[發(fā)明專利]一種三結(jié)太陽(yáng)能電池及其制備方法與應(yīng)用有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210377745.4 | 申請(qǐng)日: | 2022-04-12 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN114899254B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-07-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉建慶;劉雪珍;高熙隆;楊文奕 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中山德華芯片技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L31/0236 | 分類號(hào): | H01L31/0236;H01L31/0687;H01L31/18 |
| 代理公司: | 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 44205 | 代理人: | 伍傳松 |
| 地址: | 528437 廣東省中山*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 太陽(yáng)能電池 及其 制備 方法 應(yīng)用 | ||
本發(fā)明公開(kāi)了一種三結(jié)太陽(yáng)能電池及其制備方法與應(yīng)用,該三結(jié)太陽(yáng)能電池依次包括以下各層:依次包括以下各層:圖形化砷化鎵襯底;應(yīng)力緩沖層;和子電池組。本發(fā)明還公開(kāi)該太陽(yáng)能電池制備方法,其包括以下步驟:S1、在砷化鎵襯底上刻蝕出臺(tái)狀圖形,得所述圖形化砷化鎵襯底;S2、在圖形化砷化鎵襯底上生長(zhǎng)所述應(yīng)力緩沖層;S3、在所述應(yīng)力緩沖層表面生長(zhǎng)所述子電池組。本發(fā)明提供的太陽(yáng)能電池提升了電池轉(zhuǎn)換效率。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種三結(jié)太陽(yáng)能電池及其制備方法與應(yīng)用。
背景技術(shù)
隨著商業(yè)航天產(chǎn)業(yè)的興起,對(duì)空間太陽(yáng)能電池的成本要求越來(lái)越嚴(yán)格,低成本的空間電池芯片是降低衛(wèi)星造價(jià)的重要影響因素。另外一方面,必須有一種空間電池,一方面具備批產(chǎn)可行性,工藝相對(duì)簡(jiǎn)單;一方面材料成本低;另外一方面,具備和現(xiàn)有常規(guī)三結(jié)電池相近的光電性能以減少后端電源系統(tǒng)設(shè)計(jì)的復(fù)雜度。
高效空間電池目前具備量產(chǎn)潛力的是失配結(jié)構(gòu)空間電池,但該種空間電池技術(shù)的一個(gè)劣勢(shì)是位錯(cuò)難以控制,產(chǎn)品性能穩(wěn)定性難以保障。相關(guān)技術(shù)中基于鍺襯底的Ge/InGaAs/AlGaInAs/AlGaInP結(jié)構(gòu)失配四結(jié)太陽(yáng)電池光電轉(zhuǎn)換效率高,可達(dá)34%(AM0光譜下),同時(shí)該結(jié)構(gòu)空間電池不需要鍵合、二次外延等復(fù)雜的工藝流程,是一種具備批量生產(chǎn)潛力的新型高效太陽(yáng)電池產(chǎn)品。但是該結(jié)構(gòu)太陽(yáng)電池需要外延InGaAs、AlGaInAs、AlGaInP等失配材料,由于材料失配度大,外延過(guò)程中失配應(yīng)力大,在外延過(guò)程中會(huì)發(fā)生外延片翹曲現(xiàn)象,由于翹曲后引發(fā)了溫度控制問(wèn)題,整片外延片出現(xiàn)溫度不均勻問(wèn)題的概率較大,導(dǎo)致外延材料質(zhì)量不穩(wěn)定,產(chǎn)品性能不穩(wěn)定,是實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)難以解決的問(wèn)題;另外一方面,基于砷化鎵襯底生長(zhǎng)的空間電池產(chǎn)品,由于沒(méi)有鍺子電池結(jié),性能低于鍺基結(jié)構(gòu)。
基于此,需要開(kāi)發(fā)一種三結(jié)太陽(yáng)能電池及其制作方法,該三結(jié)太陽(yáng)能電池成本低且效率高。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的第一個(gè)技術(shù)問(wèn)題為:提供一種三結(jié)太陽(yáng)能電池,該電池成本低且效率高。
本發(fā)明要解決的第二個(gè)技術(shù)問(wèn)題為:提供上述三結(jié)太陽(yáng)能電池的制備方法。
本發(fā)明要解決的第三個(gè)技術(shù)問(wèn)題為:提供上述三結(jié)太陽(yáng)能電池的應(yīng)用。
為解決上述第一個(gè)技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明的提供的技術(shù)方案為:一種三結(jié)太陽(yáng)能電池,依次包括以下各層:
砷化鎵襯底;
應(yīng)力緩沖層;
和子電池組。
提供了不同結(jié)構(gòu)的太陽(yáng)能電池,同時(shí)提升了電池轉(zhuǎn)換效率。
根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施方式,所述圖形化砷化鎵襯底由若干個(gè)臺(tái)狀圖形組成。
根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施方式,所述臺(tái)狀圖形的間距為100.0nm~1000.0nm。
根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施方式,所述臺(tái)狀圖形的底部寬度為200.0nm~300.0nm。
根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施方式,所述臺(tái)狀圖形的底部長(zhǎng)度為200.0nm~300.0nm。
根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施方式,所述臺(tái)狀圖形的頂部寬度為200.0nm~300.0nm。
根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施方式,所述臺(tái)狀圖形的頂部長(zhǎng)度為200.0nm~300.0nm。
根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施方式,所述臺(tái)狀圖形的高度為50.0nm~100.0nm。
根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施方式,所述圖形化砷化鎵襯底的厚度為300.0μm~400.0μm。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過(guò)該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
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