[發明專利]一種雙相高耐蝕銅箔及其制備方法

在審

• 申請號: 202210525914.4
• 申請日: 2022-05-16
• 公開（公告）號: CN115058621A
• 公開（公告）日: 2022-09-16
• 發明（設計）人: 武玉英;韓俊青
• 申請（專利權）人: 山東大學
• 主分類號: C22C9/00
• 分類號: C22C9/00;C22C1/02;C23C14/16;C23C14/35
• 代理公司: 濟南金迪知識產權代理有限公司 37219
• 代理人: 王楠

1.一種雙相高耐蝕銅箔，其特征在于，其厚度為1-10μm，該銅箔組分是在純銅的基礎上添加微量元素鈰(Ce)和硼(B)，各元素的質量百分比為：B 0.2-1，Ce 0.01-0.03，其余為銅。

2.一種雙相高耐蝕銅箔的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

(1)按質量百分比稱取原料，銅98.97-99.79％，純硼0.2-1％，稀土Ce 0.01-0.03％；

(2)采用石墨坩堝在真空熔煉爐中熔煉，將純度為99.99％的Cu塊、純度為99.9％的B顆粒、純度為99.9％的Ce顆粒放在真空熔煉爐中的石墨坩堝中，關閉爐門并抽真空至1×10^-2Pa以下，采用氬氣氣氛保護防止氧化，控制熔煉電流直至合金塊全部熔化，在真空熔煉爐中將銅合金熔體澆注于圓形銅模具中；

(3)將澆注的胚料加工成圓餅狀；

(4)將圓餅狀材料利用磁控濺射設備濺射到鈦板上；

(5)將濺射得到的銅箔從鈦板上取下。

3.根據權利要求2所述的雙相高耐蝕銅箔的制備方法，其特征在于，步驟(1)中，三種原料以純度為99.99％的銅塊、純度為99.9％的B顆粒和純度為99.9％的Ce顆粒的形式加入。

4.根據權利要求2所述的雙相高耐蝕銅箔的制備方法，其特征在于，步驟(2)中，控制熔煉電流在500A以上直至合金塊全部熔化，在450A熔煉電流下保溫3分鐘，隨后在真空熔煉爐中將銅合金熔體澆注于圓形銅模具中。

5.根據權利要求2所述的雙相高耐蝕銅箔的制備方法，其特征在于，步驟(4)中，設置真空度為4×10^-4Pa，工作氣壓0.6Pa，氬氣流量50sccm，濺射功率100W，濺射時間60-240min，加熱溫度100-170℃。