[發(fā)明專利]一種低殘留的CF顯影液及其制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210368174.8 | 申請(qǐng)日: | 2022-04-09 |
| 公開(公告)號(hào): | CN114721237A | 公開(公告)日: | 2022-07-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉小勇;田博;侯琳熙;房龍翔;葉鑫煌;肖小江;劉文生 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 福建省佑達(dá)環(huán)保材料有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F7/32 | 分類號(hào): | G03F7/32 |
| 代理公司: | 福州元?jiǎng)?chuàng)專利商標(biāo)代理有限公司 35100 | 代理人: | 俞舟舟;蔡學(xué)俊 |
| 地址: | 362800 *** | 國省代碼: | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 殘留 cf 顯影液 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種低殘留的CF顯影液及其制備方法,是一種用于新型顯示制造領(lǐng)域的高世代線CF制程用顯影液,屬于濕電子化學(xué)品領(lǐng)域,主要應(yīng)用于8.5代線及以上大尺寸的TFT面板制造中。該顯影液通過特定陰離子表面活性劑與有機(jī)溶劑和螯合劑協(xié)同作用,能有效提高顯影精度,降低光刻膠膜渣的堵塞,易清洗不殘留,特別適合水洗段設(shè)計(jì)較短的高世代線。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于新型顯示制造領(lǐng)域,具體涉及一種低殘留的CF顯影液及其制備方法。
背景技術(shù)
在彩色濾光片(Color Filter,CF)制作工藝中,為獲得所需的精細(xì)pattern圖形,需要使用光刻膠這樣的感光材料,光刻膠由顏料分散液、溶劑、感光性樹脂及相關(guān)添加劑組,其中含有聚合物的短鏈分子會(huì)因光照而交聯(lián)成為長(zhǎng)鏈分子。具體工藝,首先會(huì)以涂布的方式在玻璃基板或基材上形成一定厚度的薄膜,再經(jīng)掩膜版曝光后,使用顯影液進(jìn)行顯影,除去未曝光的可溶性樹脂部分,以此獲得所需要的圖像。CF制程又可細(xì)分為黑色矩陣層(BM)、彩色光阻層(R、G、B)、間隙柱體層(PS)和保護(hù)層(OC)等多道工藝。每一道工藝都有經(jīng)過完整光刻制程:清洗、涂膠、軟烘、曝光、顯影、硬烘后經(jīng)過檢測(cè)得到精準(zhǔn)的圖形才能進(jìn)行到下一步。
目前在CF制程的生產(chǎn)工廠線上基本都是使用的噴淋式顯影設(shè)備,通過控制設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)速度達(dá)到控制顯影的時(shí)間長(zhǎng)短,在顯影段完成后經(jīng)過再過水洗制程,將殘余顯影液徹底沖洗,保證產(chǎn)品顯影品質(zhì)。顯影液在水洗階段因?yàn)橹貜?fù)使用半循環(huán)水,引起顯影液殘存量逐漸升高,導(dǎo)致出現(xiàn)異常;另外顯影液與光刻膠反應(yīng)后的大分子光阻顆粒具有疏水性,如果顯影液溶解性不佳,會(huì)導(dǎo)致光阻顆粒團(tuán)聚,引起異常,嚴(yán)重時(shí)還會(huì)堵塞濾芯。顯影制程的生產(chǎn)線都是初期設(shè)計(jì)好的,不可能為增加水洗而進(jìn)行設(shè)備修改,如果延長(zhǎng)水洗時(shí)間,又會(huì)降低產(chǎn)能,所以對(duì)一些水洗工序偏短的生產(chǎn)線,發(fā)明一種低殘留的CF顯影液至關(guān)重要。
發(fā)明內(nèi)容
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供一種低殘留的CF顯影液及其制備方法,該顯影液通過添加特殊的表面活性劑,有效提高了大顆粒光阻分子的水溶性,再輔以特定的螯合劑,防止光阻分子的二次聚集;同時(shí)通過添加合適的有機(jī)溶劑,增強(qiáng)顯影液的易漂洗性,在維持顯影液的顯影能力基礎(chǔ)上,提高顯影液的穩(wěn)定性對(duì)環(huán)境友好,滿足水洗制程薄弱的大尺寸TFT的生產(chǎn)線制程要求。
本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的方案為:
一種低殘留的CF顯影液,以質(zhì)量百分含量計(jì),其組成如下:
無機(jī)堿 4.5%-10%;
表面活性劑 5%-10%
有機(jī)溶劑 10%-20%;
螯合劑 1%-5%;
去離子水 余量;
總質(zhì)量分?jǐn)?shù)之和為100%。
上述低殘留的CF顯影液中,所述無機(jī)堿是選自氫氧化鉀、氫氧化鈉、碳酸鉀、碳酸鈉中的一種,其中優(yōu)選氫氧化鉀。CF制程所用的負(fù)性光刻膠帶有酸性基團(tuán),呈弱酸性(H+),單從化學(xué)反應(yīng)層來理解便是未曝光區(qū)域光刻膠(H+)與顯影液中的無機(jī)堿(OH-)發(fā)生反應(yīng),產(chǎn)生溶解和顯影的效果。當(dāng)無機(jī)堿質(zhì)量百分比低于4.5%時(shí),體系中OH-濃度過低,光刻膠顯影不完全,導(dǎo)致大量不良;當(dāng)含量高于10%時(shí),太強(qiáng)的堿度會(huì)降低表面活性劑的濁點(diǎn),導(dǎo)致顯影液組合物分層或表面活性劑析出,給生產(chǎn)、儲(chǔ)存、運(yùn)輸及使用都帶來不穩(wěn)定因素。
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