[發明專利]校正方法、單目結構光模組、電子設備和存儲介質

在審

• 申請號: 202210438775.1
• 申請日: 2022-04-25
• 公開（公告）號: CN114993617A
• 公開（公告）日: 2022-09-02
• 發明（設計）人: 薛遠;李緒琴;曹天宇;王亞運;季棟;戶磊
• 申請（專利權）人: 合肥的盧深視科技有限公司
• 主分類號: G01M11/02
• 分類號: G01M11/02
• 代理公司: 北京智晨知識產權代理有限公司 11584
• 代理人: 張婧

1.一種校正方法，其特征在于，應用于單目結構光模組，所述單目結構光模組設置有單點測距器，所述方法包括：

獲取所述單目結構光模組對目標場景拍攝的單點圖，并獲取所述單點圖對應的真實距離；其中，所述單點圖為所述單點測距器發射的光束在所述目標場景上的投影點，所述真實距離是由所述單點測距器測量的所述單目結構光模組與所述投影點之間的距離；

獲取所述單目結構光模組對所述目標場景拍攝的場景圖，并在所述場景圖中確定與所述投影點同名的目標點；

根據所述場景圖和預設的參考圖，確定所述目標點對應的視差值；

根據所述目標點對應的視差值、所述參考圖與所述單目結構光模組之間的標定距離和所述真實距離，校正所述單目結構光模組的絕對精度。

2.根據權利要求1所述的校正方法，其特征在于，所述根據所述目標點對應的視差值、所述參考圖與所述單目結構光模組之間的標定距離和所述真實距離，校正所述單目結構光模組的絕對精度，包括：

根據所述目標點對應的視差值，確定所述目標點對應的深度值；

計算所述目標點對應的深度值與所述真實距離之間的差值的絕對值，并判斷所述絕對值是否大于預設的觸發閾值；

在所述絕對值大于預設的觸發閾值的情況下，根據所述目標點對應的視差值、所述參考圖與所述單目結構光模組之間的標定距離和所述真實距離，校正所述絕對精度。

3.根據權利要求1所述的校正方法，其特征在于，所述單點圖包括所述單目結構光模組在不同位置處對目標場景拍攝的若干個單點圖，所述真實距離包括各所述單點圖對應的真實距離，所述場景圖包括所述單目結構光模組在所述不同位置處對所述目標場景拍攝的若干個場景圖，所述目標點為若干個；

所述根據所述目標點對應的視差值、所述參考圖與所述單目結構光模組之間的標定距離和所述真實距離，校正所述單目結構光模組的絕對精度，包括：

根據各所述目標點對應的視差值、所述參考圖與所述單目結構光模組之間的標定距離和各所述真實距離，構建方程組；其中，所述方程組包括未知的第一校正參數和未知的第二校正參數，所述第一校正參數為所述單目結構光模組的真實基線長度與真實焦距的乘積，所述第二校正參數為視差方向的整體偏移誤差；

求解所述方程組，獲得求解出的第一校正參數和求解出的第二校正參數；

用所述求解出的第一校正參數替換所述單目結構光模組的標定基線長度與標定焦距的乘積，并用校正視差替換所述單目結構光模組的標定視差；其中，所述校正視差為所述單目結構光模組的標定視差與所述第二校正參數之和。

4.根據權利要求3所述的校正方法，其特征在于，所述根據各所述目標點對應的視差值、所述參考圖與所述單目結構光模組之間的標定距離和各所述真實距離，構建方程組，包括：

遍歷各所述目標點，根據當前目標點對應的視差值、所述參考圖與所述單目結構光模組之間的標定距離和所述當前目標點對應的真實距離，構建所述當前目標點對應的方程；

根據各所述目標點對應的方程，組成方程組；其中，所述方程的數量至少為2個。

5.根據權利要求4所述的校正方法，其特征在于，通過以下公式，根據當前目標點對應的視差值、所述參考圖與所述單目結構光模組之間的標定距離和所述當前目標點對應的真實距離，構建所述當前目標點對應的方程：

d_p=1/{1/d₀+[e_(Xp,Yp)+e₀]/K}

其中，d_p為所述當前目標點對應的真實距離，d₀為所述參考圖與所述單目結構光模組之間的標定距離，e_(Xp,Yp)為所述當前目標點對應的視差值，K為所述第一校正參數，e₀為所述第二校正參數。