃~180℃。
作為本發(fā)明的進一步優(yōu)化方案,所述S4中高分子成膜劑與納米銀溶膠重量比列為(1-3):(2-5)。
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