[發明專利]一種半自動磁頭整形裝置

有效

• 申請號: 202210400272.5
• 申請日: 2022-04-16
• 公開（公告）號: CN114653789B
• 公開（公告）日: 2023-10-17
• 發明（設計）人: 黃文建;劉志東;曾銳
• 申請（專利權）人: 全南群英達電子有限公司
• 主分類號: B21D3/10
• 分類號: B21D3/10;B21D43/00;B23P19/027
• 代理公司: 贛州元文專利代理事務所(普通合伙) 36152
• 代理人: 莫偉智

1.一種半自動磁頭整形裝置，包括機臺，其中機臺上設置有匚型架，且匚型架上設置有入殼汽缸，所述入殼汽缸的汽缸導柱上設置有沖壓芯子，其特征在于：

所述匚型架開口內正下方處的機臺上并列設置有兩組夾板，其中機臺頂部一側設置有一端延伸至兩組夾板之間的滑軌I，且機臺頂部另一側設置有矩形缺口，所述夾板一端延伸至缺口內正上方處，其中夾板下方的缺口內設置有支撐座，且支撐座底部設置有升降機構，該支撐座頂部還設置有對應滑軌I的滑軌II；

所述機臺上設置有位于兩組夾板之間的長條形固定座，其中固定座底部設置有可扣在對應滑軌I與滑軌II上的滑槽，且固定座頂部還均勻設置有容納磁頭殼體的凹槽，所述凹槽對應兩側壁上均設置有容納槽，其中容納槽內設置有整形板，且整形板背面設置有與容納槽側壁粘接的柔性彈性塊，所述固定座側壁上還設置有與容納槽連通并貫穿對應彈性塊的通孔I；

所述夾板上開設有與其中一組容納槽側壁中通孔I對應的通孔II，其中夾板外側設置有兩端延伸至對應通孔II內的匚型桿，且機臺上設置有通過汽缸導柱與匚型桿連接的整形氣缸。

2.根據權利要求1所述的一種半自動磁頭整形裝置，其特征在于：所述滑軌I與滑軌II高度均低于滑槽深度，其中滑槽上方的固定座中設置有與其連通的長條形活動開口，且活動開口寬度大于滑槽寬度，所述活動開口內設置有擠壓板，其中擠壓板頂部設置有延伸至凹槽內的頂桿，且活動開口內的頂桿上外套有緩沖彈簧，所述頂桿頂端不高于凹槽內底壁水平面，其中凹槽底部設置有用于頂桿嵌入的圓孔。

3.根據權利要求1所述的一種半自動磁頭整形裝置，其特征在于：所述缺口兩側壁下半部均設置有擴容槽，所述升降機構包括位于缺口底部的支撐板，且支撐板中間處向下凹陷有凹陷部，所述凹陷部外側的支撐板底部設置有通過汽缸導柱與支撐座連接的升降汽缸，其中機臺內還設置有通過轉軸與支撐板底部中間處連接的旋轉電機。

4.根據權利要求1所述的一種半自動磁頭整形裝置，其特征在于：所述機臺頂部兩側均設置有步進汽缸，其中步進汽缸的汽缸導柱連接有位于對應滑軌I及滑軌II上方處的夾持板。

5.根據權利要求1所述的一種半自動磁頭整形裝置，其特征在于：所述固定座內沿其長度方向設置有位于凹槽下方的除塵通道，其中除塵通道一端貫穿固定座側壁，且除塵通道頂部與對應的凹槽底部連通，所述除塵通道兩側均設置有與對應容納槽連通的連通槽。

6.根據權利要求1所述的一種半自動磁頭整形裝置，其特征在于：所述匚型桿兩端的端面上均設置有卡槽，其中卡槽內設置有壓力傳感器。

7.根據權利要求1所述的一種半自動磁頭整形裝置，其特征在于：所述支撐座內部設置有抽真空腔，其中支撐座頂端面上設置有與抽真空腔連通的吸氣孔，且支撐座底部中間處還設置有插入抽真空腔內的抽風管，所述抽風管通過軟管與真空泵連接。

8.根據權利要求1所述的一種半自動磁頭整形裝置，其特征在于：所述彈性塊兩端面分別與對應的整形板及容納槽側壁連接，其中彈性塊內還設置有復位彈簧，且復位彈簧兩端分別與對應的整形板及容納槽側壁固定連接，所述整形板側壁上還豎向設置有弧形槽，其中整形板位于對應的容納槽內。