[發(fā)明專利]一種改善噴涂粒子沉積環(huán)境的裝置和方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210491491.9 | 申請(qǐng)日: | 2022-05-07 |
| 公開(公告)號(hào): | CN114921745A | 公開(公告)日: | 2022-08-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉富強(qiáng);張治民;侯華;周琱玉;方敏;李志勇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中北大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C23C4/129 | 分類號(hào): | C23C4/129;C23C4/131;C23C4/134;C23C24/04 |
| 代理公司: | 太原高欣科創(chuàng)專利代理事務(wù)所(普通合伙) 14109 | 代理人: | 張敏;崔雪花 |
| 地址: | 030051*** | 國省代碼: | 山西;14 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 改善 噴涂 粒子 沉積環(huán)境 裝置 方法 | ||
1.一種改善噴涂粒子沉積環(huán)境的裝置,其特征在于,在噴槍(1)的噴管(3)與基體(14)之間設(shè)置有隔板(8),所述隔板(8)上設(shè)置有貫穿的控制孔(9);所述控制孔(9)的幾何中心位于噴管(3)的軸線上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種改善噴涂粒子沉積環(huán)境的裝置,其特征在于,所述控制孔(9)的剖面為喇叭狀,喇叭口一端與基體(14)相鄰。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種改善噴涂粒子沉積環(huán)境的裝置,其特征在于,所述隔板(8)垂直于噴管(3)軸線。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種改善噴涂粒子沉積環(huán)境的裝置,其特征在于,所述隔板(8)通過剛性連接桿(5)與噴槍(1)相連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種改善噴涂粒子沉積環(huán)境的裝置,其特征在于,所述剛性連接桿(5)設(shè)置有桿長調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)(6)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種改善噴涂粒子沉積環(huán)境的裝置,其特征在于,所述隔板(8)內(nèi)設(shè)置有冷卻孔道(15)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種改善噴涂粒子沉積環(huán)境的裝置,其特征在于,所述冷卻孔道(15)的入口位于隔板(8)底部,出口位于隔板(8)頂部。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種改善噴涂粒子沉積環(huán)境的裝置,其特征在于,所述隔板(8)內(nèi)設(shè)置有保護(hù)氣孔道(16)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種改善噴涂粒子沉積環(huán)境的裝置,其特征在于,保護(hù)氣孔道(16)的入口位于隔板(8)的頂部和底部,出口位于隔板(8)中心區(qū)域,并以控制孔(9)為中心圓形排列。
10.使用如權(quán)利要求1-9任意一項(xiàng)所述裝置的一種改善噴涂粒子沉積環(huán)境的方法,其特征在于,通過噴槍噴管將粒子沿控制孔噴出,使粒子噴涂在基體上。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C4-00 熔融態(tài)覆層材料噴鍍法,例如火焰噴鍍法、等離子噴鍍法或放電噴鍍法的鍍覆
C23C4-02 .待鍍材料的預(yù)處理,例如為了在選定的表面區(qū)域鍍覆
C23C4-04 .以鍍覆材料為特征的
C23C4-12 .以噴鍍方法為特征的
C23C4-18 .后處理
C23C4-14 ..用于長形材料的鍍覆
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