[發(fā)明專利]一種用于不銹鋼衛(wèi)浴產(chǎn)品的陶瓷釉及其應(yīng)用

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202210445809.X
• 申請日: 2022-04-26
• 公開（公告）號: CN114873915B
• 公開（公告）日: 2023-09-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 林孝發(fā);林孝山;梁賀;梁會師
• 申請（專利權(quán)）人: 九牧廚衛(wèi)股份有限公司
• 主分類號: C03C8/00
• 分類號: C03C8/00;C25D11/02;C23D5/00;C23D3/00
• 代理公司: 廈門市首創(chuàng)君合專利事務(wù)所有限公司 35204
• 代理人: 張松亭;陳淑嫻

1.一種陶瓷釉不銹鋼衛(wèi)浴產(chǎn)品的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

1）陶瓷釉的原料按重量份包括以下組分：SiO_2?50-60份、Al₂O_3?4-7份、Fe₂O_3?0.03-0.06份、TiO_2?3.1-4.1份、CaO?5.5-6.5份、MgO?0.8-1.2份、Na₂O?7.5-9.0份、K₂O?1.9-2.9份、ZrO₂4.9-6.2份、ZnO?1.5-2.0份、BaO?4.5-5.5份、B₂O₃?4-5份和石墨烯0.5~1.5份；將所述原料除石墨烯之外的組分按配比混合后，添加水進行球磨至粒度10um占比為45%-50%時，添加所述石墨烯，出磨干燥，并磨細至50目~100目粉料；

2）對不銹鋼基材的衛(wèi)浴產(chǎn)品進行表面粗糙化處理；

3）以不銹鋼基材的衛(wèi)浴產(chǎn)品作為陽極，采用電解的方法，使表面形成Al₂O₃薄膜；

4）把高壓靜電發(fā)生器所產(chǎn)生的負高壓電線引入噴槍，使所述粉料帶負電，在壓縮空氣作用下噴覆于帶正電的不銹鋼基材的衛(wèi)浴產(chǎn)品表面形成釉層，噴槍吐出壓力為0.10-0.15MPa，霧化壓力0.3-0.4?MPa；

5）預(yù)熱干燥后置于燒成爐內(nèi)，燒成制度為：最高溫810℃-840℃，最高溫保溫5?min?-30min，爐內(nèi)壓力為負壓；其中所述陶瓷釉在810℃-840℃溫度下的熱膨脹系數(shù)為300×10^-7/℃~350×10^-7/℃；得到陶瓷釉不銹鋼衛(wèi)浴產(chǎn)品。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，原料按重量份包括以下組分：SiO₂55.0份、Al₂O_3?6.0份、Fe₂O_3?0.05份、TiO_2?3.26份、CaO?6.0份、MgO?1.0份、Na₂O?8.6份、K₂O2.5份、ZrO₂?5.82份、ZnO?1.7份、BaO?5.3份、B₂O₃?4.77份和石墨烯1份。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于：步驟2）中，所述粗糙化處理是在不銹鋼基材上部分區(qū)域涂防腐蝕層，置于噴灑三氯化鐵的流水線，腐蝕完畢后去除防腐蝕層，表面便產(chǎn)生紋路。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于：步驟2）中，所述粗糙化處理是使用壓縮空氣為動力將白剛玉砂高速噴射到不銹鋼基材表面，使表面發(fā)生變化得到粗糙度。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于：步驟3）中，所述陽極氧化的電流密度控制在1.2-1.8?A/dm²。

6.一種權(quán)利要求1~5任一項所述制備方法制備的陶瓷釉不銹鋼衛(wèi)浴產(chǎn)品，其特征在于：包括不銹鋼基材、覆設(shè)于不銹鋼基材表面的氧化鋁薄膜和覆設(shè)于氧化鋁薄膜表面的陶瓷釉層。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的陶瓷釉不銹鋼衛(wèi)浴產(chǎn)品，其特征在于：所述陶瓷釉層的厚度為0.5-1.0?mm。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的陶瓷釉不銹鋼衛(wèi)浴產(chǎn)品，其特征在于：所述陶瓷釉不銹鋼衛(wèi)浴產(chǎn)品是臺盆或水龍頭。