[發明專利]掩模護膜、掩模護膜移除方法以及掩模護膜移除裝置

有效

• 申請號: 202210446397.1
• 申請日: 2022-04-26
• 公開（公告）號: CN114815519B
• 公開（公告）日: 2023-07-21
• 發明（設計）人: 侯廣杰;黃執祥;謝超
• 申請（專利權）人: 深圳市龍圖光罩股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F1/62;G03F1/48;B65B69/00
• 代理公司: 廣東普潤知識產權代理有限公司 44804
• 代理人: 寇闖

本發明屬于掩模保護領域，尤其涉及一種掩模護膜、掩模護膜移除方法以及掩模護膜移除裝置，其中，掩模護膜包括支撐框以及保護膜，所述支撐框呈環形并具有在中心軸線延伸方向相對設置的抵靠面以及裝膜面，所述抵靠面以及裝膜面均呈環形，所述抵靠面分為均呈環形的粘接平面以及導流斜面，所述粘接平面開設有多個吸膠孔，所述支撐框開設有與各所述吸膠孔連通的排氣通道，所述排氣通道于外環面開設有一個排氣孔。將掩模護膜從掩模版移除之后，掩模版上不會殘留有粘膠。

技術領域

本發明屬于掩膜保護領域，尤其涉及一種掩模護膜、掩模護膜移除方法以及掩模護膜移除裝置。

背景技術

掩模版在未使用的時候，需要用掩模護膜遮蓋其掩膜圖形面，避免灰塵(dust)或者微塵粒子(Particle)落到掩膜圖形面，其中，掩模護膜包括支撐框以及保護膜，支撐框呈環形并具有在中心軸線延伸方向相對設置的抵靠面以及裝膜面，抵靠面以及裝膜面均呈環形，保護膜連接于裝膜面，并封堵裝膜面圍合形成的環口，抵靠面通過雙面膠與掩模版粘接。基于此，在移除掩模護膜時，通常是采用直接起撬支撐框，但采用此方法，雙面膠上的粘膠容易殘留于掩模版。

發明內容

本發明的目的在于克服上述現有技術的不足，提供了一種掩模護膜、掩模護膜移除方法以及掩模護膜移除裝置，其旨在解決移除掩模護膜時雙面膠上的粘膠容易殘留于掩模版的問題。

本發明是這樣實現的：

一種掩模護膜，包括支撐框以及保護膜，所述支撐框呈環形并具有在中心軸線延伸方向相對設置的抵靠面以及裝膜面，所述抵靠面以及裝膜面均呈環形，所述抵靠面分為均呈環形的粘接平面以及導流斜面，所述粘接平面包括開設有多個吸膠孔，所述支撐框開設有與各所述吸膠孔連通的排氣通道，所述排氣通道于外環面開設有一個排氣孔，所述排氣孔用于與外部負壓發生機構連通，各所述吸膠孔均與所述排氣孔中連通，其中，各所述吸膠孔間隔設置，且均布于所述粘接平面，各所述吸膠孔的孔口直徑0.8mm-1.2mm，任意兩所述吸膠孔之間的最小間距為1.5-2mm，所述導流斜面位于所述粘接平面外環側，所述導流斜面朝所述裝膜面傾斜設置，所述保護膜連接于所述裝膜面，并封堵所述裝膜面圍合形成的環口。

可選地，所述吸膠孔的孔徑沿所述粘接平面指向所述安裝面的方向減縮設置。

本發明還提供一種掩模護膜移除方法，用于將掩模護膜從掩模版上移除，其中，所述掩模護膜為上述的掩模護膜，所述粘接平面與所述掩模版之間通過雙面膠粘接，所述雙面膠從所述粘接平面延伸至所述導流斜面，該移除方法包括以下步驟：

溶膠：向所述導流斜面和所述掩模版之間的間隙注入溶膠劑，并使所述溶膠劑逐漸滲入到所述雙面膠和所述掩模版之間；

吸膠：通過負壓發生機構于所述排氣孔處產生負壓，使所述雙面膠中與各所述吸膠孔對應的部分凸入對應的所述吸膠孔；

固膠：向所述導流斜面和所述掩模版之間的間隙噴射液氮，并使雙面膠固化；

移除：將所述掩模護膜從所述掩模版移除。

可選地，在溶膠步驟中，使所述掩模版和所述掩模護膜傾斜，并使所述掩模版和所述掩模護膜繞所述掩模版的中心軸線轉動，且從上往下向所述導流斜面和所述掩模版之間的間隙注入溶膠劑。

可選地，在固膠步驟中，使所述掩模版和所述掩模護膜傾斜，并使所述掩模版和所述掩模護膜繞所述掩模版的中心軸線轉動，且從上往下向所述導流斜面和所述掩模版之間的間隙噴射液氮。

可選地，在溶膠步驟中，對所述掩模護膜施加遠離所述掩模版的預離力。