[發明專利]一種具有陽光控制、低輻射功能的鍍膜防火玻璃及其制備方法

在審

• 申請號: 202210430491.8
• 申請日: 2022-04-22
• 公開（公告）號: CN114772945A
• 公開（公告）日: 2022-07-22
• 發明（設計）人: 張欣;劉衛東;孫立群;魯大學;馬玉聰;李明;李彩苓;王賢;郭振;張凱旋
• 申請（專利權）人: 中國耀華玻璃集團有限公司
• 主分類號: C03C17/34
• 分類號: C03C17/34
• 代理公司: 石家莊知住優創知識產權代理事務所(普通合伙) 13131
• 代理人: 林艷艷

1.一種具有陽光控制、低輻射功能的膜層，其特征在于：所述具有陽光控制、低輻射功能的膜層包括依次設置的二氧化硅層、無定型硅層和摻雜氟的二氧化錫層。

2.根據權利要求1所述的具有陽光控制、低輻射功能的膜層，其特征在于：所述二氧化硅層的厚度為10～30nm；

優選地，所述二氧化硅層的厚度為15～25nm。

3.根據權利要求1或2所述的具有陽光控制、低輻射功能的膜層，其特征在于：所述無定型硅層的厚度為30～60nm；

優選地，所述無定型硅層的厚度為40～50nm。

4.根據權利要求1-3中任一項所述的具有陽光控制、低輻射功能的膜層，其特征在于：所述摻雜氟的二氧化錫層的厚度為270～450nm；

優選地，所述摻雜氟的二氧化錫層的厚度為330～380nm；

優選地，氟在摻雜氟的二氧化錫層的比例為0.5％～5％，優選為1％～3％。

5.一種鍍膜防火玻璃，其特征在于：所述鍍膜防火玻璃包括如權利要求1-4中任一項所述的具有陽光控制、低輻射功能的膜層和硼硅玻璃基片，所述硼硅玻璃基片與具有陽光控制、低輻射功能的膜層中的二氧化硅層相接；

優選地，所述鍍膜防火玻璃的反射率為18％～35％，優選為30％～33％；

優選地，所述鍍膜防火玻璃的透過率為23％～35％，優選為23％～26％；

優選地，所述鍍膜防火玻璃的方塊電阻為11～26Ω，優選為16～19Ω；

優選地，所述鍍膜防火玻璃的輻射率為0.11～0.25，優選為0.14～0.18。

6.根據權利要求5所述的鍍膜防火玻璃的制備方法，其特征在于：所述制備方法包括如下步驟：

(1)將含有硅烷的第一混合氣體，導入反應器，在硼硅玻璃基片的表面進行反應，制備成二氧化硅層；

(2)將含有硅烷的第二混合氣體，導入反應器，在步驟(1)得到的二氧化硅層表面進行反應，制備成無定型硅層；

(3)將含有三氯單丁基錫蒸汽的第三混合氣體，導入反應器，在步驟(2)得到的無定型硅層的表面進行反應，得到所述鍍膜防火玻璃。

7.根據權利要求6所述的制備方法，其特征在于：步驟(1)中所述第一混合氣體由硅烷、氧氣、乙烯和氮氣組成；

優選地，所述第一混合氣體的總氣體量為1.32～2.73L/m²，優選為1.9～2.1L/m²；

優選地，所述硅烷的氣體量為0.01～0.07L/m²，優選為0.03～0.05L/m²；

優選地，所述氧氣的氣體量為0.04～0.30L/m²，優選為0.12～0.2L/m²；

優選地，所述乙烯的氣體量為0.06～0.45L/m²，優選為0.18～0.3L/m²；

優選地，所述氮氣的氣體量為1.21～1.91L/m²，優選為1.4～1.7L/m²。

8.根據權利要求6或7所述的制備方法，其特征在于：步驟(2)中所述第二混合氣體由硅烷、乙烯和氮氣組成；

優選地，所述第二混合氣體的總氣體量為2.25～3.20L/m²，優選為2.5～2.8L/m²；

優選地，所述硅烷的氣體量為0.10～0.30L/m²，優選為0.16～0.21L/m²；

優選地，所述乙烯的氣體量為0.15～0.45L/m²，優選為0.25～0.32L/m²；

優選地，所述氮氣的氣體量為2.00～2.45L/m²。