[發(fā)明專利]一種銻基納米棒陣列異質(zhì)結(jié)的光電探測(cè)器及其制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210535143.7 | 申請(qǐng)日: | 2022-05-17 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN114975655A | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-08-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 曹宇;曲鵬;周靜;凌同;朱嘉偉;武穎;賀偉蘭;張頡;韓林肖;張國(guó)輝 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 東北電力大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01L31/032 | 分類號(hào): | H01L31/032;H01L31/0352;H01L31/109;H01L31/18;H01L51/46;H01L51/42;H01L51/48;C23C14/06;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 吉林市達(dá)利專利事務(wù)所 22102 | 代理人: | 陳傳林 |
| 地址: | 132012 吉*** | 國(guó)省代碼: | 吉林;22 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 納米 陣列 異質(zhì)結(jié) 光電 探測(cè)器 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明一種銻基納米棒陣列異質(zhì)結(jié)的光電探測(cè)器,其包括:摻硼氧化鋅透明導(dǎo)電玻璃襯底、銻基納米棒陣列吸收層、空穴傳輸層和金屬電極,采用ZnO:B透明導(dǎo)電玻璃襯底誘導(dǎo)技術(shù),制備銻基納米棒陣列中分子鏈與納米棒生長(zhǎng)取向一致,改善了載流子輸運(yùn)特性,增強(qiáng)了光電流響應(yīng);其制備方法為構(gòu)建合理的銻基納米棒陣列異質(zhì)結(jié)結(jié)構(gòu),高度有序的銻基納米棒陣列作為光吸收層,提高載流子輸運(yùn)特性,制備方法簡(jiǎn)單、成本低、制備器件性能高、具有較高的工業(yè)化應(yīng)用價(jià)值。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及光電材料、光電探測(cè)器技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種銻基納米棒陣列異質(zhì)結(jié)的光電探測(cè)器及其制備方法。
背景技術(shù)
近年來(lái),光電探測(cè)器作為機(jī)器視覺(jué)、模式識(shí)別、無(wú)人駕駛等領(lǐng)域的關(guān)鍵光電元件,而受到廣泛關(guān)注。隨著成像技術(shù)的普及和高速發(fā)展,對(duì)具有寬譜域響應(yīng)、高性能光電探測(cè)器的需求在不斷加強(qiáng)。要求光電探測(cè)器實(shí)現(xiàn)高響應(yīng)度、高探測(cè)率等性能的同時(shí)滿足寬光譜響應(yīng),同時(shí)也要求制備材料無(wú)毒、成本低和可快速大規(guī)模制備等特點(diǎn)。銻基材料(Sb2S3、Sb2Se3、Sb2(S,Se)3)作為一種新型光伏吸收材料,禁帶寬度為1.1–1.7eV,可以實(shí)現(xiàn)紫外-可見(jiàn)光-近紅外的寬光譜吸收,同時(shí)還具有高吸收系數(shù),原材料豐富,無(wú)毒,可滿足工業(yè)生產(chǎn)中的大規(guī)模制備。
目前,雖然銻基材料作為光吸收材料,在光電導(dǎo)探測(cè)器和薄膜異質(zhì)結(jié)光電探測(cè)器上已有應(yīng)用,但光電導(dǎo)探測(cè)器需要在固定偏壓下工作,而薄膜異質(zhì)結(jié)光電探測(cè)器可以實(shí)現(xiàn)器件在無(wú)偏壓下工作。進(jìn)一步提升銻基材料性能,需要優(yōu)化銻基吸光層生長(zhǎng)取向,提高光電流響應(yīng),但此項(xiàng)技術(shù)尚未攻克,在相關(guān)文獻(xiàn)上也沒(méi)有任何記載。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的問(wèn)題,設(shè)計(jì)了一種銻基納米棒陣列異質(zhì)結(jié)的光電探測(cè)器,構(gòu)建合理的銻基納米棒陣列異質(zhì)結(jié)結(jié)構(gòu),高度有序的銻基納米棒陣列作為光吸收層,可以提高載流子輸運(yùn)特性,提高光電探測(cè)器性能;同時(shí)提供了一種銻基納米棒陣列異質(zhì)結(jié)的光電探測(cè)器的制備方法,該制備方法簡(jiǎn)單,適用于工業(yè)化大規(guī)模生成。
實(shí)現(xiàn)本發(fā)明技術(shù)方案之一,一種銻基納米棒陣列異質(zhì)結(jié)的光電探測(cè)器,其特征是,它從上而下依次排列以下結(jié)構(gòu):摻硼氧化鋅透明導(dǎo)電玻璃襯底,銻基納米棒陣列吸收層,空穴傳輸層,金屬電極層。
進(jìn)一步,所述的銻基納米棒陣列吸收層是Sb2S3納米棒陣列吸收層、Sb2Se3納米棒陣列吸收層或Sb2(S,Se)3納米棒陣列吸收層。
進(jìn)一步,所述的空穴傳輸層是P3HT、MoO3或Spiro-OMeTAD。
進(jìn)一步,所述的金屬電極層是Au、Ag或Al薄膜。
實(shí)現(xiàn)本發(fā)明技術(shù)方案之二,一種銻基納米棒陣列異質(zhì)結(jié)的光電探測(cè)器的制備方法,其特征是,它包括以下步驟:
1)對(duì)摻硼氧化鋅透明導(dǎo)電玻璃襯底用洗潔精和純水洗滌15分鐘,然后依次用超純水、乙醇、丙酮超聲洗滌15分鐘,用氮?dú)獯蹈桑?/p>
2)將步驟1)潔凈后的摻硼氧化鋅透明導(dǎo)電玻璃襯底放置于近空間升華系統(tǒng)設(shè)備中,真空壓力為0.1~5pa,蒸發(fā)源重量為0.2~4g,所述蒸發(fā)源是Sb2S3、Sb2Se3或Sb2(S,Se)3,所述摻硼氧化鋅透明導(dǎo)電玻璃襯底與蒸發(fā)源距離調(diào)整為5~20mm,所述摻硼氧化鋅透明導(dǎo)電玻璃襯底溫度調(diào)整為200~350℃,所述蒸發(fā)源的溫度升至為150~400℃保持5-30min,當(dāng)所述蒸發(fā)源的溫度升至450~600℃時(shí),開(kāi)啟襯底擋板,持續(xù)蒸發(fā)10~120s,沉積結(jié)束后,自然冷卻至室溫取出,得到銻基納米棒陣列異質(zhì)結(jié);
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過(guò)該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
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