[發(fā)明專利]用于空間電磁屏蔽的化學(xué)分子衛(wèi)星

在審

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• 申請日: 2022-04-20
• 公開（公告）號: CN114802809A
• 公開（公告）日: 2022-07-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 曹譯;白玉鑄;陳榮;王璟賢;梁昊鵬;趙勇;楊磊
• 申請（專利權(quán)）人: 中國人民解放軍國防科技大學(xué)
• 主分類號: B64G1/10
• 分類號: B64G1/10;B64G1/54;B64G1/64
• 代理公司: 北京奧文知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11534
• 代理人: 張文

本發(fā)明公開了一種用于空間電磁屏蔽的化學(xué)分子衛(wèi)星，化學(xué)分子衛(wèi)星能夠完成從二維平面構(gòu)型到三維正多面體構(gòu)型的拓?fù)渥儞Q，需要進(jìn)行電磁屏蔽的目標(biāo)設(shè)備能夠容納在化學(xué)分子衛(wèi)星中，化學(xué)分子衛(wèi)星包括原子衛(wèi)星和機(jī)械臂。原子衛(wèi)星依次位于正多面體的頂角處；機(jī)械臂用于連接相鄰的原子衛(wèi)星，機(jī)械臂中設(shè)置有能夠展開的電磁屏蔽帆，展開后的電磁屏蔽帆能夠至少部分地覆蓋機(jī)械臂所在的正多面體中的一個(gè)平面；其中，化學(xué)分子衛(wèi)星能夠借助機(jī)械臂展開。由此，本發(fā)明中的化學(xué)分子衛(wèi)星能夠在太空中的在軌服務(wù)中根據(jù)任務(wù)需求，對目標(biāo)衛(wèi)星提供電磁屏蔽的空間任務(wù)，可以方便且有效地保護(hù)目標(biāo)衛(wèi)星。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及電磁屏蔽技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種用于空間電磁屏蔽的化學(xué)分子衛(wèi)星。

背景技術(shù)

人造衛(wèi)星是遵循軌道力學(xué)規(guī)律長期環(huán)繞地球或其它行星飛行、執(zhí)行在軌任務(wù)的航天器，其能夠?qū)崿F(xiàn)多種空間功能，例如可以實(shí)現(xiàn)對地監(jiān)測、天文觀測、通信轉(zhuǎn)播以及科學(xué)研究。為了實(shí)現(xiàn)相關(guān)的空間任務(wù)，例如，協(xié)助目標(biāo)衛(wèi)星對地隱身和在太陽風(fēng)暴中保護(hù)目標(biāo)衛(wèi)星，人造衛(wèi)星需要進(jìn)行電磁屏蔽。其中，前者在空間攻防中具有重要意義，后者主要針對超強(qiáng)太陽風(fēng)暴對地球空間的影響，以提供在太陽風(fēng)暴中保護(hù)高價(jià)值衛(wèi)星的在軌服務(wù)。

現(xiàn)有技術(shù)中，電磁屏蔽主要包括兩個(gè)方面，被動(dòng)屏蔽和主動(dòng)屏蔽。其中，被動(dòng)屏蔽為對干擾信號進(jìn)行屏蔽，以保證自身器械能夠正常工作，例如，可以對衛(wèi)星自身設(shè)置法拉第籠，或者類似的艙式結(jié)構(gòu)。主動(dòng)屏蔽則為對外部的偵測信號進(jìn)行屏蔽，以實(shí)現(xiàn)“隱形”的效果，這主要是以能夠?qū)崿F(xiàn)電磁屏蔽的復(fù)合材料為基礎(chǔ)，例如，可以將相應(yīng)的復(fù)合材料涂覆在需要“隱形”的設(shè)備上。然而。當(dāng)前的電磁屏蔽方式僅應(yīng)用于目標(biāo)裝置自身，而且需要提前進(jìn)行設(shè)計(jì)制造，無法應(yīng)用于其他不具備電磁屏蔽的目標(biāo)設(shè)備上。因此，如何利用當(dāng)前電磁屏蔽技術(shù)實(shí)現(xiàn)兩種在軌服務(wù)任務(wù)同時(shí)不損壞目標(biāo)衛(wèi)星，是當(dāng)前待解決的技術(shù)難題。

發(fā)明內(nèi)容

為至少部分地解決上述現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種用于空間電磁屏蔽的化學(xué)分子衛(wèi)星。

本發(fā)明的技術(shù)方案如下：

一種用于空間電磁屏蔽的化學(xué)分子衛(wèi)星，所述化學(xué)分子衛(wèi)星能夠完成從二維平面構(gòu)型到三維正多面體構(gòu)型的拓?fù)渥儞Q，需要進(jìn)行電磁屏蔽的目標(biāo)設(shè)備能夠容納在變換成為三維正多面體構(gòu)型的所述化學(xué)分子衛(wèi)星中，所述化學(xué)分子衛(wèi)星包括：

原子衛(wèi)星，所述原子衛(wèi)星依次位于所述正多面體的頂角處；以及

機(jī)械臂，所述機(jī)械臂用于連接相鄰的所述原子衛(wèi)星，所述機(jī)械臂中設(shè)置有能夠展開的電磁屏蔽帆，展開后的所述電磁屏蔽帆能夠至少部分地覆蓋所述機(jī)械臂所在的所述正多面體中的一個(gè)平面；

其中，所述化學(xué)分子衛(wèi)星能夠借助所述機(jī)械臂展開。

可選地，所述化學(xué)分子衛(wèi)星構(gòu)造為大致正二十面體，所述原子衛(wèi)星的數(shù)量為12個(gè)且依次位于所述正二十面體的頂角處。

可選地，所述電磁屏蔽帆展開為六邊形，展開后的所述電磁屏蔽帆上依次間隔的三條邊分別平行于當(dāng)前所在的三角形表面的三條邊。

可選地，所述機(jī)械臂的數(shù)量為21個(gè)。

可選地，所述化學(xué)分子衛(wèi)星展開后能夠使得所述原子衛(wèi)星均位于同一平面內(nèi)，展開至同一平面后的所述原子衛(wèi)星包括一個(gè)一級衛(wèi)星、排成一列的五個(gè)二級衛(wèi)星、排成一列的五個(gè)三級衛(wèi)星、一個(gè)四級衛(wèi)星，其中，排成一列的所述二級衛(wèi)星平行于排成一列的所述三級衛(wèi)星，所述二級衛(wèi)星和所述三級衛(wèi)星之間經(jīng)由所述機(jī)械臂依次連接能夠形成8個(gè)等邊三角形，所述一級衛(wèi)星和所述四級衛(wèi)星分別位于所述二級衛(wèi)星和所述三級衛(wèi)星的兩側(cè)，所述一級衛(wèi)星能夠與處于端部的一個(gè)所述二級衛(wèi)星和處于同一端部的一個(gè)所述三級衛(wèi)星共線，并且所述一級衛(wèi)星能夠與鄰近的兩個(gè)所述二級衛(wèi)星經(jīng)由所述機(jī)械臂連接形成等邊三角形，所述四級衛(wèi)星能夠與處于另一端部的一個(gè)所述二級衛(wèi)星和處于同一另一端部的一個(gè)所述三級衛(wèi)星共線，并且所述四級衛(wèi)星能夠與鄰近的兩個(gè)所述三級衛(wèi)星經(jīng)由所述機(jī)械臂連接形成等邊三角形。