[發(fā)明專利]一種基于邊緣迭代的電子束光刻劑量形狀校正方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210381947.6 | 申請(qǐng)日: | 2022-04-13 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN114675508A | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-06-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉杰;徐宏成;姚文澤;趙浩杰;張思媛 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 湖南大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào): | G03F7/20 | 分類(lèi)號(hào): | G03F7/20;G06F17/16 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 410082 湖南省*** | 國(guó)省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 邊緣 電子束光刻 劑量 形狀 校正 方法 | ||
1.一種基于邊緣迭代的電子束光刻劑量形狀校正方法,其特征在于包括以下步驟:
步驟S1,電子束曝光版圖網(wǎng)格劃分;
步驟S2,判斷并存儲(chǔ)曝光版圖中每個(gè)圖素邊緣各點(diǎn)的位置;
步驟S3,模擬電子束曝光版圖曝光、顯影過(guò)程,計(jì)算每個(gè)圖素邊緣對(duì)應(yīng)像素的偏移量;
步驟S4,根據(jù)每個(gè)圖素邊緣對(duì)應(yīng)像素的偏移量,校正每個(gè)圖素的邊緣曝光位置;
步驟S5,計(jì)算誤差并判斷迭代是否收斂;
步驟S6,獲取形狀校正后的版圖。
2.如權(quán)利要求1所述的一種基于邊緣迭代的電子束光刻劑量形狀校正方法,其特征在于:于步驟S1中,讀入電子束光刻原始版圖,將版圖需要曝光的部分等間隔均勻的劃分為正方形網(wǎng)格(亦可以表示為“像素”),每個(gè)網(wǎng)格即是一個(gè)曝光點(diǎn),原始版圖處賦值為1,其余空白的網(wǎng)格賦值0,轉(zhuǎn)化的原始版圖用P(x,y)(0≤xM,0≤yN,其中M,N分別是版圖的長(zhǎng)度和寬度)表示。
3.如權(quán)利要求1所述的一種基于邊緣迭代的電子束光刻劑量形狀校正方法,其特征在于:于步驟S2中,判斷并存儲(chǔ)曝光版圖中每個(gè)圖素邊緣各點(diǎn)的位置,根據(jù)S1中獲取的原始版圖矩陣P(x,y),按照邊緣分成上(T)、右(R)、下(B)和左(L)四組數(shù)據(jù)列表,按照公式(1)、(2)、(3)和(4)四個(gè)條件,分別判斷與存儲(chǔ),即:
1)版圖中每個(gè)圖素位于上邊緣的判斷條件:
式中,P(x,y)為原始版圖矩陣。T為存儲(chǔ)上邊緣所有點(diǎn)和偏移量的列表,δ為上邊緣的某點(diǎn)的偏移量(即上邊緣該點(diǎn)向上移動(dòng),或者向下移動(dòng)的量)。遍歷原始版圖矩陣P(x,y)中x、y坐標(biāo),將滿足公式(1)的坐標(biāo)按x、y和δ三個(gè)變量為一組,按順序依次存入上邊緣列表T,且初始化δ=0。
2)版圖中每個(gè)圖素位于右邊緣的判斷條件:
式中,P(x,y)為原始版圖矩陣。R為存儲(chǔ)右邊緣所有點(diǎn)和偏移量的列表,δ為右邊緣的某點(diǎn)的偏移量(即右邊緣該點(diǎn)向左移動(dòng),或者向右移動(dòng)的量)。遍歷原始版圖矩陣P(x,y)中x、y坐標(biāo),將滿足公式(2)的坐標(biāo)按x、y和δ三個(gè)變量為一組,按順序依次存入右邊緣列表R,且初始化δ=0。
3)版圖中每個(gè)圖素位于下邊緣的判斷條件:
式中,P(x,y)為原始版圖矩陣。B為存儲(chǔ)下邊緣所有點(diǎn)和偏移量的列表,δ為下邊緣的某點(diǎn)的偏移量(即下邊緣該點(diǎn)向上移動(dòng),或者向下移動(dòng)的量)。遍歷原始版圖矩陣P(x,y)中x、y坐標(biāo),將滿足公式(3)的坐標(biāo)按x、y和δ三個(gè)變量為一組,按順序依次存入下邊緣列表B,且初始化δ=0。
4)版圖中每個(gè)圖素位于左邊緣的判斷條件:
式中,P(x,y)為原始版圖矩陣。L為存儲(chǔ)左邊緣所有點(diǎn)和偏移量的列表,δ為左邊緣的某點(diǎn)的偏移量(即左邊緣該點(diǎn)向左移動(dòng),或者向右移動(dòng)的量)。遍歷原始版圖矩陣P(x,y)中x、y坐標(biāo),將滿足公式(4)的坐標(biāo)按x、y和δ三個(gè)變量為一組,按順序依次存入左邊緣列表L,且初始化δ=0。
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