[發(fā)明專利]一種基于薄膜鈮酸鋰波導(dǎo)的不等臂馬赫-曾德爾干涉儀在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210404862.5 | 申請日: | 2022-04-18 |
| 公開(公告)號: | CN114675462A | 公開(公告)日: | 2022-06-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊登才;張旭濤;寶劍鋒;楊鋒 | 申請(專利權(quán))人: | 北京工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號: | G02F1/21 | 分類號: | G02F1/21;G02F1/225;G02B6/125 |
| 代理公司: | 北京思海天達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11203 | 代理人: | 張慧 |
| 地址: | 100124 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 薄膜 鈮酸鋰 波導(dǎo) 不等 馬赫 曾德爾 干涉儀 | ||
1.一種基于薄膜鈮酸鋰波導(dǎo)的不等臂馬赫-曾德爾干涉儀,其特征在于:將量子密鑰分發(fā)系統(tǒng)里的不等臂馬赫-曾德爾調(diào)制器中的光束分束器、相位調(diào)制器、光束合束器、光纖延時環(huán)集成至同一芯片上,使其具有精確延時和相位調(diào)制的功能。
2.根據(jù)權(quán)利要求1中所述的一種基于薄膜鈮酸鋰波導(dǎo)的不等臂馬赫-曾德爾干涉儀,其特征在于:干涉儀由集成在片上的薄膜鈮酸鋰波導(dǎo)制成,按功能結(jié)構(gòu)將干涉儀劃分為:Y分支分束器(10)、Y分支合束器(11),下參考臂波導(dǎo)(12)、上左延時波導(dǎo)(13),上右延時波導(dǎo)(14)、相位調(diào)制區(qū)(19)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2中所述的一種基于薄膜鈮酸鋰波導(dǎo)的不等臂馬赫-曾德爾干涉儀,其特征在于:上左延時波導(dǎo)(13)和上右延時波導(dǎo)(14)結(jié)構(gòu)相同,且空間位置對稱,具體包括多根彎曲半徑較小的波導(dǎo)(15)、一個彎曲半徑較大的波導(dǎo)(16)、多根上臂短直波導(dǎo)(17),多根上臂短直波導(dǎo)(17)相互平行設(shè)置,相鄰兩根上臂短直波導(dǎo)由一根彎曲半徑較小的波導(dǎo)(15)連接,彎曲半徑較大的波導(dǎo)(16)用于連接上臂短直波導(dǎo)(17)和相位調(diào)制區(qū)(19)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3中所述的一種基于薄膜鈮酸鋰波導(dǎo)的不等臂馬赫-曾德爾干涉儀,其特征在于:上左延時波導(dǎo)(13)一端與Y分支分束器(10)的上臂連接,上左延時波導(dǎo)(13)通過相位調(diào)制區(qū)(19)與上右延時波導(dǎo)(14)一端相連,上右延時波導(dǎo)(14)的另一端與Y分支合束器(11)的上臂連接,Y分支分束器(10)的下臂通過下參考臂波導(dǎo)(12)連接Y分支合束器(11)下臂;相位調(diào)制區(qū)(19)和下參考臂波導(dǎo)(12)所走的光程相同,相互抵消,上左延時波導(dǎo)(13)和上右延時波導(dǎo)(14)相累加就是所需要的延時。
5.根據(jù)權(quán)利要求4中所述的一種基于薄膜鈮酸鋰波導(dǎo)的不等臂馬赫-曾德爾干涉儀,其特征在于:還在相位調(diào)制區(qū)(19)兩側(cè)設(shè)置了電極(18),通過改變電極(18)上加載的電壓,改變了相位調(diào)制區(qū)(19)鈮酸鋰波導(dǎo)的折射率,從而影響光的傳輸特性,將要傳輸?shù)碾娦盘柤虞d至光波中,使激光發(fā)射的單色光轉(zhuǎn)換成攜帶有信息的光信號,從而實(shí)現(xiàn)相位調(diào)制。
6.根據(jù)權(quán)利要求2中所述的一種基于薄膜鈮酸鋰波導(dǎo)的不等臂馬赫-曾德爾干涉儀,其特征在于:根據(jù)干涉儀所需要的延時時間Δt,以及薄膜鈮酸鋰的折射率nLN,利用公式:
ΔX=Δt*C
其中,ΔX為真空中光傳輸?shù)拈L度,C為光速;
即可計(jì)算出在薄膜鈮酸鋰上產(chǎn)生該延時時間Δt所需要波導(dǎo)的長度;
上左延時波導(dǎo)(13)和上右延時波導(dǎo)(14)所在薄膜鈮酸鋰波導(dǎo)總長相同,即為ΔXLN的一半;
上左延時波導(dǎo)(13)所在薄膜鈮酸鋰波導(dǎo)的總長等于上臂短直波導(dǎo)(17)、彎曲半徑較小的波導(dǎo)(15)以及彎曲半徑較大的波導(dǎo)(16)的總長。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





