[發明專利]一種低渦流損耗釹鐵硼磁體

在審

• 申請號: 202210503926.7
• 申請日: 2022-05-10
• 公開（公告）號: CN114823025A
• 公開（公告）日: 2022-07-29
• 發明（設計）人: 毛華云;黃治鋒;劉侃;蔡華平;劉永;詹益街
• 申請（專利權）人: 江西金力永磁科技股份有限公司
• 主分類號: H01F1/057
• 分類號: H01F1/057
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 劉樂

1.一種開槽釹鐵硼磁體，其特征在于，所述開槽釹鐵硼磁體包括未經滲透處理的釹鐵硼磁方塊磁體；

以及設置在上述釹鐵硼磁方塊磁體表面上的槽；

所述槽中設置有重稀土漿料。

2.根據權利要求1所述的開槽釹鐵硼磁體，其特征在于，所述槽的數量包括1個或多個；

所述槽的平面尺寸為0.05～1.0mm；

所述槽的深度為釹鐵硼磁體厚度的1％～80％；

所述槽的形狀包括矩形槽、V型槽、U型槽和圓形槽中的一種或多種。

3.根據權利要求1所述的開槽釹鐵硼磁體，其特征在于，所述磁體表面的槽在磁體平面方向上，包括貫通槽和/或非貫通槽；

所述槽在磁體垂直方向上，為不貫通槽；

所述槽數量為多個時，槽與槽之間的間距包括等間距和/或不等間距；

所述間距為0.5～100mm。

4.根據權利要求1所述的開槽釹鐵硼磁體，其特征在于，所述槽的長度方向與槽所在磁體平面的任意邊的夾角為0°～90°；

所述開槽釹鐵硼磁體具有槽的表面包括一個或多個。

5.根據權利要求1所述的開槽釹鐵硼磁體，其特征在于，具有所述槽的表面包括垂直于釹鐵硼磁體取向方向上的一個或多個表面，和/或，平行于釹鐵硼磁體取向方向上的一個或多個表面；

所述開槽的方式包括多線開槽、電火花開槽、砂輪開槽、內圓切割開槽、外圓切割開槽和水刀切割開槽中的一種或多種。

6.根據權利要求1所述的開槽釹鐵硼磁體，其特征在于，所述重稀土漿料包括重稀土材料和溶劑；

所述重稀土材料包括鋱粉、氟化鋱粉、鏑粉、氟化鏑粉以及含鏑和/或鋱的重稀土合金粉中一種或多種；

所述溶劑包括汽油、乙醇、丙烯酸和環氧漆中的一種或多種；

所述重稀土漿料中，重稀土材料和溶劑的質量比為1：(2～6)。

7.根據權利要求6所述的開槽釹鐵硼磁體，其特征在于，所述重稀土合金粉的通式為HRE-X；

所述HRE包括Dy和/或Tb；

所述X包括Pr、Nd、Al、Cu、Ga、Ni、Co、Fe、Zr、Nb、Ti、Hf、W和V中的一種或多種。

8.一種釹鐵硼磁體，其特征在于，所述釹鐵硼磁體由權利要求1～7任意一項所述的開槽釹鐵硼磁體經晶界擴散處理后得到。

9.根據權利要求8所述的釹鐵硼磁體，其特征在于，所述晶界擴散處理包括在第一溫度下進行熱處理和第二溫度下進行擴散處理；

所述第一溫度為350～450℃；

所述熱處理的時間為3～5h；

所述第二溫度為710～1000℃；

所述擴散處理的時間為1～50h。

10.根據權利要求8所述的釹鐵硼磁體，其特征在于，所述晶界擴散處理后還包括時效處理步驟；

所述時效處理的溫度為400～600℃；

所述時效處理的時間為4～6h；

所述釹鐵硼磁體為低渦流損耗釹鐵硼磁體。