[發明專利]一種置于多孔介質背景的隱身斗篷及應用

在審

• 申請號: 202210475965.0
• 申請日: 2022-04-29
• 公開（公告）號: CN114722739A
• 公開（公告）日: 2022-07-08
• 發明（設計）人: 陳夢謠;沈翔瀛;徐磊
• 申請（專利權）人: 香港中文大學
• 主分類號: G06F30/28
• 分類號: G06F30/28;A41D3/08;G06F113/08;G06F119/14
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 劉二艷

1.一種置于多孔介質背景的隱身斗篷，其特征在于，所述隱身斗篷包括隱身區和包覆隱身區的隱身斗篷殼層；

所述隱身斗篷殼層材料的滲透率滿足如下式I或式II中的任一種：

k_s＝(R₂²+R₁²)/(R₂²-R₁²)×k_b 式I；

k_s＝(2R₂³+R₁³)/(2(R₂³-R₁³))×k_b 式II；

其中，k_s為隱身斗篷殼層材料的水力滲透率，k_b為多孔介質背景的水力滲透率，R₁為隱身區域的重心與隱身區域邊界的距離；R₂為隱身區域的重心與隱身斗篷殼層遠離隱身區域一側的距離。

2.根據權利要求1所述的隱身斗篷，其特征在于，所述隱身斗篷為二維隱身斗篷或三維隱身斗篷；

優選地，所述隱身斗篷為二維隱身斗篷，所述隱身斗篷殼層材料的滲透率為：

k_s＝(R₂²+R₁²)/(R₂²-R₁²)×k_b；

其中，k_s、k_b、R₁、R₂具有與權利要求1相同的保護范圍。

3.根據權利要求2所述的隱身斗篷，其特征在于，所述隱身斗篷為三維隱身斗篷，所述隱身斗篷殼層材料的滲透率為：

k_s＝(2R₂³+R₁³)/(2(R₂³-R₁³))×k_b；

其中，k_s、k_b、R₁、R₂具有與權利要求1相同的保護范圍。

4.根據權利要求1-3任一項所述的隱身斗篷，其特征在于，所述多孔介質背景為各向同性多孔介質背景。

5.根據權利要求1-4任一項所述的隱身斗篷，其特征在于，所述多孔介質背景由背景單元陣列排布得到或者由非均質多孔材料構成；

優選地，所述非均質多孔材料選自土壤、巖石、礦物質層中的任意一種或至少兩種的組合。

6.根據權利要求1-5任一項所述的隱身斗篷，其特征在于，所述隱身區為由圓滑曲線或者圓滑曲面構成的封閉區域。

7.根據權利要求1-6任一項所述的隱身斗篷，其特征在于，所述隱身區選自圓形、橢圓形、球體或橢球體中的任意一種。

8.根據權利要求1-7任一項所述的隱身斗篷，其特征在于，所述隱身區的水力滲透率為0。

9.根據權利要求1-8任一項所述的隱身斗篷，其特征在于，所述(R₂-R₁)/R₁＜0.02；

優選地，所述(R₂-R₁)/R₁＜0.01；

其中，R₁、R₂具有與權利要求1相同的保護范圍。

10.一種如權利要求1-9任一項所述的隱身斗篷在流場環境中的應用，其特征在于，所述流場環境的雷諾數＜1。