[發明專利]一種極片檢測方法、裝置、系統、電子設備及存儲介質在審
| 申請號: | 202210405411.3 | 申請日: | 2022-04-18 |
| 公開(公告)號: | CN114998191A | 公開(公告)日: | 2022-09-02 |
| 發明(設計)人: | 不公告發明人 | 申請(專利權)人: | 無錫先導智能裝備股份有限公司 |
| 主分類號: | G06T7/00 | 分類號: | G06T7/00 |
| 代理公司: | 蘇州衡創知識產權代理事務所(普通合伙) 32329 | 代理人: | 王睿 |
| 地址: | 214028 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 檢測 方法 裝置 系統 電子設備 存儲 介質 | ||
本申請涉及一種極片檢測方法、裝置、系統、電子設備及存儲介質,所述方法包括:獲取位于極片插入位的極片的第一表面的第一拍攝圖像、以及第二表面的第二拍攝圖像;根據所述第一拍攝圖像和所述第二拍攝圖像,確定所述極片的第一表面和第二表面之間的涂層錯位量;獲取位于極片入卷位的所述極片的第一表面的第三拍攝圖像;根據所述第三拍攝圖像,確定所述極片的第一表面的第一隔膜包覆值;根據所述涂層錯位量和所述第一隔膜包覆值,確定所述極片的第二表面的第二隔膜包覆值。通過本申請,可以檢測由于前工序極片正反面涂層錯位導致的包覆不良,進而減少包覆不良產品,提高卷芯品質。
技術領域
本申請涉及計算機技術領域,尤其涉及極片檢測方法、裝置、系統、電子設備及存儲介質。
背景技術
如圖1和圖2所示,極片通常有位于中間的基材,然后兩側具有涂層。理想情況下,兩側的涂層應該一樣高,即極耳正反兩面露出的距離應當一樣,而現實中因為加工精度等原因,通常很難做到完全一樣。在現有的卷繞視覺檢測中,需要檢測隔膜與極片包覆的效果,由于卷芯結構,通常只能檢測到一側,那么就可能出現一面包覆良好,但另一面包覆不良的電芯并沒有被及時檢出,這將會帶來很大的安全隱患。
發明內容
本申請提供一種極片檢測方法、裝置、系統、電子設備及存儲介質,以解決現有技術中只能檢測到極片一側包覆效果的問題。本申請的技術方案如下:
根據本申請實施例的第一方面,提供一種極片檢測方法,所述方法包括:獲取位于極片插入位的極片的第一表面的第一拍攝圖像、以及第二表面的第二拍攝圖像;根據所述第一拍攝圖像和所述第二拍攝圖像,確定所述極片的第一表面和第二表面之間的涂層錯位量;獲取位于極片入卷位的所述極片的第一表面的第三拍攝圖像;根據所述第三拍攝圖像,確定所述極片的第一表面的第一隔膜包覆值;根據所述涂層錯位量和所述第一隔膜包覆值,確定所述極片的第二表面的第二隔膜包覆值。
進一步地,所述根據所述第一拍攝圖像和所述第二拍攝圖像,確定所述極片的第一表面和第二表面之間的涂層錯位量包括:根據所述第一拍攝圖像,確定所述極片的第一表面的涂層邊緣相對所述極片的同一側邊緣的第一距離;根據所述第二拍攝圖像,確定所述極片的第二表面的涂層邊緣相對所述極片的同一側邊緣的第二距離;根據所述第一距離和所述第二距離,確定所述極片的第一表面和第二表面之間的涂層錯位量。
進一步地,所述獲取位于極片入卷位的所述極片的第一表面的第三拍攝圖像包括:獲取所述極片插入位和所述極片入卷位之間的距離;在所述極片從所述極片插入位向所述極片入卷位的方向運行所述距離時,確定所述極片位于所述極片入卷位;對位于所述極片入卷位的所述極片的第一表面進行拍攝,得到所述第三拍攝圖像。
進一步地,所述獲取位于極片入卷位的所述極片的第一表面的第三拍攝圖像包括:預先設定所述極片從所述極片插入位運行至所述極片入卷位所需的時間;在所述極片從所述極片插入位向所述極片入卷位的方向運行所述時間時,確定所述極片位于所述極片入卷位;對位于所述極片入卷位的所述極片的第一表面進行拍攝,得到所述第三拍攝圖像。
進一步地,在所述根據所述涂層錯位量和所述第一隔膜包覆值,確定所述極片的第二表面的第二隔膜包覆值的步驟之后,所述方法還包括:根據所述第一隔膜包覆值和所述第二隔膜包覆值,確定下一時刻的糾偏參數,以根據所述糾偏參數對下一時刻的極片的放卷進行糾偏。
根據本申請實施例的第二方面,提供一種極片檢測裝置,所述裝置包括:插入位圖像獲取模塊,用于獲取位于極片插入位的極片的第一表面的第一拍攝圖像、以及第二表面的第二拍攝圖像;涂層錯位量確定模塊,用于根據所述第一拍攝圖像和所述第二拍攝圖像,確定所述極片的第一表面和第二表面之間的涂層錯位量;入卷位圖像獲取模塊,用于獲取位于極片入卷位的所述極片的第一表面的第三拍攝圖像;第一隔膜包覆值確定模塊,用于根據所述第三拍攝圖像,確定所述極片的第一表面的第一隔膜包覆值;第二隔膜包覆值確定模塊,用于根據所述涂層錯位量和所述第一隔膜包覆值,確定所述極片的第二表面的第二隔膜包覆值。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于無錫先導智能裝備股份有限公司,未經無錫先導智能裝備股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202210405411.3/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種基于點對區間的正畸弓絲評價方法
- 下一篇:多晶硅樣芯清洗分析方法以及系統





