[發明專利]一種抑制氯化物熔鹽腐蝕性的原位氧化鎂生成法有效
| 申請號： | 202210426414.5 | 申請日： | 2022-04-21 |
| 公開（公告）號： | CN114836712B | 公開（公告）日： | 2023-08-11 |
| 發明（設計）人： | 王維龍;徐智浩;江東旭;丁靜;陸建峰 | 申請（專利權）人： | 中山大學 |
| 主分類號： | C23C10/26 | 分類號： | C23C10/26 |
| 代理公司： | 深圳市創富知識產權代理有限公司 44367 | 代理人： | 高冰 |
| 地址： | 510275 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 抑制 氯化物 腐蝕性 原位 氧化鎂 生成 | ||
【權利要求書】：
1.一種抑制氯化物熔鹽腐蝕性的原位氧化鎂生成法，其特征在于，包括以下步驟：
S1、將NaCl-CaCl2-MgCl2+MgCl2·6H2O熔鹽覆蓋于基體表面上，以5～10℃/min的升溫速率加熱NaCl-CaCl2-MgCl2+MgCl2·6H2O熔鹽至350～400℃后保溫2～3h，使MgCl2·6H2O進一步轉化為MgOHCl；
S2、再將升溫速率設定為8～10℃/min，并升溫至600～650℃保溫4～5h，使生成的MgOHCl轉化為MgO；
所述NaCl-CaCl2-MgCl2+MgCl2·6H2O中，NaCl、CaCl2和MgCl2的摩爾比為52mol％:38mol％:10mol％；
所述NaCl-CaCl2-MgCl2+MgCl2·6H2?O中，MgCl2·6H2O的質量為NaCl-CaCl2-MgCl2質量總量的5％；
所述基體為Inconel?625合金。
2.根據權利要求1所述的一種抑制氯化物熔鹽腐蝕性的原位氧化鎂生成法，其特征在于，所述S1為加熱至350℃保溫2h。
3.根據權利要求1所述的一種抑制氯化物熔鹽腐蝕性的原位氧化鎂生成法，其特征在于，所述S2為加熱至600℃保溫4h。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中山大學，未經中山大學許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202210426414.5/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C10-00 金屬材料表面中僅滲入金屬元素或硅的固滲
C23C10-02 .被覆材料的預處理
C23C10-04 .局部表面上的擴散處理，例如使用掩蔽物
C23C10-06 .使用氣體的
C23C10-18 .使用液體，例如鹽浴、懸浮液的
C23C10-28 .使用固體，例如粉末、膏劑的
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C10-00 金屬材料表面中僅滲入金屬元素或硅的固滲
C23C10-02 .被覆材料的預處理
C23C10-04 .局部表面上的擴散處理，例如使用掩蔽物
C23C10-06 .使用氣體的
C23C10-18 .使用液體，例如鹽浴、懸浮液的
C23C10-28 .使用固體，例如粉末、膏劑的
