[發(fā)明專利]一種回收率高的ITO廢靶粉末還原方法及設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210406170.4 | 申請(qǐng)日: | 2022-04-18 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN114752770B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-08-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 唐智勇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株洲火炬安泰新材料有限公司 |
| 主分類號(hào): | C22B7/00 | 分類號(hào): | C22B7/00;C22B58/00;C22B25/02;C22B25/06;C25C7/06;C25C3/34;B24B27/033 |
| 代理公司: | 長(zhǎng)沙鑫澤信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 43247 | 代理人: | 李翠梅 |
| 地址: | 412000 湖南省株洲*** | 國(guó)省代碼: | 湖南;43 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 回收率 ito 粉末 還原 方法 設(shè)備 | ||
本發(fā)明涉及一種回收率高的ITO廢靶粉末還原方法及設(shè)備,屬于稀有合金分離回收設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,包括以下步驟:S1、在還原爐中將廢靶粉料進(jìn)行還原,得到金屬銦和金屬錫,S2、將金屬銦和金屬錫鑄型成銦錫合金,S3、通過(guò)還原設(shè)備將銦錫合金表層的氧化層去除,S4、通過(guò)還原設(shè)備對(duì)銦錫合金進(jìn)行電解,S5、通過(guò)還原設(shè)備將分離后的錫與銦進(jìn)行收集,本發(fā)明通過(guò)啟動(dòng)驅(qū)動(dòng)電機(jī)驅(qū)動(dòng)螺桿,將第一移動(dòng)盒與第二移動(dòng)盒內(nèi)電解后的錫與銦排放至收集箱中,在螺桿轉(zhuǎn)動(dòng)的同時(shí)使筒形鋼刷對(duì)銦錫合金的表層進(jìn)行打磨,完成對(duì)錫、銦的收集以及對(duì)銦錫合金的打磨,提高后期電解與收集效率,另外在第一移動(dòng)盒與第二移動(dòng)盒上升與下降的同時(shí)將收集箱內(nèi)的液體過(guò)濾。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于稀有合金分離回收設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種回收率高的ITO廢靶粉末還原方法及設(shè)備。
背景技術(shù)
ITO靶材是一種銦錫復(fù)合氧化物陶瓷材料,廣泛應(yīng)用于平板顯示器件、太陽(yáng)能電池、飛機(jī)及高檔汽車的防霧防霜玻璃等領(lǐng)域,是一種非常重要的光電材料。ITO靶材的原料是氧化錫和氧化銦,氧化銦由銦金屬制備得到。銦金屬是一種貴重金屬,價(jià)格高,自然界的含量十分稀缺,全球預(yù)估真正可以得到的銦僅1.5萬(wàn)噸。而ITO靶材在濺射時(shí)使用率較低,一般僅為30%~40%,因此回收提純ITO廢靶材中的金屬銦十分必要。
目前可以使用H2和CO熱還原ITO廢靶材生成銦錫合金,而從銦錫合金中回收提純銦金屬主要是電解法。電解法需要將銦錫合金制成陽(yáng)極靶,再通過(guò)電解池和電解液使得陽(yáng)極中的銦沉積到陰極上分離出銦,錫形成陽(yáng)極泥落在電解池中。
但是再將銦錫合金投放至電解池中進(jìn)行電解時(shí),由于此前銦錫合金大量且長(zhǎng)時(shí)間存儲(chǔ)導(dǎo)致銦錫合金表層出現(xiàn)氧化,銦錫合金表層出現(xiàn)氧化層,當(dāng)銦錫合金放置在電接池中,氧化層影響電解效率,且在銦錫合金電解時(shí),由于銦沉積到陰極上,錫形成陽(yáng)極泥,因此后期回收銦、錫較為麻煩,影響后期銦錫合金的回收效率。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明為了解決現(xiàn)有技術(shù)中氧化層影響電解效率,后期回收銦、錫較為麻煩,銦錫合金的回收效率低的問(wèn)題,提供一種回收率高的ITO廢靶粉末還原設(shè)備。
為達(dá)到上述目的,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:
一種回收率高的ITO廢靶粉末還原方法,包括以下步驟:
S1、在還原爐中將廢靶粉料進(jìn)行還原,得到金屬銦和金屬錫;
S2、將金屬銦和金屬錫鑄型成銦錫合金;
S3、通過(guò)還原設(shè)備將銦錫合金表層的氧化層去除;
S4、通過(guò)還原設(shè)備對(duì)銦錫合金進(jìn)行電解;
S5、通過(guò)還原設(shè)備將分離后的錫與銦進(jìn)行收集。
如上所述的一種回收率高的ITO廢靶粉末還原設(shè)備,該還原設(shè)備包括電解池,所述電解池的底部固定貫穿有陽(yáng)極觸頭與陰極觸頭,所述電解池的一側(cè)固定連接有打磨臺(tái),所述打磨臺(tái)的頂部放置有銦錫合金,所述電解池的底部?jī)?nèi)壁轉(zhuǎn)動(dòng)連接有螺桿,所述電解池相互遠(yuǎn)離的一側(cè)內(nèi)壁分別滑動(dòng)連接有第一移動(dòng)盒與第二移動(dòng)盒,所述螺桿的頂端固定連接有套桿,所述電解池的頂部?jī)蓚?cè)均設(shè)有斜槽,所述電解池的兩側(cè)均滑動(dòng)連接有收集箱,當(dāng)?shù)谝灰苿?dòng)盒和第二移動(dòng)盒移動(dòng)至與電解池齊平時(shí),推板能夠?qū)⒌谝灰苿?dòng)盒與第二移動(dòng)盒內(nèi)的錫與銦通過(guò)斜槽排入收集箱中完成對(duì)錫與銦收集;
所述打磨臺(tái)的頂部設(shè)有用于對(duì)銦錫合金表層打磨的打磨組件;
所述電解池內(nèi)設(shè)有用于使第一移動(dòng)盒與第二移動(dòng)盒向上移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)組件;
所述套桿的外壁設(shè)有用于將打磨組件與驅(qū)動(dòng)組件聯(lián)動(dòng)的聯(lián)動(dòng)組件。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于株洲火炬安泰新材料有限公司,未經(jīng)株洲火炬安泰新材料有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202210406170.4/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。





