[發(fā)明專(zhuān)利]一種窄線寬可調(diào)外腔激光器在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210538550.3 | 申請(qǐng)日: | 2022-05-18 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN114937920A | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-08-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 龔攀;俞本立;汪輝;王瑞 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 安徽至博光電科技股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01S5/068 | 分類(lèi)號(hào): | H01S5/068;H01S5/14;H04B10/50;H04B10/556 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 230000 安徽省合肥市*** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 窄線寬 可調(diào) 激光器 | ||
1.一種窄線寬可調(diào)外腔激光器,其特征在于:包括光源和硅基外腔芯片,所述硅基外腔芯片包括耦合器、相位調(diào)制器和馬赫-曾德?tīng)柦Y(jié)構(gòu);所述耦合器通過(guò)波導(dǎo)依次與相位調(diào)制器、馬赫-曾德?tīng)柦Y(jié)構(gòu)相連;所述馬赫-曾德?tīng)柦Y(jié)構(gòu)的兩個(gè)輸出端通過(guò)波導(dǎo)直接相連構(gòu)成閉合薩格納克反射器結(jié)構(gòu)。
2.如權(quán)利要求1所述的一種窄線寬可調(diào)外腔激光器,其特征在于:所述馬赫-曾德?tīng)柦Y(jié)構(gòu)包括第一分束器、第二分束器和上下臂波導(dǎo);所述上下臂波導(dǎo)與第一硅基微環(huán)調(diào)制器和第二硅基微環(huán)調(diào)制器相連構(gòu)成上下話路結(jié)構(gòu)。
3.如權(quán)利要求1所述的一種窄線寬可調(diào)外腔激光器,其特征在于:所述硅基外腔芯片采用硅基襯底的SOI、SiN、SiON或SiO2材料工藝平臺(tái)。
4.如權(quán)利要求1所述的一種窄線寬可調(diào)外腔激光器,其特征在于:所述光源采用半導(dǎo)體光放大器SOA時(shí),對(duì)應(yīng)所述耦合器選用模斑轉(zhuǎn)換器;所述光源末端涂覆高反射層,以保證反射率至少≥90%;采用將所述光源內(nèi)部靠近芯片端波導(dǎo)彎曲7~9°的方式,達(dá)到所述光源的輸出光線方向與所述耦合器端面法線偏移7~9°,從而降低端面回波信號(hào)影響。
5.如權(quán)利要求7所述的一種窄線寬可調(diào)外腔激光器,其特征在于:所述光源采用激光二極管LD芯片時(shí),采用將激光二極管LD芯片的激光輸出方向與硅基外腔芯片輸入方向偏轉(zhuǎn)7~9°的方式來(lái)降低二者之間的端面反射影響;或采用在所述硅基外腔芯片上刻蝕偏轉(zhuǎn)7~9°的耦合器方式,達(dá)到與激光二極管LD芯片的輸出激光方向偏轉(zhuǎn)7~9°,從而降低端面回波信號(hào)影響。
6.如權(quán)利要求1所述的一種窄線寬可調(diào)外腔激光器,其特征在于:所述光源采用垂直腔面發(fā)生激光器VCSEL時(shí),對(duì)應(yīng)所述耦合器選用光柵耦合器;所述光源與所述耦合器之間通過(guò)flip-chip形式鍵合。
7.如權(quán)利要求2所述的一種窄線寬可調(diào)外腔激光器,其特征在于:所述第一分束器和第二分束器采用2X2多模干涉儀MMI結(jié)構(gòu)。
8.如權(quán)利要求2所述的一種窄線寬可調(diào)外腔激光器,其特征在于:所述相位調(diào)制器、第一硅基微環(huán)調(diào)制器和第二硅基微環(huán)調(diào)制器均采用熱光效應(yīng)進(jìn)行熱調(diào)諧;所述相位調(diào)制器用以微調(diào)光源輸出信號(hào)縱模位置。
9.如權(quán)利要求8所述的一種窄線寬可調(diào)外腔激光器,其特征在于:所述第一硅基微環(huán)調(diào)制器和第二硅基微環(huán)調(diào)制器的自由光譜范圍為:
其中為硅基微環(huán)調(diào)制器的諧振波長(zhǎng),為硅基微環(huán)調(diào)制器的相鄰諧振峰的波長(zhǎng)間隔,ng為硅基微環(huán)調(diào)制器波導(dǎo)群折射率,R為硅基微環(huán)半徑;所述第一硅基微環(huán)調(diào)制器和第二硅基微環(huán)調(diào)制器的半徑相同或不同。
10.如權(quán)利要求9所述的一種窄線寬可調(diào)外腔激光器,其特征在于:所述第一硅基微環(huán)調(diào)制器和第二硅基微環(huán)調(diào)制器的游標(biāo)效應(yīng)采用共振波長(zhǎng),并通過(guò)熱調(diào)諧使得第一硅基微環(huán)調(diào)制器和第二硅基微環(huán)調(diào)制器的自由光譜范圍移動(dòng),用以選擇波長(zhǎng);同時(shí)有:
其中FSR1和FSR2分別為第一硅基微環(huán)調(diào)制器和第二硅基微環(huán)調(diào)制器的自由光譜范圍;所述最大波長(zhǎng)調(diào)諧范圍取決于第一硅基微環(huán)調(diào)制器和第二硅基微環(huán)調(diào)制器的自由光譜范圍。
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