[發明專利]一種用于輻射制冷的聚二甲基硅氧烷基質復合材料有效
| 申請號： | 202210527762.1 | 申請日： | 2022-05-16 |
| 公開（公告）號： | CN114752220B | 公開（公告）日： | 2023-10-13 |
| 發明（設計）人： | 李姝靚;麥賢敏;王曉亮 | 申請（專利權）人： | 西南民族大學 |
| 主分類號： | C08L83/04 | 分類號： | C08L83/04;C08L71/00;C08K3/22;C08K3/36;C08K3/38;C08K3/34;C09K5/14 |
| 代理公司： | 上海邦德專利代理事務所(普通合伙) 31312 | 代理人： | 梁劍 |
| 地址： | 610093 四川*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 輻射 制冷 聚二甲基硅氧烷 基質 復合材料 | ||
1.一種用于輻射制冷的聚二甲基硅氧烷基質復合材料的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
步驟1：制備不含表面活性劑的油包油乳液
將納米粒子加入到全氟聚醚(PFPE)中，攪拌使其分散均勻，再加入聚二甲基硅氧烷(PDMS)預聚物，最后攪拌，得到白色乳液；
步驟2：涂層成膜
將步驟(1)中的白色乳液澆筑在基材上，形成平整涂層，最后將涂層固化，即可得到摻雜納米粒子的PDMS基質復合材料。
2.根據權利要求1所述的聚二甲基硅氧烷基質復合材料的制備方法，其特征在于，所述步驟1中PDMS預聚物、PFPE和納米粒子的質量比為10:1:0.01-1:10:1。
3.根據權利要求1-2中任一項所述的聚二甲基硅氧烷基質復合材料的制備方法，其特征在于：所述步驟1中納米粒子包括二氧化硅、氧化鈦、氧化鋁、氧化鎂、氧化鋅、氧化鋯、氧化釔、氮化硼或氮化硅顆粒中的任意一種或者多種組合。
4.根據權利要求3所述的聚二甲基硅氧烷基質復合材料的制備方法，其特征在于：所述納米粒子的平均粒徑為10-500nm。
5.根據權利要求2中所述的聚二甲基硅氧烷基質復合材料的制備方法，其特征在于：所述步驟2中固化溫度為25-150℃。
6.根據權利要求5中所述的聚二甲基硅氧烷基質復合材料的制備方法，其特征在于：在室溫下固化時間大于48h，在100℃下固化時間為35分鐘，在125℃下固化時間為20分鐘，在150℃下固化時間為10分鐘。
7.根據權利要求1-6中任一項所述的聚二甲基硅氧烷基質復合材料的制備方法制得的聚二甲基硅氧烷基質復合材料。
8.根據權利要求7中所述的聚二甲基硅氧烷基質復合材料可應用于建筑物制冷、冷凝水收集、舒適衣物與太陽能電池降溫領域。
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