[發(fā)明專利]一種人臉檢測(cè)方法、裝置、設(shè)備、介質(zhì)以及產(chǎn)品

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202210471348.3
• 申請(qǐng)日: 2022-04-28
• 公開（公告）號(hào): CN114913578A
• 公開（公告）日: 2022-08-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 賀克賽
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 際絡(luò)科技（上海）有限公司
• 主分類號(hào): G06V40/16
• 分類號(hào): G06V40/16;G06N3/04;G06N3/08;G06V10/25;G06V10/82
• 代理公司: 北京路浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002
• 代理人: 李相雨

本發(fā)明提供一種人臉檢測(cè)方法、裝置、設(shè)備、介質(zhì)以及產(chǎn)品，包括：將待檢測(cè)的人臉圖片輸入預(yù)先訓(xùn)練好的人臉檢測(cè)模型，預(yù)先訓(xùn)練好的人臉檢測(cè)模型對(duì)待檢測(cè)的人臉圖片進(jìn)行第一局部部位檢測(cè)，得到第一局部部位檢測(cè)結(jié)果；其中，預(yù)先訓(xùn)練好的人臉檢測(cè)模型包括第一特征提取模塊、第一局部部位特征注意力模塊與第一局部部位特征預(yù)測(cè)模塊；第一特征提取模塊對(duì)待檢測(cè)的人臉圖片進(jìn)行特征提取得到第一降維后人臉特征圖，第一局部部位特征注意力模塊進(jìn)行強(qiáng)化得到第一強(qiáng)化后局部部位特征，第一局部部位特征預(yù)測(cè)模塊預(yù)測(cè)得到第一局部部位檢測(cè)結(jié)果。本發(fā)明能夠使得各個(gè)檢測(cè)任務(wù)相互獨(dú)立，不干擾，使得人臉檢測(cè)任務(wù)與局部部位檢測(cè)任務(wù)均具有較高的準(zhǔn)確率。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及人臉識(shí)別技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種人臉檢測(cè)方法、裝置、設(shè)備、介質(zhì)以及產(chǎn)品。

背景技術(shù)

人臉識(shí)別技術(shù)是一項(xiàng)新興的生物識(shí)別技術(shù)，是當(dāng)今國(guó)際科技領(lǐng)域攻關(guān)的高精尖技術(shù)，它也是自動(dòng)人臉識(shí)別系統(tǒng)中的一個(gè)關(guān)鍵環(huán)節(jié)。雖然人臉識(shí)別技術(shù)目前已經(jīng)非常成熟，但是在實(shí)際應(yīng)用場(chǎng)景中由于人臉具有相當(dāng)復(fù)雜的細(xì)節(jié)變化，例如，口罩遮擋與眼鏡遮擋等局部飾品的影響，這些外在因素的變化使得人臉檢測(cè)成為人臉識(shí)別系統(tǒng)中一個(gè)復(fù)雜的具有挑戰(zhàn)性的模式檢測(cè)問題。

現(xiàn)有技術(shù)中出現(xiàn)了在人臉識(shí)別的基礎(chǔ)上進(jìn)行口罩檢測(cè)或眼鏡檢測(cè)的模型，但是其只注重口罩檢測(cè)或眼鏡檢測(cè)這單一任務(wù)的準(zhǔn)確率，而難以維持人臉檢測(cè)任務(wù)與口罩檢測(cè)任務(wù)、眼鏡檢測(cè)任務(wù)在準(zhǔn)確率上的平衡。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供一種人臉檢測(cè)方法、裝置、設(shè)備、介質(zhì)以及產(chǎn)品，用以解決上述問題。

本發(fā)明提供一種人臉檢測(cè)方法，包括：

獲取待檢測(cè)的人臉圖片；

將所述待檢測(cè)的人臉圖片輸入預(yù)先訓(xùn)練好的人臉檢測(cè)模型，所述預(yù)先訓(xùn)練好的人臉檢測(cè)模型對(duì)所述待檢測(cè)的人臉圖片進(jìn)行第一局部部位檢測(cè)，得到第一局部部位檢測(cè)結(jié)果；

其中，所述預(yù)先訓(xùn)練好的人臉檢測(cè)模型包括第一特征提取模塊、第一局部部位特征注意力模塊與第一局部部位特征預(yù)測(cè)模塊；

所述第一特征提取模塊對(duì)所述待檢測(cè)的人臉圖片進(jìn)行特征提取得到第一降維后人臉特征圖，所述第一局部部位特征注意力模塊對(duì)所述第一降維后人臉特征圖中第一局部部位特征進(jìn)行強(qiáng)化得到第一強(qiáng)化后局部部位特征，所述第一局部部位特征預(yù)測(cè)模塊基于所述第一強(qiáng)化后局部部位特征預(yù)測(cè)得到所述第一局部部位檢測(cè)結(jié)果。

根據(jù)本發(fā)明提供的一種人臉檢測(cè)方法，所述人臉檢測(cè)模塊還對(duì)所述待檢測(cè)的人臉圖片進(jìn)行第二局部部位檢測(cè)，得到第二局部部位檢測(cè)結(jié)果，其中所述人臉檢測(cè)模塊還包括第二特征提取模塊、第二局部部位特征注意力模塊與第二局部部位特征預(yù)測(cè)模塊；

所述第二特征提取模塊對(duì)所述第一降維后人臉特征圖進(jìn)行特征提取得到第二降維后人臉特征圖，所述第二局部部位特征注意力模塊對(duì)所述第二降維后人臉特征圖中第二局部部位特征進(jìn)行強(qiáng)化得到第二強(qiáng)化后局部部位特征，所述第二局部部位特征預(yù)測(cè)模塊基于所述第二強(qiáng)化后局部部位特征預(yù)測(cè)得到所述第二局部部位檢測(cè)結(jié)果。

根據(jù)本發(fā)明提供的一種人臉檢測(cè)方法，所述第二局部部位檢測(cè)為口罩檢測(cè)；

相應(yīng)地，所述第二局部部位特征注意力模塊為口罩注意力模塊，所述第二局部部位特征預(yù)測(cè)模塊為口罩預(yù)測(cè)模塊；

所述第二局部部位特征注意力模塊對(duì)所述第二降維后人臉特征圖中第二局部部位特征進(jìn)行強(qiáng)化得到第二強(qiáng)化后局部部位特征，所述第二局部部位特征預(yù)測(cè)模塊基于所述第二強(qiáng)化后局部部位特征預(yù)測(cè)得到所述第二局部部位檢測(cè)結(jié)果，包括：

所述口罩注意力模塊對(duì)所述第二降維后人臉特征圖中口罩部位特征進(jìn)行強(qiáng)化得到強(qiáng)化后口罩部位特征，所述口罩預(yù)測(cè)模塊基于所述強(qiáng)化后口罩部位特征預(yù)測(cè)得到所述口罩檢測(cè)結(jié)果。

根據(jù)本發(fā)明提供的一種人臉檢測(cè)方法，所述第一局部部位檢測(cè)為眼鏡檢測(cè)；