[發明專利]一種去甲羥嗎啡酮中雜質的去除方法在審

申請號：	202210389978.6	申請日：	2022-04-14
公開（公告）號：	CN114634514A	公開（公告）日：	2022-06-17
發明（設計）人：	金鑫;趙世本;祝可錦;徐麗梅;康鑫;張學松;謝壽菊;王世余;牛軍波;王俊林;高佚婷;張小芳;賈登國;花逢林;鄧隆隆;金蓓蓓;聶垚琰;劉永生	申請（專利權）人：	甘肅農墾藥物堿廠有限公司
主分類號：	C07D489/08	分類號：	C07D489/08
代理公司：	蘭州中科華西專利代理有限公司 62002	代理人：	曹向東
地址：	730200 甘肅***	國省代碼：	甘肅;62
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摘要：
搜索關鍵詞：	一種去甲羥嗎啡雜質去除方法
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【說明書】：

本發明涉及一種去甲羥嗎啡酮中雜質的去除方法，該方法是指在酸性條件下，去甲羥嗎啡酮中加入亞硫酸氫鈉，加熱攪拌至75~85℃并保溫反應后測定12.5min單雜含量；當該單雜含量低于0.05%后降溫至室溫，加堿調pH=9，經析晶、過濾，即得去甲羥嗎啡酮。本發明方法簡單且收率高（可達95%以上），為去甲羥嗎啡酮原料藥雜質的控制提供了有利保障。

技術領域

本發明涉及原料藥除雜技術領域，尤其涉及一種去甲羥嗎啡酮中雜質的去除方法。

背景技術

原料藥中該藥物化學實體之外的其他任何成分都可以稱之為雜質，它的存在對于研究藥品質量一直是難點與重點，也是原料藥質量控制的源頭所在。

甘肅省藥物堿廠生產的去甲羥嗎啡酮是蒂巴因及嗎啡的衍生物，也是合成納洛酮、納曲酮、納美芬等藥物的重要中間體。在去甲羥嗎啡酮產品的有關物質檢測中，存在12.5min的單雜含量＞0.1%，且單雜的具體結構并不確定。因此，為提高去甲羥嗎啡酮的質量，亟需控制單雜有關物質檢測含量＜0.1%的出廠要求。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是提供一種方法簡單、收率高的去甲羥嗎啡酮中雜質的去除方法。

為解決上述問題，本發明所述的一種去甲羥嗎啡酮中雜質的去除方法，其特征在于：該方法是指在酸性條件下，去甲羥嗎啡酮中加入其質量0.03~0.4倍的亞硫酸氫鈉，加熱攪拌至75~85℃并保溫反應后測定12.5min單雜含量；當該單雜含量低于0.05%后降溫至室溫，加堿調pH=9，經析晶、過濾，即得去甲羥嗎啡酮。

所述酸性條件是指體積濃度為2~10%的乙酸水溶液。

所述保溫反應時間為0.5~12小時。

所述堿是指氨水。

所述析晶時間為3~15小時。

本發明與現有技術相比具有以下優點：

1、本發明根據相關除雜方法，通過實驗找到去除12.5min單雜的方法，達到除去雜質的目的，滿足該單雜有關物質檢測含量＜0.1%的出廠要求。

2、本發明方法簡單且收率高（可達95%以上），為去甲羥嗎啡酮原料藥雜質的控制提供了有利保障。

附圖說明

下面結合附圖對本發明的具體實施方式作進一步詳細的說明。

圖1為氫氧化鈉去甲羥嗎啡酮外標50.18%。其中12.5min左右的雜質1所占峰面積0.06%；38.7min左右的雜質2所占峰面積33.07%。

圖2為氨水去甲羥嗎啡酮外標88.48 %。其中：12.5min左右的雜質1所占峰面積0.68%。

圖3為碳酸氫鈉去甲羥嗎啡酮外標95.19 %。其中：12.5min左右的雜質1所占峰面積0.69%。