[發(fā)明專利]一種新型微透鏡超分辨顯微成像方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202210419355.9
• 申請(qǐng)日: 2022-04-20
• 公開（公告）號(hào): CN114858709A
• 公開（公告）日: 2022-08-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 葉燃;尚晴晴;湯芬;徐楚
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 南京師范大學(xué)
• 主分類號(hào): G01N21/01
• 分類號(hào): G01N21/01;G01N21/63;G02B21/00;G02B27/58
• 代理公司: 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司 32200
• 代理人: 王姍

1.一種新型微透鏡超分辨顯微成像方法，其特征在于，步驟如下：首先利用真空鍍膜技術(shù)在介質(zhì)微球的半球表面蒸鍍金屬掩膜材料以使得微球表面部分區(qū)域不透光，然后利用透明薄片將微球移動(dòng)到待觀測樣品表面，在光學(xué)顯微鏡下透過微球?qū)悠繁砻嫖⒔Y(jié)構(gòu)進(jìn)行觀測，獲得高質(zhì)量的超分辨顯微圖像。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型微透鏡超分辨顯微成像方法，其特征在于，所述介質(zhì)微球的直徑為5~100 μm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型微透鏡超分辨顯微成像方法，其特征在于，所述介質(zhì)微球?yàn)殁佀徜^玻璃微球。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型微透鏡超分辨顯微成像方法，其特征在于，所述金屬掩膜材料為鋁，金屬掩膜材料的蒸鍍厚度為5~50 nm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型微透鏡超分辨顯微成像方法，其特征在于，所述透明薄片為聚二甲基硅氧烷薄膜，厚度為170 μm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型微透鏡超分辨顯微成像方法，其特征在于，所述真空鍍膜技術(shù)為：在真空鍍膜設(shè)備中，通過蒸發(fā)源在1.4×10^-4 Torr真空度下蒸鍍金屬掩膜材料，鍍膜速率為0.1 nm/s。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種新型微透鏡超分辨顯微成像方法，其特征在于，真空鍍膜時(shí)，介質(zhì)微球放置于蒸發(fā)源的正上方，蒸鍍后金屬掩膜材料覆蓋介質(zhì)微球的側(cè)邊。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型微透鏡超分辨顯微成像方法，其特征在于，利用真空鍍膜技術(shù)在介質(zhì)微球的半球表面蒸鍍金屬掩膜材料前，先在玻璃基板上灑落鈦酸鋇微球粉末，微球在基板上的密度為10 μg/cm²，然后進(jìn)行真空鍍膜。