[發明專利]切削用m(AlTiNbN/AlTiON)+AlTiCON多層復合涂層及制備方法有效
| 申請號: | 202210360900.1 | 申請日: | 2022-04-07 |
| 公開(公告)號: | CN114686822B | 公開(公告)日: | 2023-10-20 |
| 發明(設計)人: | 張華棟;林孝良;高江雄;俞洋 | 申請(專利權)人: | 株洲華銳精密工具股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/32 | 分類號: | C23C14/32;C23C14/06;C23C28/00;C23C28/04 |
| 代理公司: | 長沙軒榮專利代理有限公司 43235 | 代理人: | 汪金連 |
| 地址: | 412000 湖*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 切削 altinbn altion alticon 多層 復合 涂層 制備 方法 | ||
1.一種切削用m(AlTiNbN/AlTiON)+AlTiCON多層復合涂層,所述多層復合涂層沉積在刀具基體上,其特征在于,所述刀具基體為粉末冶金法制備而成的硬質合金或金屬陶瓷,所述復合涂層包括底層的m(Al1-a-bTiaNbbN/Al1-c-dTicOdN)涂層和位于m(Al1-a-bTiaNbbN/Al1-c-dTicOdN)涂層上的Al1-x-yTixCyOz~0N1-z~1涂層;其中,所述m(Al1-a-bTiaNbbN/Al1-c-dTicOdN)涂層由Al1-a-bTiaNbbN涂層與Al1-c-dTicOdN涂層多周期交替沉積而成,m為周期數;所述Al1-x-yTixCyOz~0N1-z~1為O/N化學計量比梯度降低的梯度層。
2.根據權利要求1所述的切削用m(AlTiNbN/AlTiON)+AlTiCON多層復合涂層,其特征在于,所述Al1-a-bTiaNbbN涂層中的Ti原子百分比為0.2≤a≤0.6,Nb原子百分比為0.01≤b≤0.2,Al原子百分比為0.3≤1-a-b≤0.6。
3.根據權利要求1所述的切削用m(AlTiNbN/AlTiON)+AlTiCON多層復合涂層,其特征在于,所述Al1-c-dTicOdN涂層中的Ti原子百分比為0.3≤c≤0.6,O原子百分比為0.01≤d≤0.1,Al原子百分比為0.3≤1-c-d≤0.6。
4.根據權利要求所述1的切削用m(AlTiNbN/AlTiON)+AlTiCON多層復合涂層,其特征在于,所述Al1-x-yTixCyOz~0N1-z~1涂層中的Ti原子百分比為0.3≤x≤0.6,C原子百分比為0.01≤y≤0.1,Al原子百分比為0.3≤1-x-y≤0.6,O原子化學計量比變化范圍z~0為0.1~1,對應地N原子化學計量比1-z~1為1~0.9。
5.根據權利要求1所述的切削用m(AlTiNbN/AlTiON)+AlTiCON多層復合涂層,其特征在于,所述m(Al1-a-bTiaNbbN/Al1-c-dTicOdN)涂層中的周期數為1≤m≤1000,所述Al1-a-bTiaNbbN涂層、Al1-c-dTicOdN涂層的單層厚度不低于0.001μm,m(Al1-a-bTiaNbbN/Al1-c-dTicOdN)涂層的厚度為0.5~3μm。
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