[發(fā)明專利]顯示裝置和制造顯示裝置的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210442235.0 | 申請(qǐng)日: | 2022-04-25 |
| 公開(公告)號(hào): | CN115497973A | 公開(公告)日: | 2022-12-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李俊永;宋時(shí)準(zhǔn) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/15 | 分類號(hào): | H01L27/15;H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京鉦霖知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11722 | 代理人: | 李英艷;桑洪偉 |
| 地址: | 韓國(guó)京畿*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示裝置 制造 方法 | ||
1.一種顯示裝置,其中,所述顯示裝置包括:
基底,包括:
第一表面;
第二表面,與所述第一表面背對(duì);以及
側(cè)表面,從所述第一表面延伸到所述第二表面;
膜,具有附接到所述基底的所述第一表面的端部并且從所述端部彎曲以覆蓋所述基底的所述側(cè)表面;以及
覆蓋構(gòu)件,包括:
第一覆蓋部分,設(shè)置在所述基底的所述第一表面上;以及
第二覆蓋部分,設(shè)置在所述基底的所述側(cè)表面上,其中,
所述膜設(shè)置在所述基底的所述第一表面和所述第一覆蓋部分之間以及所述基底的所述側(cè)表面和所述第二覆蓋部分之間,并且
所述第二覆蓋部分具有向外凸出的形狀。
2.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中,
所述第一覆蓋部分具有第一厚度,并且
所述第二覆蓋部分具有小于所述第一厚度的第二厚度。
3.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中,
所述第二覆蓋部分設(shè)置在所述第一覆蓋部分的側(cè)表面上,并且
所述第一覆蓋部分和所述第二覆蓋部分彼此成一體。
4.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中,
所述第二覆蓋部分設(shè)置在所述第一覆蓋部分的側(cè)表面上,并且
所述覆蓋構(gòu)件還包括設(shè)置在所述第一覆蓋部分和所述第二覆蓋部分之間的界面。
5.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中,所述顯示裝置還包括設(shè)置在所述膜和所述基底的所述側(cè)表面之間的填充件。
6.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中,
所述第二覆蓋部分在厚度方向上被一分為二以包括順序地彼此堆疊的第一區(qū)域和第二區(qū)域,并且
所述第一區(qū)域具有比所述第二區(qū)域的厚度大的厚度。
7.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中,所述顯示裝置還包括:
顯示區(qū)域,顯示圖像;以及
非顯示區(qū)域,與所述顯示區(qū)域相鄰,
其中,所述膜和所述覆蓋構(gòu)件設(shè)置在所述非顯示區(qū)域中。
8.如權(quán)利要求7所述的顯示裝置,其中,所述顯示裝置還包括設(shè)置在所述顯示區(qū)域中的多個(gè)像素,
其中,所述多個(gè)像素中的每個(gè)包括無機(jī)發(fā)光元件。
9.一種顯示裝置,其中,所述顯示裝置包括:
基底,包括:
第一表面;
第二表面,與所述第一表面背對(duì);以及
側(cè)表面,從所述第一表面延伸到所述第二表面;
膜,具有附接到所述基底的所述第一表面的端部并且從所述端部彎曲以覆蓋所述基底的所述側(cè)表面;以及
覆蓋構(gòu)件,包括:
第一覆蓋部分,設(shè)置在所述基底的所述第一表面上;以及
第二覆蓋部分,設(shè)置在所述基底的所述側(cè)表面上,其中,
所述第一覆蓋部分具有第一厚度,并且
所述第二覆蓋部分具有小于所述第一厚度的第二厚度。
10.如權(quán)利要求9所述的顯示裝置,其中,
所述第二覆蓋部分設(shè)置在所述第一覆蓋部分的側(cè)表面上,并且
所述覆蓋構(gòu)件還包括設(shè)置在所述第一覆蓋部分和所述第二覆蓋部分之間的界面。
11.如權(quán)利要求9所述的顯示裝置,其中,
所述第二覆蓋部分在厚度方向上被一分為二以包括順序地彼此堆疊的第一區(qū)域和第二區(qū)域,并且
所述第一區(qū)域具有比所述第二區(qū)域的厚度大的厚度。
12.一種制造顯示裝置的方法,其中,所述制造顯示裝置的方法包括:
將附接到基底的第一表面的膜沿著所述基底的側(cè)表面朝向所述基底的第二表面彎曲;
將第一覆蓋材料層施加到所述基底的所述第一表面和所述膜上;以及
將第二覆蓋材料層施加到所述基底的所述側(cè)表面和所述膜上。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于三星顯示有限公司,未經(jīng)三星顯示有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202210442235.0/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
- 氫燃料制造系統(tǒng)、氫燃料制造方法以及氫燃料制造程序
- 單元控制系統(tǒng)、生產(chǎn)系統(tǒng)以及控制方法
- 制造裝置及制造方法以及制造系統(tǒng)
- 一種三相異步電動(dòng)機(jī)制造工藝方法
- 制造設(shè)備、制造裝置和制造方法
- 用于監(jiān)測(cè)光學(xué)鏡片制造過程的方法
- 產(chǎn)品的制造系統(tǒng)、惡意軟件檢測(cè)系統(tǒng)、產(chǎn)品的制造方法以及惡意軟件檢測(cè)方法
- 一種面向制造服務(wù)的制造能力評(píng)估方法
- 一種基于云制造資源的制造能力建模方法
- 制造設(shè)備系統(tǒng)、制造設(shè)備以及制造方法
- 一種數(shù)據(jù)庫(kù)讀寫分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





