[發明專利]使用光致發光光譜的用于OLED制造的計量

在審

• 申請號: 202210477842.0
• 申請日: 2019-03-29
• 公開（公告）號: CN114994000A
• 公開（公告）日: 2022-09-02
• 發明（設計）人: 阿維舍克·古什;郭秉圣;羅伯特·簡·維瑟;托德·伊根;岡加達爾·班納帕納瓦爾;迪內什·卡布拉
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: G01N21/63
• 分類號: G01N21/63;G01N21/64
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國;趙靜

1.一種設備，包括：

光源，所述光源被配置為產生激發光，所述激發光包含來自可見或近可見光譜的光；

光學組件，所述光學組件被配置為將所述激發光引導到形成在基板上的光致發光(PL)層上；

檢測器，所述檢測器被配置為：

接收PL發射，所述PL發射由所述PL層響應于與所述PL層相互作用的所述激發光而產生，以及

基于所述PL發射產生信號；以及

計算裝置，所述計算裝置耦接至所述檢測器，且所述計算裝置被配置為：

接收來自所述檢測器的所述信號，

基于與所述PL發射相關聯的瞬態PL強度信息確定所述PL層的摻雜劑的濃度，其中所述瞬態PL強度信息包括所述PL發射的PL強度隨著時間的衰減，以及

基于在一波長范圍內所述PL發射的總光子計數來確定所述摻雜劑的所述濃度。

2.如權利要求1所述的設備，其中所述PL發射的PL強度隨著時間的衰減速率與所述PL層的厚度無關。

3.如權利要求1所述的設備，其中所述PL發射包含具有在可見光譜中的波長的光。

4.如權利要求1所述的設備，其中所述光學組件包含：

物鏡，所述物鏡被配置為將所述激發光引導至所述PL層；以及

二向色鏡，所述二向色鏡被配置為將所述激發光引導至所述物鏡并透射所述PL發射。

5.如權利要求1所述的設備，其中所述光學組件包含第一光纖，所述第一光纖被配置為將所述激發光的至少第一部分引導至所述PL層上的第一測量位置。

6.如權利要求5所述的設備，其中所述光學組件進一步包含第二光纖，所述第二光纖被配置為將所述激發光的第二部分引導至所述PL層上的第二測量位置。

7.如權利要求1所述的設備，其中所述檢測器被配置為用于進行PL發射的單光子定時記錄。

8.如權利要求6所述的設備，其中所述光學組件進一步包含分光器，所述分光器被配置為將所述激發光的所述第一部分引導至所述第一光纖，并將所述激發光的所述第二部分引導至所述第二光纖。

9.如權利要求1所述的設備，其中：

所述檢測器包含檢測器陣列，所述檢測器陣列被配置為在不同時間產生多個PL強度值；并且

所述計算裝置被配置為基于所述多個PL強度值構建PL強度曲線并將所述PL強度曲線與校準曲線比較。

10.如權利要求1所述的設備，其中所述檢測器包含線性陣列，所述線性陣列被配置為測量來自所述基板的表面上的多個位置的所述PL發射，所述表面從所述基板的一側延伸至所述基板的相對側。

11.如權利要求1所述的設備，其中所述計算裝置被配置為基于所述PL層的厚度確定所述摻雜劑的所述濃度。

12.一種確定光致發光(PL)層的特性的方法，所述光致發光(PL)層設置在基板上，所述方法包含：

產生激發光，所述激發光包含來自可見或近可見光譜的光；

接收PL發射，所述PL發射由所述PL層響應于與所述PL層相互作用的所述激發光而產生；

基于所述PL發射產生信號；以及

基于所述信號確定所述PL層的所述特性，其中所述PL層的所述特性包含所述PL層的摻雜劑的濃度并且基于與所述PL發射相關聯的瞬態PL強度信息、所述PL發射的靜態PL強度值和所述PL層的厚度。

13.如權利要求12所述的方法，其中所述瞬態PL強度信息與所述PL層的厚度無關。

14.如權利要求12所述的方法，其中所述瞬態PL強度信息包含所述PL發射的PL強度隨著時間的衰減。