[發(fā)明專利]防粘構(gòu)件一體型轉(zhuǎn)印片、以及該轉(zhuǎn)印片和印刷物的制造方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202210531810.4
• 申請日: 2018-02-16
• 公開（公告）號: CN115056594A
• 公開（公告）日: 2022-09-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 吉野周平;與田晉也
• 申請（專利權(quán)）人: 大日本印刷株式會社
• 主分類號: B44C1/17
• 分類號: B44C1/17;B41M5/382;B41M5/41;B41M5/42;B41M5/44;B41M5/50;B41M5/52;B41J2/00;B41J2/325;B32B7/12;B32B7/06;B32B27/32;B32B27/00;B32B27/08
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 崔立宇;龐東成

1.一種防粘構(gòu)件一體型轉(zhuǎn)印片，其中，在第一支撐體上設(shè)置有粘合層的防粘構(gòu)件和在第二支撐體上設(shè)置有轉(zhuǎn)印層的轉(zhuǎn)印片按照所述粘合層與所述第二支撐體相向的方式形成一體，

所述轉(zhuǎn)印層能夠從所述第二支撐體剝離，

所述第二支撐體與所述粘合層的粘接力小于所述第一支撐體與所述粘合層的粘接力，由此，所述轉(zhuǎn)印片能夠從所述防粘構(gòu)件分離。

2.如權(quán)利要求1所述的防粘構(gòu)件一體型轉(zhuǎn)印片，其中，所述轉(zhuǎn)印片是在所述第二支撐體上設(shè)置有包含接受層的轉(zhuǎn)印層的中間轉(zhuǎn)印介質(zhì)。

3.如權(quán)利要求1所述的防粘構(gòu)件一體型轉(zhuǎn)印片，其中，所述防粘構(gòu)件一體型轉(zhuǎn)印片的依照J(rèn)IS-L-1085(1998)測定的基于葛爾萊法的MD方向和TD方向中的任一者或兩者的抗彎性為5mN以上25mN以下。

4.如權(quán)利要求1所述的防粘構(gòu)件一體型轉(zhuǎn)印片，其中，在所述轉(zhuǎn)印片的轉(zhuǎn)印層形成有熱轉(zhuǎn)印圖像。

5.一種印刷物的制造方法，其包括下述工序：

在權(quán)利要求1～3中任一項所述的防粘構(gòu)件一體型轉(zhuǎn)印片的所述轉(zhuǎn)印層形成熱轉(zhuǎn)印圖像的工序；

將包含形成有所述熱轉(zhuǎn)印圖像的轉(zhuǎn)印層的所述轉(zhuǎn)印片從所述防粘構(gòu)件分離的工序；和

將從所述防粘構(gòu)件分離的所述轉(zhuǎn)印片和被轉(zhuǎn)印體進(jìn)行組合，將從防粘構(gòu)件分離的所述轉(zhuǎn)印片的轉(zhuǎn)印層轉(zhuǎn)印到被轉(zhuǎn)印體上的工序。

6.一種轉(zhuǎn)印片的制造方法，其包括下述工序：

在權(quán)利要求1～3中任一項所述的防粘構(gòu)件一體型轉(zhuǎn)印片的所述轉(zhuǎn)印層形成熱轉(zhuǎn)印圖像的工序；和

將包含形成有所述熱轉(zhuǎn)印圖像的轉(zhuǎn)印層的所述轉(zhuǎn)印片從所述防粘構(gòu)件分離的工序。

7.如權(quán)利要求6所述的轉(zhuǎn)印片的制造方法，其還包括對從所述防粘構(gòu)件分離的轉(zhuǎn)印片進(jìn)行卷取的工序。

8.一種印刷系統(tǒng)，其為與權(quán)利要求1～3中任一項所述的防粘構(gòu)件一體型轉(zhuǎn)印片組合使用的印刷系統(tǒng)，其包括：

在所述防粘構(gòu)件一體型轉(zhuǎn)印片的所述轉(zhuǎn)印層上形成熱轉(zhuǎn)印圖像的圖像形成單元；

將所述轉(zhuǎn)印片從所述防粘構(gòu)件分離的分離單元；和

將從防粘構(gòu)件分離的轉(zhuǎn)印片的轉(zhuǎn)印層轉(zhuǎn)印到被轉(zhuǎn)印體上的轉(zhuǎn)印單元。

9.一種印刷系統(tǒng)，其為與權(quán)利要求1～3中任一項所述的防粘構(gòu)件一體型轉(zhuǎn)印片組合使用的印刷系統(tǒng)，其包括：

在所述防粘構(gòu)件一體型轉(zhuǎn)印片的所述轉(zhuǎn)印層上形成熱轉(zhuǎn)印圖像的圖像形成單元；和

將所述轉(zhuǎn)印片從所述防粘構(gòu)件分離的分離單元。

10.如權(quán)利要求9所述的印刷系統(tǒng)，其還包括對從所述分離單元分離的所述轉(zhuǎn)印片和所述防粘構(gòu)件中的任一者或兩者進(jìn)行卷取的卷取單元。