[發(fā)明專利]一種鐳射膜表面涂布系統(tǒng)

有效

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• 申請日: 2022-05-12
• 公開（公告）號: CN114713439B
• 公開（公告）日: 2023-01-24
• 發(fā)明（設計）人: 何毅松;徐建林
• 申請（專利權）人: 紹興毅龍鐳射科技有限公司
• 主分類號: B05C1/08
• 分類號: B05C1/08;B05C13/02
• 代理公司: 紹興普華聯(lián)合專利代理事務所(普通合伙) 33274
• 代理人: 單棋炳

本發(fā)明公開一種鐳射膜表面涂布系統(tǒng)，涉及鐳射膜生產(chǎn)設備，其技術方案要點是：包括涂布輥以及導輥組件，所述導輥組件用于傳導輸送鐳射膜，鐳射膜在輸送過程中兩側經(jīng)過涂布輥的外周并相互接觸，所述涂布輥的旋轉方向與鐳射膜的輸送方向相反；所述涂布輥用于在接觸位置涂布鐳射膜，所述涂布輥與鐳射膜的輸送方向傾斜。本發(fā)明通過采用差速旋轉的方式，能夠提高對薄膜表面的試劑涂布效率，提高表面涂布的完整性和均勻性。

技術領域

本發(fā)明涉及鐳射膜生產(chǎn)設備，更具體地說，它涉及一種鐳射膜表面涂布系統(tǒng)。

背景技術

鐳射膜在使用過程中，需要根據(jù)不同的使用環(huán)境和使用要求，在鐳射膜的表面涂布離型層、粘結層或者其他功能的試劑；待涂布的試劑，通過涂布設備，在膜體的表面進行涂布加工，在膜的表面形成所需的涂層，涂布過程中，需要確保膜體的表面被完全覆蓋，方能達到穩(wěn)定的涂布層的性能。

目前的涂布設備往往采用附著試劑的輥體對膜體的表面進行涂布，涂布過程中，膜順著輥組件的導向和輸送，實現(xiàn)膜的輸送。輸送過程中，膜體繞經(jīng)涂布輥，涂布輥與膜體實現(xiàn)同步轉動，通過涂布輥與膜體之間的相互接觸從而實現(xiàn)膜體表面的試劑涂布。由于涂布輥與膜體之間同步運動，因此涂布輥與膜體表面的接觸位置僅產(chǎn)生相互擠壓接觸，僅通過相對靜態(tài)擠壓的接觸，可能無法達到完整涂布的效果，在涂布過程中可能存在局部涂布的缺失的情況。

為了提高涂布的效果，往往需要采用多組涂布輥，進行重復涂布的方式才能夠實現(xiàn)，浪費試劑材料，而且影響生產(chǎn)的經(jīng)濟效益。

因此需要提出一種新的方案來解決這個問題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于解決上述問題而提供一種鐳射膜表面涂布系統(tǒng)，通過采用差速旋轉涂布的方式，能夠提高表面涂布的完整性和均勻性。

本發(fā)明的上述技術目的是通過以下技術方案得以實現(xiàn)的：一種鐳射膜表面涂布系統(tǒng)，包括涂布輥以及導輥組件，所述導輥組件用于傳導輸送鐳射膜，鐳射膜在輸送過程中兩側經(jīng)過涂布輥的外周并相互接觸，所述涂布輥的旋轉方向與鐳射膜的輸送方向相反；所述涂布輥用于在接觸位置涂布鐳射膜，所述涂布輥與鐳射膜的輸送方向傾斜。

本發(fā)明進一步設置為，所述導輥組件包括兩個上導輥和下導輥，兩個上導輥平行等高，下導輥位于兩個上導輥之間的下側位置，鐳射膜繞過兩個上導輥和下導輥，并在上導輥和下導輥之間形成涂布間隙；所述涂布輥設置在涂布間隙內(nèi)，且兩端上下傾斜。

本發(fā)明進一步設置為，涂布間隙兩側的鐳射膜平行，且寬度與涂布輥的外徑一致；所述涂布輥與涂布間隙兩側的鐳射膜均平行。

本發(fā)明進一步設置為，所述導輥組件的兩側均設置有糾偏裝置。

本發(fā)明進一步設置為，所述涂布輥的上側設置有勻料輥，所述勻料輥與涂布輥平行，且外周周面相抵；所述勻料輥和涂布輥的兩端均通過旋轉座旋轉支撐，并保持同步傾斜。

本發(fā)明進一步設置為，所述勻料輥位于涂布間隙內(nèi)，且勻料輥的外徑較涂布間隙的寬度小；涂料輥的外周一側與涂布間隙的輸出一側的鐳射膜接觸。

本發(fā)明進一步設置為，所述涂布輥包括內(nèi)輥體和外輥體，所述外輥體套設于內(nèi)輥體外，內(nèi)輥體中空并在外周開設若干通孔一；所述外輥體上開設若干孔洞。

本發(fā)明進一步設置為，所述外輥體的中間設置環(huán)形腔，外輥體上的孔洞包括外輥體內(nèi)層的通孔二和外輥體外層的通孔三；所述通孔二與通孔一位置一一對應。

本發(fā)明進一步設置為，所述外輥體轉動連接于內(nèi)管體外周，并通過外輥體兩端的限位機構實現(xiàn)轉動角度轉動限位；所述限位機構包括開設在外輥體內(nèi)周的環(huán)形的限位腔，所述限位腔的內(nèi)周固定有限位塊二，所述外輥體外周對應于限位塊二的兩側固定連接有限位塊一，所述限位塊一與限位塊二之間彈性抵壓有限位彈簧；所述外輥體內(nèi)層上的通孔二的寬度較內(nèi)輥體上的通孔一大，所述外輥體相對內(nèi)輥體轉動后，通孔一、通孔二部分錯位。