[發明專利]放射監測的高精度測量設備及測量方法、檢測方法

在審

• 申請號: 202210538499.6
• 申請日: 2022-05-17
• 公開（公告）號: CN114942202A
• 公開（公告）日: 2022-08-26
• 發明（設計）人: 呼秀山;李圓圓
• 申請（專利權）人: 北京銳達儀表有限公司
• 主分類號: G01N9/24
• 分類號: G01N9/24;G01F23/288;G01N23/02
• 代理公司: 北京庚致知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11807
• 代理人: 孫敬霞

本公開提供了一種放射監測的高精度測量設備及測量方法、檢測方法。本公開的測量設備包括：輻射裝置、探測裝置、監測裝置，輻射裝置安裝在被測容器的第一側面，探測裝置安裝在被測容器的第二側面，第一側面與所述第二側面相對，被測容器內裝有介質，監測裝置安裝在輻射裝置的第一側面并連接探測裝置。本公開的測量設備能夠無接觸地對容器或管道內介質的密度、濃度和/或料位進行測量。

技術領域

本公開涉及工業測量技術領域，本公開尤其涉及一種放射監測的高精度測量設備及測量方法、檢測方法測量設備及其測量方法、檢測方法。

背景技術

隨著科技的發展，工業領域更加智能化、自動化、簡捷化，這離不開各式各樣的儀表。由于工業領域各行各業的工況、測量環境等均有所不同，比如生產過程中，有高溫、高壓、高粉塵、高毒性、高腐蝕性等一些復雜環境，接觸式的測量儀表或多或少不能滿足其中的一個或多個工況，造成測量不準確或測量儀表無法長期使用等情況。也有非接觸式測量儀表，但受本地環境背景噪聲影響，造成測量值不精確的情況。

發明內容

為了解決上述技術問題中的至少一個，本公開提供了一種放射監測的高精度測量設備及測量方法、檢測方法，能夠實現非接觸式的密度、濃度和/或料位等的測量。

本公開的第一方面，提供了一種放射監測的高精度測量設備，包括：輻射裝置、探測裝置、監測裝置，所述輻射裝置安裝在被測容器的第一側面，所述探測裝置安裝在所述被測容器的第二側面，所述第一側面與所述第二側面相對，所述被測容器內裝有介質，所述監測裝置安裝在所述輻射裝置的第一側面并連接所述探測裝置；

所述輻射裝置，用于同時產生共線但方向相反的第一射線與第二射線，所述第一射線穿過所述被測容器、所述介質后進入所述探測裝置，所述第二射線直接進入所述監測裝置；

所述探測裝置檢測所述第一射線形成第一射線測量信號；

所述監測裝置直接檢測第二射線形成第二射線測量信號。

本公開第一方面的一些實施方式中，所述探測裝置用于檢測射線形成探測射線測量信號，所述探測裝置檢測的射線至少包括所述輻射裝置產生的所述第一射線、背景環境輻射的射線，所述探測射線測量信號至少包括所述第一射線形成的所述第一射線測量信號、所述背景環境輻射的射線形成的第一背景輻射測量信號；所述監測裝置用于檢測射線形成監測射線測量信號，所述監測裝置檢測的射線至少包括所述輻射裝置產生的所述第二射線、背景環境輻射的射線，所述監測射線測量信號至少包括所述第二射線形成的所述第二射線測量信號、所述背景環境輻射的射線形成的第二背景輻射測量信號；通過比對所述探測射線測量信號的產生時間與所述監測射線測量信號的產生時間是否具有同時性或時間間隔小于等于所述第一預設值，分辨所述探測射線測量信號中的第一射線測量信號和第一背景輻射測量信號。

本公開第一方面的一些實施方式中，所述探測裝置還用于接收所述監測裝置傳遞的所述監測射線測量信號，比較所述探測射線測量信號與所述監測射線測量信號的產生時間，若兩者產生時間具有同時性或時間間隔小于等于第一預設值時，則認為此次所述監測裝置檢測的監測射線測量信號為所述輻射裝置產生的所述第二射線形成的所述第二射線測量信號且此次所述探測裝置檢測的所述探測射線測量信號為所述輻射裝置產生的所述第一射線形成的所述第一射線測量信號，判定所述探測裝置此次檢測的所述探測射線測量信號具有有效性且為所述第一射線測量信號，所述探測裝置記錄保存此次檢測的所述第一射線測量信號后處理分析獲得所述第一射線測量信號的測量信息，若兩者產生時間不具有同時性或時間間隔大于于第一預設值時則所述探測裝置刪除或忽略此次檢測的所述探測射線測量信號。

本公開第一方面的一些實施方式中，所述第一射線測量信號和/或所述第二射線測量信號為小于10ms的窄脈沖信號。