[發(fā)明專(zhuān)利]高耐磨含氟抗指紋劑及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210463786.5 | 申請(qǐng)日： | 2022-04-29 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN114686087B | 公開(kāi)（公告）日： | 2022-11-22 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 李偉;譚建華;張星 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 深圳德誠(chéng)達(dá)光電材料有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | C09D175/04 | 分類(lèi)號(hào)： | C09D175/04;C09D7/62;C09D7/63;C08G18/32 |
| 代理公司： | 北京維正專(zhuān)利代理有限公司 11508 | 代理人： | 柯胡成 |
| 地址： | 518100 廣東省深圳市光*** | 國(guó)省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 耐磨 含氟抗 指紋 及其 制備 方法 | ||
1.一種高耐磨含氟抗指紋劑，其特征在于，由包括如下重量份的原料制得：
含氟二醇改性納米二氧化硅10-15份
二異氰酸酯 3-9份
溶劑 37-56份；
所述含氟二醇改性納米二氧化硅是通過(guò)以下任意一種或多種結(jié)構(gòu)式所示的含氟二醇對(duì)納米二氧化硅進(jìn)行改性得到；
含氟二醇的結(jié)構(gòu)式一如下：
HOCH2(CF2)aCH2OH，a取3或4；
含氟二醇結(jié)構(gòu)式二如下：
HO(CH2)pCH((CH2CH2)Rf)(CH2)qOH，p、q均為整數(shù)，且p、q滿足如下關(guān)系式：2≤p+q≤10，Rf為碳原子數(shù)為1～4的全氟烷基；
所述含氟二醇改性納米二氧化硅的制備步驟如下：
將含氟二醇與納米二氧化硅按照重量比1:(0.05～0.5)混合，置于104～105Pa環(huán)境下，升溫至150℃～225℃，保溫反應(yīng)1～3h，得到含氟二醇改性納米二氧化硅。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高耐磨含氟抗指紋劑，其特征在于：當(dāng)所述含氟二醇為結(jié)構(gòu)式二所示時(shí)，p和q的和為4～6，Rf為-CF3或-CF2CF3。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種高耐磨含氟抗指紋劑，其特征在于：當(dāng)所述含氟二醇為結(jié)構(gòu)式二所示時(shí)，p和q的和為5，Rf為-CF3。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高耐磨含氟抗指紋劑，其特征在于：所述納米二氧化硅的粒徑為200nm～500nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高耐磨含氟抗指紋劑，其特征在于：所述含氟二醇與納米二氧化硅的重量比為1:(0.25～0.3)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高耐磨含氟抗指紋劑，其特征在于：所述含氟二醇與納米二氧化硅的制備步驟中反應(yīng)溫度為200℃，反應(yīng)時(shí)間為1.5h。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高耐磨含氟抗指紋劑，其特征在于：可選的，所述原料中還包括端氨基硅烷偶聯(lián)劑，所述端氨基硅烷偶聯(lián)劑的重量份為0.2～1。
8.權(quán)利要求1-7中任意一項(xiàng)所述的一種高耐磨含氟抗指紋劑的制備方法，其特征在于，包括如下制備步驟：按照配方量稱(chēng)取含氟二醇改性納米二氧化硅、二異氰酸酯和溶劑，攪拌共混，得到高耐磨含氟抗指紋劑。
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