[發(fā)明專利]一種編帶電容剪腳上料系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210419374.1 | 申請日: | 2022-04-21 |
| 公開(公告)號: | CN114769468A | 公開(公告)日: | 2022-07-22 |
| 發(fā)明(設計)人: | 蘆金石;劉震;馬小桐;戚展豪;范斌彬;陶學恒;王學俊;高明 | 申請(專利權(quán))人: | 大連工業(yè)大學;大連金華錄數(shù)碼科技有限公司 |
| 主分類號: | B21F11/00 | 分類號: | B21F11/00;B21F23/00;H01G13/00 |
| 代理公司: | 大連格智知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 21238 | 代理人: | 劉琦;徐磊 |
| 地址: | 116034 遼*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 電容 剪腳上料 系統(tǒng) | ||
本發(fā)明公開了一種編帶電容剪腳上料系統(tǒng),涉及電容加工設備技術(shù)領域,編帶電容的編帶處開設有一排編帶通孔,系統(tǒng)包括用于提供限位輸運編帶電容通道的進料機構(gòu);進料機構(gòu)包括兩塊豎直設立于基座上的平行的限位板,兩塊限位板之間留有用于放置編帶電容的間隙,間隙的寬度大于編帶電容的編帶厚度,小于編帶電容的電容頭部口徑;兩塊限位板的同一相對位置處上均開設有剪切通孔;用于拉動編帶電容在進料機構(gòu)內(nèi)水平滑動的推進機構(gòu);用于嵌入剪切通孔夾緊并切割編帶電容的引腳的夾緊剪斷機構(gòu)。本發(fā)明可以一次性自動完成編帶電容上料、電容引腳夾緊、電容引腳剪切等工序,自動化程度高。
技術(shù)領域
本發(fā)明涉及電容加工設備技術(shù)領域,更具體地說,涉及一種編帶電容剪腳上料系統(tǒng)。
背景技術(shù)
成品電容按包裝可分為散裝和編帶式,編帶電容是指將電容的引腳一個一個整齊排列粘在一條長編帶上,便于整理包裝,為后期機械手的抓取及自動插件做準備。現(xiàn)有的多數(shù)電容上料機構(gòu)在使用時,采用的是振動盤振動上料,存在損壞針腳和抓取不穩(wěn)定等問題,影響后續(xù)插裝質(zhì)量。
因此需要提出一種新的系統(tǒng)來解決這個問題,實現(xiàn)整個電容上料機構(gòu)的自動化。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種編帶電容剪腳上料系統(tǒng),以解決背景技術(shù)中提到的問題。
為了達到上述目的,本發(fā)明采取以下技術(shù)方案:
一種編帶電容剪腳上料系統(tǒng),編帶電容的編帶處開設有一排編帶通孔,系統(tǒng)包括:
用于提供限位輸運編帶電容通道的進料機構(gòu);進料機構(gòu)包括兩塊豎直設立于基座上的平行的限位板,兩塊限位板之間留有用于放置編帶電容的間隙,間隙的寬度大于編帶電容的編帶厚度,小于編帶電容的電容頭部口徑;兩塊限位板的同一相對位置處上均開設有剪切通孔;
用于拉動編帶電容在進料機構(gòu)內(nèi)水平滑動的推進機構(gòu);
用于嵌入剪切通孔夾緊并切割編帶電容的引腳的夾緊剪斷機構(gòu)。
限位板的頂部向外側(cè)彎曲延伸出電容沉重彎板。
推進機構(gòu)包括固定于基座的推進氣缸以及平行于進料機構(gòu)固定設置的滑軌,滑軌上設置有滑塊,滑塊通過推進氣缸驅(qū)動移動;滑塊上設置有插動氣缸,插動氣缸連接于垂直于限位板的可伸縮的插桿;
限位板在編帶通孔的同一高度處開設有插桿通過孔,插桿通過孔的水平長度大于相鄰編帶通孔間距;插桿用于穿過插桿通過孔后插入編帶通孔,推進氣缸用于間接驅(qū)動插桿移動進而拉動編帶電容移動。
滑塊上方固定有角鋼,角鋼的內(nèi)側(cè)固定有插動氣缸,角鋼的外側(cè)連接于推進氣缸的伸縮端。
角鋼與滑塊之間設置有角鋼底座。
推進氣缸通過推進氣缸支架固定于基座。
夾緊剪斷機構(gòu)包括分別設置于進料機構(gòu)兩側(cè)的主動夾緊剪斷機構(gòu)以及輔助夾緊剪斷機構(gòu),輔助夾緊剪斷機構(gòu)包括連接于輔助夾緊氣缸伸縮端的厚夾塊;主動夾緊剪斷機構(gòu)包括連接于主動夾緊氣缸伸縮端的薄夾塊,以及連接于主動切割氣缸伸縮端的刀片;當厚夾塊與薄夾塊用于從兩側(cè)夾緊編帶電容的引腳時,厚夾塊端面上仍然留出用于與刀片一起切斷編帶電容的引腳的端面區(qū)域。
主動夾緊氣缸的固定端與主動切割氣缸的固定端均通過主動氣缸支架固定于基座;輔助夾緊氣缸的固定端通過輔助氣缸支架固定于基座。
厚夾塊與薄夾塊的相對端面的對應位置上均開設有W形槽;每個W形槽包括兩個V字形凹槽。
進料機構(gòu)以及夾緊剪斷機構(gòu)均固定于第一固定平臺;推進機構(gòu)固定于第二固定平臺;第一固定平臺固定于第二固定平臺上,第一固定平臺與第二固定平臺之間留有間隙。
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