[發(fā)明專利]一種防水耐候封裝薄膜及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210421648.0 | 申請日: | 2022-04-21 |
| 公開(公告)號: | CN114561091A | 公開(公告)日: | 2022-05-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉勤學;張愛琴;羅丹 | 申請(專利權(quán))人: | 寧波勤邦新材料科技有限公司 |
| 主分類號: | C08L67/02 | 分類號: | C08L67/02;C08J7/04;C08J7/12;C09D163/00;C09D7/61;C09D167/02;C09D7/62;C09D7/65;C25C5/02;B22F1/102 |
| 代理公司: | 寧波甬恒專利代理事務所(普通合伙) 33270 | 代理人: | 王家雨 |
| 地址: | 315700 浙江省寧波市*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 防水 封裝 薄膜 及其 制備 方法 | ||
1.一種防水耐候封裝薄膜,其特征在于,包括膜基礎(chǔ)層、強化層、保護層;所述膜基礎(chǔ)層由聚對苯二甲酸乙二醇酯制成;所述保護層由質(zhì)量比為1:2-7:122-153的納米氧化鈦鋁、納米氮化硅和自固型環(huán)氧樹脂制成;所述強化層由以下質(zhì)量份的原料制備而成:聚對苯二甲酸乙二醇酯90-95份、樹脂包覆稀土合金納米顆粒2-3份、輔助劑5-9份;所述膜基礎(chǔ)層、強化層、保護層的質(zhì)量比為50-66:13-17:2-3;
所述樹脂包覆稀土合金納米顆粒的制備方法為:
(1)配置電解溶液
將氯化鉻、氯化鎳、氯化釔按照質(zhì)量比13-15:45-50:1-2混合,加入固體物質(zhì)質(zhì)量20-30倍的純凈水攪拌均勻,加熱至40-50℃,繼續(xù)攪拌3-5min得到混合鹽電解液;
將丙烯酸樹脂和甲苯按照質(zhì)量比1:89-94混合,加入混合物質(zhì)量2-4%的油酸混合均勻得到樹脂體系;
(2)穩(wěn)定溶液體系
在上述混合鹽電解液中加入氯化銨混合均勻后,加入表面活性劑、硼酸攪拌均勻后靜置30-40min;
(3)電解
將上述混合鹽電解液倒入電解槽中,再加入樹脂體系,使得電解槽中存在水溶液體系和甲苯體系;將陽極采用鉻板放置到電解液體系中,陰極采用鐵質(zhì)水平旋轉(zhuǎn)電極,電解參數(shù)為:陰極電流密度20-23A/dm2、電解槽壓60-65V、pH4-5、混合鹽溶液溫度3-5℃、樹脂體系溫度8-10℃;
所述混合鹽電解液與樹脂體系的體積比為1:4-5.6;
(4)純化
收集樹脂體系離心分離出沉淀物用甲苯清洗1-2次,加入沉淀物質(zhì)量5-8倍的乙醇,加熱到40-45℃,浸泡2-5min,離心,將沉淀物在50-60℃烘干即可。
2.如權(quán)利要求1所述的防水耐候封裝薄膜,其特征在于,所述輔助劑由以下質(zhì)量份的組分組成:
丙烯酸甲酯-丁二烯-苯乙烯共聚物1-3份、碳纖維0.3-0.6份、甲基硅油4-6份、抗氧劑3-5份。
3.如權(quán)利要求1所述的防水耐候封裝薄膜,其特征在于,所述表面活性劑由質(zhì)量比為1:3-3.9的正離子表面活性劑和非離子表面活性劑混合而成,用量為混合鹽電解液質(zhì)量的0.1-0.2%。
4.如權(quán)利要求1所述的防水耐候封裝薄膜,其特征在于,所述正離子表面活性劑為苯扎氯銨和苯扎溴銨中的一種或多種。
5.如權(quán)利要求1所述的防水耐候封裝薄膜,其特征在于,所述非離子表面活性劑為椰油基葡糖苷、單硬脂酸甘油酯中的一種或多種。
6.如權(quán)利要求1所述的防水耐候封裝薄膜,其特征在于,所述硼酸的用量為混合鹽電解液質(zhì)量的0.5-0.76%。
7.如權(quán)利要求1所述的防水耐候封裝薄膜,其特征在于,所述氯化銨的用量為溶液質(zhì)量的3-4%。
8.一種如權(quán)利要求1所述的防水耐候封裝薄膜的制備方法,其特征在于,步驟如下:
(1)將聚對苯二甲酸乙二醇酯熔融混合、鑄片、拉伸,經(jīng)熱定型處理后得到膜基礎(chǔ)層;
(2)將聚對苯二甲酸乙二醇酯熔融混合鑄片,先粉碎成粉末,再用超微粉碎機加工成超微粉,在所得超微粉中加入樹脂包覆稀土合金納米顆粒、輔助劑常溫混合均勻,加熱熔融繼續(xù)混合得到強化層;
(3)將自固型環(huán)氧樹脂和納米氮化硅、納米氧化鈦鋁混合經(jīng)高速攪拌得到保護層;
(4)將膜基礎(chǔ)層放置到等離子體腔內(nèi)處理,然后在膜基礎(chǔ)層上表面噴涂強化層,熱定型處理后再次噴涂保護層即可。
9.如權(quán)利要求8所述的防水耐候封裝薄膜的制備方法,其特征在于,所述等離子體腔處理條件為:功率為300-380W、時間12-30min。
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