[發(fā)明專利]一種抗CMAS涂層及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210356856.7 | 申請日: | 2022-04-01 |
| 公開(公告)號: | CN114686840A | 公開(公告)日: | 2022-07-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李樹索;曲衛(wèi)衛(wèi);裴延玲;宮聲凱 | 申請(專利權(quán))人: | 北航(四川)西部國際創(chuàng)新港科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/58 | 分類號: | C23C14/58;C23C14/08;C23C24/10;C23C28/04;F01D5/28 |
| 代理公司: | 北京高沃律師事務(wù)所 11569 | 代理人: | 李博 |
| 地址: | 610213 四川省成都市天*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 cmas 涂層 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明提供了一種抗CMAS涂層及其制備方法,屬于熱障涂層腐蝕與防護(hù)技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明以YSZ涂層作為基底層材料能夠有阻止CMAS滲透;本發(fā)明對YSZ涂層進(jìn)行表面激光重熔,能夠降低YSZ涂層表面的粗糙度,以增加Al2O3在YSZ涂層表面的附著力;本發(fā)明在基底層表面涂覆Al2O3,通過熱處理將Al2O3轉(zhuǎn)化為α?Al2O3形成陶瓷層,其能夠在高溫下與CMAS反應(yīng)生成高熔點(diǎn)鈣長石相,以阻止CMAS滲透,實(shí)現(xiàn)抗CMAS的效果;本發(fā)明通過對陶瓷層進(jìn)行表面激光重熔能夠進(jìn)一步提高陶瓷層與基底層之間的結(jié)合力,防止涂層受腐蝕剝落,進(jìn)而使制備的涂層具有優(yōu)異的抗CMAS效果。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及熱障涂層腐蝕與防護(hù)技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種抗CMAS涂層及其制備方法。
背景技術(shù)
熱障涂層(Thermal Barrier Coatings,TBC)是先進(jìn)航空發(fā)動機(jī)熱端部件的關(guān)鍵科學(xué)技術(shù)之一。隨著發(fā)動機(jī)服役溫度不斷提高,一種環(huán)境沉積物CMAS對葉片的危害受到廣泛關(guān)注。CMAS的主要成分為CaO、MgO、Al2O3和SiO2,還含有少量的Fe、Na、K的氧化物,隨地區(qū)變化其成分會發(fā)生部分改變。這些氧化物在高溫下會反應(yīng)生成低熔點(diǎn)的共晶物(熔點(diǎn)在1230℃左右)。當(dāng)超過CMAS熔點(diǎn)之后,熔融的CMAS會形成玻璃態(tài)物質(zhì),對高溫服役的葉片帶來巨大的損傷,導(dǎo)致其壽命驟減。尤其是對EB-PVD制備的YSZ涂層而言,其柱狀晶形貌為CMAS滲透提供了通道,加速了涂層的失效。
目前,CMAS的防護(hù)方法常用是制備抗CMAS防護(hù)涂層,主要方法有:(1)表面封孔技術(shù);(2)在表面制備不可滲透涂層或犧牲性涂層來阻擋CMAS的滲入;(3)新型陶瓷層材料,如:稀土鋯酸鹽陶瓷層。上述三個方面在國內(nèi)外都有大量的專利申請,其本質(zhì)都是在陶瓷層表面形成一層致密的保護(hù)層,使熔融的CMAS無法滲透通過來抵抗CMAS的腐蝕。但不論如何設(shè)計(jì),該致密層的熱膨脹系數(shù)必然和底層的陶瓷層不一致,尤其是對EB-PVD制備的YSZ涂層而言,其柱狀晶形貌為CMAS滲透提供通道,在高溫?zé)嵫h(huán)條件下,致密層更容易產(chǎn)生裂紋和失效。因此,上述的CMAS防護(hù)技術(shù)并沒有在實(shí)際生產(chǎn)中得到大規(guī)模應(yīng)用。因此,亟需提供一種新的抗CMAS涂層及其方法,以實(shí)現(xiàn)抗CMAS的效果。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種具有優(yōu)異的抗CMAS效果的抗CMAS涂層及其制備方法。
為了實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的,本發(fā)明提供以下技術(shù)方案:
本發(fā)明提供了一種抗CMAS涂層的制備方法,包括以下步驟:
(1)對YSZ涂層進(jìn)行表面激光重熔,得到基底層;
(2)在所述步驟(1)得到的基底層表面涂覆Al2O3后進(jìn)行熱處理,得到陶瓷層;
(3)對所述步驟(2)得到的陶瓷層進(jìn)行表面激光重熔,得到抗CMAS涂層。
優(yōu)選地,所述步驟(1)中的YSZ涂層包括7~8wt.%Y2O3穩(wěn)定的ZrO2。
優(yōu)選地,所述步驟(1)和步驟(3)中的表面激光重熔的激光功率獨(dú)立地為8~22W。
優(yōu)選地,所述步驟(1)和步驟(3)中的表面激光重熔的掃描速度獨(dú)立地為15~400mm/min。
優(yōu)選地,所述步驟(2)中的涂覆包括浸漬提拉法、噴槍噴涂或旋涂。
優(yōu)選地,所述步驟(2)中的Al2O3的涂覆量為0.005~0.01g/cm2。
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