[發明專利]D-A型三芳基膦化合物及其合成方法與應用

在審

• 申請號: 202210489115.6
• 申請日: 2022-05-10
• 公開（公告）號: CN114920774A
• 公開（公告）日: 2022-08-19
• 發明（設計）人: 何自開;唐春霖
• 申請（專利權）人: 哈爾濱工業大學（深圳）
• 主分類號: C07F9/50
• 分類號: C07F9/50;C09K9/02
• 代理公司: 深圳市添源創鑫知識產權代理有限公司 44855
• 代理人: 姜書新

本發明屬于有機發光材料技術領域，具體涉及D?A型三芳基膦化合物及其合成方法與應用。本發明的D?A型三芳基膦化合物的光誘導自由基具有較好的順磁性、熱穩定性、電化學穩定性和光穩定性，可依據CP?DMA的獨特性質開發其在光電磁領域的應用。

技術領域

本發明屬于有機發光材料技術領域，具體涉及D-A型三芳基膦化合物及其合成方法與應用。

背景技術

由于自由基的合成方法十分有限，穩定有機發光自由基的種類很少，主要集中于三芳基甲基自由基。三芳基甲基自由基主要包括PTM類發光自由基、三(2,4,6-三氯代苯)甲基(TTM) 類發光自由基和3,5-二氯吡啶二(2,4,6-三氯代苯)甲基(PyBTM)類發光自由基。過去幾十年以來，在這三種自由基基礎上，科學家們通過引入不同的基團來調節發光自由基的光電性質，獲得了一系列的穩定碳自由基，但是這些自由基的發光主要集中在橙黃光至近紅外光區域。這些自由基仍屬于三芳基甲基類，且它們的發光效率都不高。

由于自由基的非輻射躍遷速率都比輻射躍遷速率大兩個數量級，說明這些自由基的內轉換速率特別大。大部分自由基中內轉換是由于非對角振動耦合引起的，因此通過適當的分子設計降低分子內振動耦合是提高自由基發光效率的有效途徑。

目前純紅光、綠光發射的自由基材料的相關報道幾乎沒有，藍光發射的自由基材料也較少，新型發光自由基的體系仍需要開發。

發明內容

鑒于現有技術存在的技術問題，本發明提供了D-A型三芳基膦化合物及其合成方法與應用。

本發明設計并合成了D-A型三芳基膦化合物，所述三芳基膦化合物的固態光誘導發光自由基，期待開發一種固態光誘導發光自由基的新體系。該三芳基膦化合物涉及一種強給電子基團N,N-二甲基，以及不同的受體單元。

具體地，本發明通過以下技術方案來實現：

D-A型三芳基膦化合物，選自以下結構式化合物：

其中R₁、R₂、R₃選自H或者Cl，且至少一個為Cl。

作為本發明的一種優選技術方案，所述D-A型三芳基膦化合物為CP-DMP，選自以下結構式化合物：

作為本發明的一種優選技術方案，所述D-A型三芳基膦化合物為DCP-DMP，選自以下結構式化合物：

作為本發明的一種優選技術方案，所述D-A型三芳基膦化合物為TCP-DMP，選自以下結構式化合物：

進一步的，本發明提供了具體化合物的制備方法，包括：

首先選用一個強給電子基團N,N-二甲基，通過特殊的反應方法與兩個經氯原子修飾的苯基結合得到一種新型的三苯基膦化合物CP-DMA。之后，繼續合成不同受體的D-A型三芳基膦化合物DCP-DMA與TCP-DMA。

具體地，通過以下路線得到具有固態光誘導發光自由基性質的三芳基膦化合物，

其中，R選自H或者Cl，且至少一個為Cl。

本發明進一步提供了所述化合物作為自由基材料的應用。

本發明通過UV-Vis光譜，穩態熒光光譜以及瞬態熒光光譜，EPR光譜等技術手段研究 TCP-DMA的光物理性質。之后，將通過理論計算結合光物理實驗結果分析其光誘導發光自由基產生的原因，研究D-A型三芳基膦化合物的結構與性質之間的關系。

本發明相對于現有技術的有益效果包括：