[發(fā)明專利]一種HfO2 在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210433762.5 | 申請(qǐng)日: | 2022-04-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN114774881A | 公開(公告)日: | 2022-07-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 潘孝軍;吳宏昌;孔祥東;李艷麗;張新月;王綱;靳夢(mèng)靜;白兆文 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 蘭州大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C23C16/40 | 分類號(hào): | C23C16/40;C23C16/455;G02B5/08 |
| 代理公司: | 北京元理果知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11938 | 代理人: | 饒小平 |
| 地址: | 730000 甘肅*** | 國省代碼: | 甘肅;62 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 hfo base sub | ||
1.一種HfO2/Al2O3多層膜反射鏡的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
(1)對(duì)基底進(jìn)行預(yù)處理;
(2)利用原子層沉積法在所述基底上沉積HfO2膜,并利用原子層沉積法在所述HfO2膜上沉積Al2O3膜,所述HfO2膜和Al2O3膜形成雙層膜;
(3)在步驟(2)制得的雙層膜上重復(fù)周期性制備若干組雙層膜,每組雙層膜中的HfO2膜相較于Al2O3膜位于更靠近所述基底的一側(cè),得到所述HfO2/Al2O3多層膜反射鏡。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的HfO2/Al2O3多層膜反射鏡的制備方法,其特征在于,每組雙層膜中HfO2膜和Al2O3膜的厚度均為1nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的HfO2/Al2O3多層膜反射鏡的制備方法,其特征在于,所述雙層膜的數(shù)量為60~180層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的HfO2/Al2O3多層膜反射鏡的制備方法,其特征在于,所述基底為硅片、玻璃片。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的HfO2/Al2O3多層膜反射鏡的制備方法,其特征在于,步驟(1)中,所述預(yù)處理的方法包括:將所述基底依次放在丙酮、無水乙醇、去離子水中進(jìn)行超聲清洗,烘干。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的HfO2/Al2O3多層膜反射鏡的制備方法,其特征在于,步驟(1)中,每次超聲清洗的時(shí)間為15~30min。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的HfO2/Al2O3多層膜反射鏡的制備方法,其特征在于,步驟(2)中,
沉積HfO2膜的方法包括:將預(yù)處理后的基底放入原子層沉積設(shè)備內(nèi)腔中,壓緊腔蓋,抽真空,同時(shí)加熱腔壁;當(dāng)內(nèi)腔真空度在0.01Torr以下,待內(nèi)腔溫度穩(wěn)定在150℃時(shí),通入N2;當(dāng)內(nèi)腔壓強(qiáng)穩(wěn)定在0.9Torr時(shí),依次通入四(二甲胺基)鉿、通入N2進(jìn)行吹掃、通入水蒸氣、通入N2進(jìn)行吹掃,完成一次循環(huán);重復(fù)循環(huán)多次制得預(yù)定厚度的HfO2膜;
沉積Al2O3膜的方法包括:在制得預(yù)定厚度的HfO2膜后,向原子層沉積設(shè)備內(nèi)腔中依次通入三甲基鋁、通入N2進(jìn)行吹掃、通入水蒸氣、通入N2進(jìn)行吹掃,完成一次循環(huán);重復(fù)循環(huán)多次制得預(yù)定厚度的Al2O3膜。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的
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