[發(fā)明專利]一種采用PECVD涂層敷形保護(hù)的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210437923.8 | 申請(qǐng)日: | 2022-04-25 |
| 公開(公告)號(hào): | CN114769089A | 公開(公告)日: | 2022-07-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳軍;倪海鷹;周天楠 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 四川大學(xué) |
| 主分類號(hào): | B05D1/00 | 分類號(hào): | B05D1/00;B05D7/14;C09D125/08 |
| 代理公司: | 成都九鼎天元知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 51214 | 代理人: | 劉磊 |
| 地址: | 610041 四川*** | 國(guó)省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 采用 pecvd 涂層 保護(hù) 方法 | ||
本發(fā)明涉及氣相沉積技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種采用PECVD涂層敷形保護(hù)的方法,先在被保護(hù)樣品表面沉積一層催化劑,再注入反應(yīng)氣體,通過(guò)界面反應(yīng)獲得所需要的沉積涂層。可以提高敷形涂層的沉積效率,由過(guò)去的60min縮短致10min以內(nèi)。而且通過(guò)SEM觀察,可以發(fā)現(xiàn)表面差異不大。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及氣相沉積技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種采用PECVD涂層敷形保護(hù)的方法。
背景技術(shù)
目前,金屬表面敷形保護(hù)主要采用噴涂氟碳、有機(jī)硅、丙烯酸、聚氨酯等水性或溶劑型涂料進(jìn)行敷形等防護(hù)。這些方法或多或少都存在一些問(wèn)題:性能不穩(wěn)定;涂層制備精度控制難度大,涂層采用噴涂或浸漬涂敷工藝厚度通常在40-70um,厚度一致性差,無(wú)法實(shí)現(xiàn)厚度精密控制;對(duì)周圍環(huán)境有一定影響等等。
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(簡(jiǎn)稱PECVD)引入了等離子體對(duì)前驅(qū)體氣體分子的激勵(lì)過(guò)程,使前驅(qū)體分子處于較高能級(jí),便于在較溫和的條件下,發(fā)生沉積及成膜反應(yīng),反應(yīng)溫和,對(duì)環(huán)境友好,是作為金屬材料表面敷形防護(hù)的最佳選擇之一。本發(fā)明采用PECVD技術(shù),利用氟碳材料作為前驅(qū)體材料,在金屬表面實(shí)現(xiàn)沉積聚合,可以獲得均勻一致的氟碳保護(hù)涂層,實(shí)現(xiàn)敷形保護(hù)的目的。
目前,PECVD的氣相沉積大多數(shù)還處于實(shí)驗(yàn)研究階段,均是采用氟碳?xì)怏w為材料源進(jìn)行沉積反應(yīng),雖然可以形成氟碳沉積膜層,但也存在一些缺陷如沉積效率低。由于保護(hù)膜層必須在被保護(hù)面形成完整的膜層方能起到作用,而在PECVD氣相沉積成膜過(guò)程中,由于PECVD為等離子引發(fā)自由基反應(yīng),因此在反應(yīng)過(guò)程中,處于氣態(tài)的分子之間也會(huì)發(fā)生聚合反應(yīng),這部分反應(yīng)物沉積在被保護(hù)表面將不能形成連續(xù)膜層,因此不能提供保護(hù),而只有在界面聚合的反應(yīng)所生成的聚合物才能實(shí)現(xiàn)敷形保護(hù)目的,因此總體而言效率較低。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種采用PECVD涂層敷形保護(hù)的方法,解決現(xiàn)有技術(shù)中由于PECVD為等離子引發(fā)自由基反應(yīng),因此在反應(yīng)過(guò)程中,處于氣態(tài)的分子之間也會(huì)發(fā)生聚合反應(yīng),這部分反應(yīng)物沉積在被保護(hù)表面將不能形成連續(xù)膜層等技術(shù)問(wèn)題。
本發(fā)明公開了一種采用PECVD涂層敷形保護(hù)的方法,包括以下步驟,先在被保護(hù)樣品表面沉積一層催化劑,再注入反應(yīng)氣體,通過(guò)界面反應(yīng)獲得所需要的沉積涂層。
進(jìn)一步的,所述催化劑為路易斯酸。
進(jìn)一步的,所述方法還包括以下步驟,
S1,配置催化劑;
S2,將催化劑涂布在被保護(hù)金屬表面,真空干燥后待用;
S3,將被保護(hù)金屬樣品置于真空等離子腔室中,抽真空;
S4,通入氬氣100sccm后放電1min進(jìn)行清洗,并重復(fù)操作一次;
S5,通入沉積氣體,進(jìn)行沉積反應(yīng),最后停止注入沉積氣體,關(guān)閉真空,放氣后取出樣品,完成沉積。
進(jìn)一步的,所述催化劑配置方法為將AlCl3溶于水中,配置成100ppm的溶液。
進(jìn)一步的,所述步驟S3中將真空抽至1.4*101Pa。
進(jìn)一步的,所述步驟S4中輸入電壓為148V,輸入電流為0.5A。
進(jìn)一步的,所述步驟S5中沉積氣體為六氟丙烷、乙烷和苯乙烯蒸汽。
進(jìn)一步的,所述六氟丙烷流量為40sccm,乙烷流量為20sccm,苯乙烯蒸汽流量為10sccm。
進(jìn)一步的,所述步驟S5中放電反應(yīng)10min,輸入電壓為148V,輸入電流為0.5A。
一種路易斯酸的應(yīng)用,在氣相沉積反應(yīng)中作為催化劑。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明具有的有益效果是:
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