[發明專利]一種玻璃預處理液的制備方法及應用

有效

• 申請號: 202210432701.7
• 申請日: 2022-04-22
• 公開（公告）號: CN115010375B
• 公開（公告）日: 2023-10-03
• 發明（設計）人: 萬濤明;劉曉芳;司徒白雪;楊紅
• 申請（專利權）人: 深圳市瑞世興科技有限公司
• 主分類號: C03C15/02
• 分類號: C03C15/02
• 代理公司: 深圳市千納專利代理有限公司 44218
• 代理人: 袁燕清

一種玻璃預處理液的制備方法及應用，本發明涉及一種玻璃預處理液，主要是電子設備的玻璃屏膜預處理液。該預處理也包括有界面保護劑、乳化劑、滲透劑、pH調節劑及增溶劑。本發明采用納米及微米級惰性顆粒選擇性填充及覆蓋玻璃基板細微缺陷和劃痕，充分保護基板細微缺陷的同時，摒棄氫氟酸或其他含氟物質，藥液耗費量極少，安全環保；無濃硫酸或其他增粘成分，體系傳質效率高，解決了傳統預處理制程中造成板厚差的難題；同時，使用過程中，無氫氟酸或其他有害物質揮發，無刺激性氣味，操作環境大為改善。

技術領域

本發明涉及一種玻璃預處理液，主要是電子設備的玻璃屏膜預處理液。

背景技術

隨著5G與柔性顯示技術的迅速鋪展，可折疊手機及其他便攜式穿戴顯示設備將迎來消費高潮。僅30至50um厚的超薄柔性玻璃UTG(Ultra Thin Glass)以其可折疊、柔韌性好，并具有光滑手感和良好均勻度的特點將成為未來蓋板玻璃的完美解決方案。

超薄柔性玻璃UTG(Ultra Thin Glass)的出現將對減薄處理技術及工藝提出巨大挑戰。目前，以氫氟酸為主料的兼顧經濟性與效率性的化學濕式蝕刻仍為玻璃顯示基板減薄處理的主流。然而，具有強腐蝕性的氫氟酸對于玻璃的各向同性腐蝕會嚴重放大玻璃基板原材凹點、劃傷等缺陷，從而導致表觀不良，只能通過后續研磨拋光修復。面對去除速率僅0.5至0.7um/min的研磨拋光工序，目前國內減薄廠商只能通過大量添加拋光設備來彌補整個減薄工序的效率降低，在增加設備成本的同時，人工成本、拋光輔料成本及拋光廢料環境成本也急劇增加。

對于這一減薄工序中的‘短板效應’，目前減薄廠商通過來料玻璃基板研磨拋光或化學濕法預處理的方式來解決。來料玻璃基板研磨拋光僅是將原有部分后續研磨拋光前置于減薄主蝕刻工序之前，增加了制程成本，是一種折中方案。來料玻璃基板化學濕法預處理是通過化學的方式減小或修復來料凹陷、劃傷等缺陷，具有明顯的經濟與效率優勢，但技術門檻高。

目前，以氫氟酸為主料的兼顧經濟性與效率性的化學濕式蝕刻仍為玻璃顯示面板減薄處理的主流。然而，具有強腐蝕性的氫氟酸對于玻璃的各向同性腐蝕會嚴重放大未處理的玻璃基板凹點、劃傷等缺陷，從而導致表觀不良，只能通過后續研磨拋光修復。面對去除速率僅0.5至0.7um/min的研磨拋光工序，目前國內減薄廠商只能通過大量添加拋光設備來彌補整個減薄工序的效率降低，在增加設備成本的同時，人工成本、拋光輔料成本及拋光廢料環境成本也急劇增加?；瘜W濕法預處理均是使用低氫氟酸含量藥液對玻璃基材進行微蝕，通過使用濃硫酸或其他化學品提高體系密度及粘度，抑制缺陷位點的各向同性蝕刻，進而消除或減小缺陷尺寸。此種方案缺點明顯：抑制缺陷效果差；高密度粘度體系導致流體傳質不均，從而導致大面板基材板厚差波動大；濃硫酸體系中氫氟酸揮發嚴重，操作環境惡劣；含氟廢液污染嚴重。

發明內容

為了解決了傳統氫氟酸體系預處理液對玻璃基材細微缺陷抑制效果差、制程中玻璃面板板厚差波動嚴重以及預處理高氟廢液污染等問題。

為了解決現有玻璃化學濕法預處理技術中存在的缺點，首先本發明提供了一種采用微乳顆粒選擇性填充玻璃基板微米級缺陷的方案。

其次，本發明提供了一種基于上述方案的新型無氟高效玻璃預處理液制備方法。

最后，本發明提供了上述預處理液的使用方法。

一種采用微乳顆粒選擇性填充玻璃基板微米級缺陷的方案，包括以下五個重要步驟：

1.對氫氟酸具有惰性的物質顆粒的微米級穩定分散；

2.上述顆粒選擇性進入玻璃基材微米級缺陷；

3.玻璃平整面殘留保護顆粒的去除；

4.進入玻璃基材缺陷的保護顆粒破乳以及穩定粘附；

5.在含氫氟酸主蝕刻過程中，保護顆粒緩慢脫附及分解。