[發明專利]一種整體現澆地面結構及地面施工方法

在審

• 申請號: 202210432060.5
• 申請日: 2022-04-22
• 公開（公告）號: CN114892916A
• 公開（公告）日: 2022-08-12
• 發明（設計）人: 羅漢斌;張傳波;黃波;喻曉;姚華偉;余文彬;田聰;夏彬;郟現高;李思;呂志雄;任路陽
• 申請（專利權）人: 中鐵第四勘察設計院集團有限公司
• 主分類號: E04F15/12
• 分類號: E04F15/12;E04F15/14;E04F21/24;B24B1/00;B24B7/18;C04B28/04
• 代理公司: 北京派特恩知識產權代理有限公司 11270
• 代理人: 何娜;蔣雅潔

1.一種整體現澆地面結構，其特征在于，包括：

找平層；

復合層，鋪設于所述找平層上，所述復合層由包含復合材料抗裂砂漿劑的抗裂硅晶砂漿澆筑；

其中，所述抗裂硅晶砂漿包括以下質量份數的組份：

硅酸鹽水泥14至17份；

中粗河沙28至32份；

石粒45至50份；

復合材料抗裂砂漿劑1.5至2.2份；

抗裂纖維0.04至0.07份；

水4至7份。

2.根據權利要求1所述的整體現澆地面結構，其特征在于，所述復合層包括基層和面層，所述基層設置于所述找平層和所述面層之間。

3.根據權利要求2所述的整體現澆地面結構，其特征在于，所述基層內設置有單層雙向鋼筋網。

4.根據權利要求3所述的整體現澆地面結構，其特征在于，基層的厚度為110至130毫米。

5.根據權利要求4所述的整體現澆地面結構，其特征在于，還包括防水層，所述防水層設置于所述基層和所述找平層之間。

6.根據權利要求2所述的整體現澆地面結構，其特征在于，所述面層的厚度為8至12毫米。

7.根據權利要求2所述的整體現澆地面結構，其特征在于，還包括分隔條，所述分隔條將所述面層分隔為多個面層塊。

8.根據權利要求1所述的整體現澆地面結構，其特征在于，所述找平層的厚度為50至60毫米。

9.一種地面施工方法，其特征在于，包括以下主要步驟：

鋪設找平層，并對找平層表面進行研磨處理；

在所述找平層上覆蓋防水層；

在所述防水層上澆筑含有復合材料抗裂砂漿劑的抗裂硅晶砂漿以形成基層；

在所述基層上鑲嵌分隔條；

在所述基層上鋪設含有復合材料抗裂砂漿劑的抗裂硅晶砂漿以形成面層；

對所述面層進行磨光作業；

其中，所述抗裂硅晶砂漿包括以下質量份數的組份：

硅酸鹽水泥14至17份；

中粗河沙28至32份；

石粒45至50份；

復合材料抗裂砂漿劑1.5至2.2份；

抗裂纖維0.04至0.07份；

水4至7份。

10.根據權利要求9所述的地面施工方法，其特征在于，在所述防水層上澆筑含有所述復合材料抗裂砂漿劑的所述抗裂硅晶砂漿以形成所述基層的步驟中進行消泡處理。

11.根據權利要求9所述的地面施工方法，其特征在于，在所述基層上鋪設含有所述復合材料抗裂砂漿劑的所述抗裂硅晶砂漿以形成所述面層和對所述面層進行磨光作業之間的時間間隔為24小時。

12.根據權利要求11所述的地面施工方法，其特征在于，對所述面層進行所述磨光作業的步驟包括以下主要步驟：

粗磨開面；

一次研磨，使所述面層平整、粗糙度均勻，并使所述石粒面外露；

修孔補漿；

二次研磨，將補漿材料打磨干凈，以使所述面層表面透徹清晰，滑潤細膩；

三次研磨，使所述石粒均勻顯露，使所述面層表面平整光滑，無砂眼細孔；

面層拋光。

13.根據權利要求12所述的地面施工方法，其特征在于，所述粗磨開面使用30目金剛石磨片；所述一次研磨使用50目樹脂磨片；所述二次研磨使用500目樹脂磨片；所述三次研磨使用至少800目的磨片。

14.根據權利要求12所述的地面施工方法，其特征在于，所述面層拋光的步驟包括以下主要步驟：

將研磨后的所述面層表面清洗干凈并晾干；

在所述面層上噴灑拋光劑，并涂抹均勻；

使用拋光機配合獸毛拋光墊，對所述面層進行拋光。