[發明專利]實現寬色域反射顏色調制的液晶超表面器件及制備方法有效
| 申請號: | 202210436656.2 | 申請日: | 2022-04-25 |
| 公開(公告)號: | CN114545673B | 公開(公告)日: | 2022-08-12 |
| 發明(設計)人: | 霍德旺;李國強 | 申請(專利權)人: | 之江實驗室 |
| 主分類號: | G02F1/1333 | 分類號: | G02F1/1333;G02F1/1337 |
| 代理公司: | 北京志霖恒遠知識產權代理事務所(普通合伙) 11435 | 代理人: | 奚麗萍 |
| 地址: | 310023 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 實現 寬色域 反射 顏色 調制 液晶 表面 器件 制備 方法 | ||
1.一種實現寬色域反射顏色調制的液晶超表面器件,包括液晶盒與灌注在液晶盒內液晶,其特征在于:所述液晶盒由超表面器件和ITO導電玻璃作為基底組成,所述超表面器件和ITO導電玻璃的內壁上設有光取向薄層,所述超表面器件內壁上的光取向薄層與ITO導電玻璃內壁上的光取向薄層的光取向方向相互垂直;所述液晶盒的基底上連接有導線;所述超表面器件包括ITO導電玻璃基底、透明材料薄層和微納結構,所述微納結構之間的間隙中設有液晶,用于液晶在超表面附近的折射率調制實現寬色域的顏色調制;所述ITO導電玻璃基底的頂面設有透明材料薄層,所述透明材料薄層的頂面設有若干個微納結構,所述微納結構包括透明材料層和金屬層,所述金屬層位于所述透明材料層的上方,所述光取向薄層位于微納結構的上方,所述透明材料層的厚度大于所述光取向薄層的厚度。
2.如權利要求1所述的一種實現寬色域反射顏色調制的液晶超表面器件,其特征在于:所述透明材料薄層的材料為SiO2、氟化鎂或PMMA、PDMS;所述透明材料層的材料為SiO2、氟化鎂或PMMA、PDMS;所述金屬層的材料為鋁或金、銀。
3.如權利要求2所述的一種實現寬色域反射顏色調制的液晶超表面器件,其特征在于:所述透明材料薄層的材料為SiO2;所述透明材料層的材料為SiO2,所述金屬層的材料為鋁,所述透明材料薄層的厚度為40nm,所述透明材料層的厚度為100nm,所述金屬層的厚度為80nm,所述光取向薄層的厚度為15nm。
4.如權利要求1所述的一種實現寬色域反射顏色調制的液晶超表面器件,其特征在于:所述液晶盒由超表面器件和ITO導電玻璃通過二氧化硅微球和紫外固化光學膠的混合物粘合而成。
5.如權利要求1所述的一種實現寬色域反射顏色調制的液晶超表面器件,其特征在于:所述液晶采用LCM1107液晶。
6.一種實現寬色域反射顏色調制的液晶超表面器件的制備方法,其特征在于:具體包括如下步驟:
S1、制備超表面器件;
S11、取ITO導電玻璃作為基底,對其進行清洗;
S12、在清洗后的ITO導電玻璃基底上制備微納結構;
步驟S12具體包括如下子步驟:
S121、在ITO導電玻璃基底上進行透明材料沉積;
S122、對完成步驟S121的ITO導電玻璃基底進行金屬材料沉積;
S123、對完成步驟S122的ITO導電玻璃基底進行光刻膠的旋涂,并利用電子束曝光;
S124、對完成步驟S123的ITO導電玻璃基底進行光刻膠的刻蝕;
S125、對完成步驟S124的ITO導電玻璃基底進行金屬材料的刻蝕;
S126、對完成步驟S125的ITO導電玻璃基底進行透明材料的刻蝕;
S127、對完成步驟S126的ITO導電玻璃基底進行殘余光刻膠的去除;
S2、取ITO導電玻璃和步驟S1的超表面器件,分別在ITO導電玻璃和超表面器件的內壁上旋涂光取向薄層,并進行光取向薄層的取向;
S22、取ITO導電玻璃和步驟S1的超表面器件進行清洗,并使用等離子清洗機處理,形成親水表面;
S23、將步驟S21的光取向溶液旋涂至完成S22的ITO導電玻璃和超表面器件上,形成光取向薄層;
S24、將完成步驟S23的ITO導電玻璃和超表面器件使用偏振光照射,使光取向薄層實現取向;
S3、取步驟S2中旋涂光取向薄層的ITO導電玻璃和超表面器件作為基底,制作液晶盒,在液晶盒中填充液晶,使液晶充分的進入到液晶盒中,使液晶進入微納結構之間的間隙中,用于液晶在超表面附近的折射率調制實現寬色域的顏色調制,得到液晶超表面器件。
7.如權利要求6所述的一種實現寬色域反射顏色調制的液晶超表面器件的制備方法,其特征在于,所述透明材料為SiO2、氟化鎂或PMMA、PDMS,所述金屬材料為鋁或金、銀。
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